Medžiagų mokslo institutas

Instituto pradžia – Fizikinės elektronikos institutas, įsteigtas 1994 m. 2010 m. Lietuvos Respublikos Vyriausybės nutarimu institutą visiškai integravus į KTU, institutas gavo dabartinį – medžiagų mokslo – pavadinimą.

K. Baršausko g. 59
Kaunas LT-51423, Lietuva
tel. 8 (37) 313 432
tel./faks. 8 (37) 314 423
e. p. mmi@ktu.lt

medziagos.ktu.edu

 
 
 
 

  • Šioje kategorijoje įvykių nėra
  • Šioje kategorijoje įvykių nėra
  • Šioje kategorijoje įvykių nėra
  • Šioje kategorijoje įvykių nėra

Veiklos kryptys

nanotechnologijos:

  • paviršinių plonasluoksnių sandarų sintezė ir tyrimas,
  • puslaidininkių paviršiaus ir sandūrų savybių keitimas ir tyrimai,
  • joninių ir plazminių metodų taikymas nanostruktūrų ir nanomedžiagų tyrimui;

optinė dokumentų apsauga:

  • mikrooptiniai elementai, interferenciniai filtrai,
  • naujų medžiagų ir struktūrų kūrimas.

Projektai

COST MP0804 projektas “Didelio tankio impulsinės plazmos procesai” (2009-2013 m.)

Vykdomas kartu su Airijos, Austrijos, Belgijos, Danijos, Graikijos, Islandijos, Ispanijos, Jungtinės karalystės, Lenkijos, Lietuvos, Olandijos, Portugalijos, Prancūzijos, Suomijos, Švedijos, Šveicarijos, Turkijos, Vokietijos mokslo institucijomis.

Dalyvauta partnerių susitikimuose, jų metu klausytasi paskaitų apie įvairius impulsinę plazma naudojančius plonų sluoksnių auginimo procesus, visų pirma, didelės galios impulsinį magnetroninį dulkinimą, keistasi patirtimi šioje srityje bei ieškota potencialių partnerių galimiems 7-osios bendrosios ES mokslo programos projektams.


Mokslo, inovacijų ir technologijų agentūros Aukštųjų technologijų plėtros programos projektas “Nanostruktūrinės deimanto tipo anglies dangos šiuolaikiniams optinės metrologijos komponentams (NanoDLC)” (2011-2013 m.)

Vykdomas kartu su UAB „Precizika Metrology“.

Projekto tikslas - panaudojus apsaugines deimanto tipo anglies dangas, prailginti šiuolaikinių optinės metrologijos komponentų naudojimo laiką. Vykdant projektą ir gaminant modernius šablonus bei stiklo skales bus patobulintos ir panaudotos naujos nanostruktūrinių deimanto tipo anglies dangų radijo dažnio plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės ir tiesioginio jonpluoščio nusodinimo technologijos. Bus ištirta įvairių rūšių plukdytojo stiklo ir Cr plėvelių paviršiaus paruošimo įtaka deimanto tipo anglies dangų adhezijai su padėklu, deimanto tipo anglies dangų sintezės parametrų įtaka šių dangų mechaninėms ir optinėms savybėms, deimanto tipo anglies dangų cheminės sudėties įtaka jų adhezijai su stiklo ir chromo padėklais, bus sukurtos dilimui atsparios deimanto tipo anglies dangos, tinkamos optinės metrologijos skalių bei šablonų apsaugai, bus atlikta deimanto tipo anglies dangomis apsaugotų skalių ir šablonų kritinių parametrų (piešinio tikslumo, kraštų grublėtumo, kraštų defektų, izoliuotų defektų, kampų užapvalėjimo, šviesos pralaidumo) analizė. Projektas priskirtinas esminių inovacijų kategorijai, nes šiuolaikinės deimanto tipo anglies dangos minėtame kontekste iki šiol dar nėra taikomos. Tikimasi, jog optinės metrologijos komponentų apsauga nuo senėjimo, panaudojant deimanto tipo anglies dangas, gerokai padidins pramoninio partnerio užimamą rinkos dalį.


2007 – 2013 m. Baltijos jūros regiono (BJR) programos projektas „Tarptautinis švariųjų kambarių ir mokslinių tyrimų įrenginių tinklas nanotechnologijoms, užtikrinantis Baltijos regiono mažų įmonių prieigą prie inovacijų išteklių ir paslaugų (Technet_nano)“ (2011-2014 m.)

Vykdomas kartu su 11 partnerių iš Lietuvos, Latvijos, Estijos, Lenkijos, Švedijos, Danijos ir Vokietijos.

Sukurtas BJR tinklas, vienijantis šiame regione esančias organizacijas, turinčias jau veikiančius ar planuojamus artimiausiu metu atidaryti švariuosius kambarius. Planuojama, kad šis tinklas teiks paslaugas mažoms ir vidutinėms verslo įmonėms, kurių sėkmingai veiklai užtikrinti reikalingos ypatingos technologinės sąlygos, analitinė ir technologinė aparatūra. Dauguma švariųjų kambarių yra specializuoti ir pritaikyti tam tikroms technologijoms, todėl tarptautinio tinklo sukūrimas sudaro sąlygas didinti atskiruose kambariuose esančios įrangos, teikiamų technologinių ir analitinių paslaugų mikro- ir nanotechnologijų srityje prieinamumą BJR šalių smulkiosioms ir vidutinėms įmonėms, skatina bendradarbiavimą ir didina inovatyvių idėjų sklaidą mikro- ir nanotechnologijų srityje BJR gamybos ir tyrimų įstaigose. Tikimasi, kad vykdomas projektas taip pat stiprins ir tinklo partnerių bendradarbiavimą ir inicijuos naujus bendrus projektus. Šiuo metu kuriamos projekto partnerių kompetencijų, įrangos, siūlomų technologinių ir analitinių paslaugų, sukurtų produktų duomenų bazės padidinsiančios BJR mikro- ir nanotechnologijų srityje dirbančių aukštos kompetencijos centrų matomumą ir mokslinės informacijos sklaidą.


UAB TERAVIL užsakymu vykdomas mokslinio tyrimo darbas „Meza-ėsdinimo, mikrolitografijos ir elektrodų formavimo procesų, skirtų THz spinduliuotės emiterių ir detektorių gamybai, tyrimai ir optimizavimas“. (2012-2013 m.)

Darbo tikslas - meza darinių ėsdinimo, mikrolitografijos ir elektrodų formavimo procesų, skirtų THz spinduliuotės emiterių ir detektorių gamybai, tyrimai ir optimizavimas. Tyrimų objektai: nusprogdinimo litografijos procesas; tiesioginės litografijos procesas; meza darinių formavimo procesas, antiužtvarinių (ominių) sąlyčių atkaitinimo procesas; AuGe-Ni metalizacijos sluoksniai.


LMT Nacionalinės mokslo programos „Ateities energetika" projektas “Membraninių struktūrų technologijos kietųjų elektrolitų kuro mikroelementams“ (2012-2014 m.)

Įsisavinta gilaus joninio ėsdinimo technologija, atlikti pirmieji ėsdinimo eksperimentai. Indukciniu būdu žadinamos plazmos būdu silicyje suformuotos pradinės membraninės struktūros. Paruošti dvipusio poliravimo n <100> tipo 380 µm storio silicio padėklai, abiejose plokštelės pusėse cheminio nusodinimo iš garų fazės metodu nusodinant mažų įtempių Si3N4 plėveles (plėvelių storis svyruoja nuo 490 nm plokštelės centre iki 510 nm plokštelės kraštuose). Suformavus homogeniškus nikelio folijos 25 µm storio padėklus, lazerinių technologijų pagalba paruošti porėtojo nikelio padėklai, ant kurių bus formuojami kietojo oksido kuro mikroelementų elektrodai. Homogeniški YSZ ir GDC kompozitai su itrio oksidu bei cerio oksidu (Gd0,1Ce0,9O1,95 + CeO2; Gd0,1Ce0,9O1,95 + Y2O3; Y0,1Zr0,9O2 + Y2O3; Y0,1Zr0,9O2 + CeO2) buvo sėkmingai susintetinti vandeniniu zolių-gelių metodu. Zolių-gelių metodu susintetintų 10GDC+CeO2 ir 10GDC+Y2O3 kompozitų fazinė sudėtis nepriklausė nuo sintezės temperatūros nei nuo oksido kiekio kompozite. Zolių-gelių sudeginimo metodas dėl atlikimo sudėtingumo nerekomenduotinas naudoti šiems kompozitams sintetinti. Kietafazių reakcijų metodu sintetinti skirtingose temperatūrose YSZ ir GDC kompozitai nebuvo vienfaziai junginiai. Visuose sintezės produktuose lieka nedidelis kiekis nesureagavusio gadolinio oksido. Ploniems minėtų kompozitų sluoksniams formuoti ant modifikuoto silicio padėklo pirmą kartą  panaudota zolių-gelių sintezė sukimo būdu nevandenėje terpėje. Pagal projekto planą visi minėti kompozitai (milteliai ir ploni sluoksniai) bus pilnai apibūdinti įvairiais fizikiniais metodais 2013 metais. Sukurtos naujos, efektyvios itrio ir cirkonio spektrofotometrinio nustatymo YSZ bandiniuose metodikos. Sukonstruotas plačiajuostis spektrometras membraninėms struktūroms matuoti aukštose temperatūrose (dažnių diapazone nuo 1 Hz iki 1 GHz). Sukonstruoti tiesioginio lazerinio užrašymo ir interferuojančių pluoštų abliacijos stendai, kurie bus naudojami tolesniuose tyrimuose. Nustatytos spinduliuotės energetinių parametrų ribos GDC dangų tankinimui.


Projektas „Naujų puslaidininkinių medžiagų ir nanostruktūrų kūrimas ir taikymai pažangioms technologijoms“, įgyvendinamas pagal 2007–2013 m. Žmogiškųjų išteklių plėtros veiksmų programos 3 prioriteto „Tyrėjų gebėjimų stiprinimas“ priemonę „Mokslinių tyrimų ir eksperimentinės plėtros veiklų vykdymas pagal nacionalinių kompleksinių programų tematikas“. Finasavimo ir administravimo sutartis Nr. VP1-3.1-ŠMM-08-K-01-013 (2012-2015 m.)

Vykdomas kartu su KTU Fundamentaliųjų mokslų fakulteto Fizikos katedra, Cheminės technologijos fakulteto Organinės technologijos katedra, Mikrosistemų ir nanotechnologijų mokslinis centru.
Projekto tikslas – kelti tyrėjų kvalifikaciją ir kompetencijas kuriant unikalių optinių ir elektrinių savybių medžiagas ir struktūras, tinkamas naudoti puslaidininkių technologijose bei optiniuose ir matavimo prietaisuose, tobulinant ir kuriant naujus optinius tyrimų metodus. Projektas ir jame numatytos veiklos yra orientuotos į mokslininkų ir tyrėjų, dirbančių lazerių, nanotechnologijų ir elektronikos srityse kvalifikacijos ir kompetencijų didinimą, bei aukštos kompetencijos darbuotojų esamoms ir steigiamos įmonėms rengimą. Taip stengiamasi prisidėti prie mokslui imlaus ūkio sektoriaus stiprinimo, tyrėjų amžiaus mažinimo, „protų nutekėjimo“ problemos sprendimo bei viešojo sektoriaus patrauklumo užsienio investicijoms didinimo aukštųjų technologijų srityje. Tuo pačiu siekiama užtikrinti ES paramos lėšų panaudojimo kompleksiškumą, MTEP veikloms vykdyti naudojant įrangą, įsigytą Santakos slėnio plėtrai. Projekto uždavinys - kelti Kauno technologijos universiteto atskiruose padaliniuose ir srityse dirbančių mokslininkų ir tyrėjų kvalifikaciją bei kompetencijas, apjungti turimą mokslinį potencialą projekto tiksle numatytų veiklų įgyvendinimui, ypatingą dėmesį atkreipiant jaunųjų specialistų mokslinio potencialo vystymui. Siekiama pagilinti žinias atliekant tyrimus lazerių, nanotechnologijų ir elektronikos kryptyse, o jau įgytas žinias ir per MTEP veiklas pasiektus rezultatus skleisti tarptautinių konferencijų metu, publikuoti straipsniuose, įtrauktuose į ISI web of Science duomenų bazę, įgytą patirtį skleisti Lietuvos aukštųjų technologijų įmonėse.

Partneriai

Užsienio mokslo institucijos:
Kylio universitetas (Vokietija);
Poitiers universitetas (Prancūzija);
Le Mans universitetas (Prancūzija);
Pietų Danijos universitetas (Danija);
O. Chuiko paviršiaus chemijos institutas (Ukraina);
Šveicarijos Federalinė medžiagų patikros ir tyrimo laboratorija (Šveicarija).

Lietuvos mokslo institucijos:
Vilniaus universitetas;
Fizinių ir technologijos mokslų centras;
Aleksandro Stulginskio universitetas;
VšĮ „Panevėžio mechatronikos centras“.

Lietuvos valstybės institucijos:
Lietuvos valstybės dokumentų technologinės apsaugos tarnyba;
Valstybinė metrologijos tarnyba.

Gamybiniai partneriai:
Vilniaus Ventos puslaidininkiai;
UAB Precizika Metrology”;
UAB Technologija”;
UAB „Teravil;
UAB Sebra”;
UAB Lodvila”.

Direktorius – prof. hab. dr. Sigitas Tamulevičius

tel. 8 (37) 327 601
e. p. sigitas.tamulevicius@ktu.lt

Analitinė įranga

Kvadrupolinis masės spektrometras QUADRUVAC Q-200
Tai stacionarus dujų analizatorius, kuris apjungia vakuuminę sistemą, valdymo įtaisą ir masių programatorių. QUADRUVAC Q-200 veikia masių atskyrimo aukšto dažnio kvadrupolių lauke principu: dėl susidūrimų su elektronais kuriamas jonų spindulys jonų šaltinyje yra pagreitinamas ir injektuojamas į kvadrupolių atskyrimo sistemą; pridėjus fiksuotą atskyrimo įtampą, tik tam tikrą masės ir energijos santykį turintys jonai praeina pro atskyrimo sistemą. Analizuojamų dujų slėgis gali kistinuo atmosferinio iki 10-10 Pa. Analizuojamų masių diapazonas - 1-200 atominės masės vienetų. Skiriamoji geba - 15%. Šiuo prietaisu galima atlikti kiekybinę analizę ir vakuuminės sistemos pilno ir dalinių slėgių matavimą technologinio proceso metu. Galimos taikymo sritys: dujų analizė ir technologinio proceso kokybės kontrolė pramonei bei moksliniams tyrimams.

Atominės absorbcinis spektrometras Perkin Elmer Model 403
Tai paprastas dviejų spindulių spektrometras, naudojantis liepsnos metodą. Juo galima analizuoti apie 70 elementų. Atominė absorbcija - tai paprastas analitinis metodas, ypatingai naudingas, kai reikia greit nustatyti mažus elementų kiekius. Šis kiekybinis analitinis metodas naudojamas daugelyje sričių, o ypač vandens, dirvožemių ir akmens mėginių analizei. Dėl savo paprastumo, greitumo bei tikslumo šis analizės metodas yra vienas iš dažniausiai naudojamų metalų pėdsakų nustatymui. Metodo jautrumas apie 0.05-0.1 ppm. Taikymo sritys: ekologija, medžiagų inžinerija, medicina

Rentgeno spindulių fluorescencinis spektrometras VRA-20
Bangos ilgio dispersinė rentgeno spindulių antrinės emisijos arba rentgeno spindulių fluorescencinė spektrometrija yra cheminių elementų kokybinės bei kiekybinės analizės neardantis instrumentinis metodas, pagrįstas jų antrinės emisijos rentgeno spindulių bangos ilgių ir intensyvumų matavimu. Pirminis spindulys iš rentgeno spindulių šaltinio apšviečia bandinį ir sužadina cheminių elementų antrinę emisiją, kurios bangos ilgiai naudojami kokybinei, o intensyvumai - kiekybinei analizei atlikti. Spektro linijų dispersija gaunama, panaudojant prieš detekciją difrakciją kristale. Rentgeno fluorescencinis spektrometras leidžia kontroliuoti daugelio matricų (nuo Na iki U) bandinių elementinę sudėtį kelių ppm (milijoninių dalių) tikslumu. Siūlome pilną paslaugų, įskaitant bandinio paruošimą ir duomenų formatavimą pagal kliento specifikacijas, diapazoną. Tipinės taikymo sritys: ekologija, geologija ir mineralogija, metalurgija, kalnakasyba ir chemijos pramonė, brangiųjų metalų pramonė ir kasyba, gabenimas ir transporto priemonės, energijos tiekimas, mechanizmai, žemės ūkis, maisto pramonė, muziejai, teismo medicina.

Optinės emisijos spektrometras stiloskopas SL3
Atominės emisijos spektroskopijoje (AES arba OES [optinės emisijos spektroskopija]) sužadintų atomų optinės emisijos kiekybiniai matavimai naudojami tiriamos medžiagos koncentracijos bandinyje nustatymui. Šis prietaisas naudojamas kietųjų metalų ir lydinių pusiaukiekybinei analizei.

Ultravioletinės ir regimos šviesos absorbcinis spektrometras SPECORD UV/VIS 
UV-VIS spektroskopija - tai bandinio optinio pralaidumo ultravioletiniame ir matomos šviesos diapazonuose matavimo metodas. UV ir matoma šviesa turi pakankamą energiją perkelti išoriniams elektronams į aukštesnės energijos lygmenis. UV-VIS spektroskopija paprastai naudojama molekulių ir neorganinių jonų arba jų kompleksų tirpaluose tyrimui. Plačios UV-VIS spektro ribos bandinių identifikavimui naudojamos ribotai, bet plačiai taikomos kiekybiniams matavimams. Tiriamos medžiagos kiekį tirpale galima nustatyti matuojant absorbcijos gebą tam tikram bangos ilgiui ir pritaikant Ber-Lambert’o dėsnį.

Ultravioletinės, regimosios ir artimosios infraraudonųjų spindulių srities šviesolaidinis spektrometras AvaSpec-2048
Spektrometras sukurtas AvaBench-75 simetrinės Czerny-Turner konstrukcijos pagrindu su 2048 pikselių susietųjų krūvių detektorių gardele. Jis skirtas ultravioletinės, regimosios ir artimosios infraraudonųjų spindulių srities šviesos intensyvumui matuoti. AvaSpec-2048 ypač tinka tuomet, kai yra mažas apšviestumas ar reikalinga didelė skiriamoji geba. Šiuo spektrometru galima atlikti matavimus 172-1100 nm diapazone. Skiriamoji geba – 1,4 nm.

Infraraudonųjų spindulių spektrometras SPECORD 75 IR
Infraraudonoji (IR) spektroskopija yra galingas analitinis įrankis molekulių ir mišinių charakterizavimui ir vibracinių spektrų identifikavimui. Pavyzdžiui, organinio junginio IR spektras teikia specifinę informaciją apie molekulių struktūrą ir cheminius ryšius. Naudojant atspindžio režimą (ATR), plonas plėveles galima tirti tiesiogiai paviršiuje.Mes naudojame IR, siekdami tiksliai nustatyti užterštumo organiniais teršalais lygį įvairiuose bandiniuose. Naudojama polimerų ir plastikų organinei analizei, skysčių, kietųjų medžiagų ir dujų analizei, nelaidžių medžiagų analizei ir molekulių specifiniam identifikavimui, įskaitant biomedicinos, puslaidininkių, elektronikos, lazerių ir optikos pramonės produktų bandinius.

Rentgeno spindulių fotoelektroninis spektrometras XSAM800 Kratos Analytical
Rentgeno spindulių fotoelektronų spektrometras (XPS arba ESCA) - tai universalus įrankis, skirtas bet kokios vakuuminio paviršiaus struktūros kiekybinei ir kokybinei analizei. Jo veikimas pagrįstas rentgeno spinduliais apšviesto paviršiaus emituojamų elektronų spektrų energijų analize. Tiesiogiai detektuojami visi elementai, išskyrus vandenilį. Vandenilį galima detektuoti netiesiogiai. Informacija apie cheminius ryšius gaunama iš fotoelektronų emisijos smailių  poslinkių. Gylis, iš kurio gaunama informacija, dažniausiai siekia iki 10 nm.Kampą tarp rentgeno spindulio ir bandinio galima keisti 30-90o diapazone.Šiuo metodu galima atlikti neardantį bandinio sudėties ir cheminių ryšių kitimo analizę gylyje. Didesnio gylio tyrimus galima atlikti naudojant joninį ėsdinimą. Sužadinančių rentgeno spindulių šaltinis - dvigubas Al/Mg anodas. Sužadinančio rentgeno spindulio energija - MgKa=1253.6 eV (linijinis plotis pusiniame aukštyje 0.7 eV), AlKa =1486.6 eV (linijinis plotis pusiniame aukštyje 0.85 eV). Tipinės taikymo sritys: metalų, puslaidininkių, dielektrikų, polimerinių plėvelių ir kt. medžiagų paviršiaus analizė

Terminis analizatorius Paulic, Paulic Erdey Mod.1500
Terminė analizė (TA) apima grupę metodų, kuriais medžiagų, mišinių bei reaguojančių mišinių fizinės ir cheminės savybės nustatomos kaip temperatūros ar laiko funkcija. Bandiniai gali būti kaitinami ar šaldomi (dinaminis režimas) arba laikomi pastovioje temperatūroje (izoterminis režimas). Mod.1500 terminis analizatorius skirtas termodinaminių charakteristikų tyrimams plačiame temperatūrų diapazone (20-1450oC). Temperatūrų diapazonas gali būti praplėstas naudojant įvairias papildomas krosneles. Prietaiso charakteristikos yra labai stabilios ir atkuriamos TG ir TA bazinės linijos. DTA daviklio aukštas jautrumas garantuojamas net esant aukštesnėms nei 1400oC temperatūroms. Elektromagnetiniu būdu kompensuojamos svarstyklės pasižymi dideliu stabilumu, tikslumu ir skiriamąja geba µg diapazone. Galima analizuoti iki 5 g sveriančius mėginius. Šios savybės sudaro unikalių prietaiso galimybių pagrindą. Jo didelis tikslumas ir puikus atkuriamumas daro jį nepakeičiamu tyrimų ir kokybės užtikrinimo srityse. Laboratorijoje naudojami įvairūs terminės analizės metodai: diferencialinė terminė analizė (DTA), termogravimetrija (TG), diferencialinė termogravimetrija (DTG). Šie metodai, kaip rentgeno analitinių metodų papildymas, dažniausiai naudojami sudūlėjusio uolinio grunto mineralų ir molingų mineralų, dirvožemių ir molių identifikavimui.
DTA: Tai metodas, kuriuo fiksuojami šilumos srauto iš bandinio ar į jį (iš mato ar į jį) skirtumai kaip temperatūros ir laiko funkcija esant tam tikram temperatūriniam režimui. Šiuo metodu galima tirti savitąją šilumą, lydymosi temperatūrą, perėjimo entalpiją, fazės virsmus, fazės diagramą, kristalizacijos temperatūrą, kristališkumo laipsnį, stiklėjimo temperatūrą, skilimo efektus, reakcijos kinetiką, grynumą.
TG: Tai metodas, kuriuo atliekamas bandinio masės monitoringas kaip temperatūros ir laiko funkcija esant tam tikram temperatūriniam režimui. Šiuo metodu galima tirti masės pokyčius, skilimo temperatūrą, dehidroksiliaciją, koroziją ir oksidaciją, terminį stabilumą, redukciją, sudėtį, reakcijos kinetiką, grynumą.

Dujų chromatografas Chrome 5
Dujų chromatografija - tai chromatografijos metodas, naudojamas dujų ir lakių organinių junginių atskyrimui. Dujų chromatografą sudaro įpurškimo įvadas, stacionarios fazės atskyrimo kolonėlė ir detektorius. Organiniai junginiai atskiriami dėl jų dalijimosi tarp dujų judriosios ir stacionarios fazės kolonėlėje skirtumų.

Aukšto slėgio skystinis chromatografas MiliXrom02
Aukštos skiriamosios gebos skystinė chromatografija (HPLC) - tai cheminis įrankis, skirtas cheminių mišinių analizei. Ji naudojama cheminio junginio kiekio nustatymui kitų chemikalų mišinyje. Mėginys ištirpinamas tirpiklyje (vandenyje arba spirite), todėl chromatografija ir vadinama skystine. Detektorius matuoja atsako pasikeitimus tarp tirpiklio bei tirpiklio ir praeinančio pro jį mėginio. Atsako elektrinis signalas pervedamas į skaitmeninę formą ir siunčiamas į duomenų apdorojimo sistemą.

Rentgeno spindulių difraktometras DRON 3.0
Rentgeno spindulių miltelių difrakcija matuojama, naudojant Cu Ka spinduliuotę, Θ-2Θ goniometrą ir Ge detektorių. Matavimo sąlygos: 35 kV ir 30 mA. Skenavimas paprastai vyksta nuo 10 iki 70 2 laipsnių su 0,05 2 laipsnių žingsniu ir 5 s skaičiavimo laiku. Iš rezultatų pašalinama Ka2 komponentė, atliekama fono korekcija skaitmeniniu filtru ir, naudojant spec. algoritmus, identifikuojamos smailės. Stebimos smailių padėtys sulyginamos su ICDD JCPDS bazės duomenimis. Bandinys turi būti susmulkintas į apie 100 μm miltelius ir užteptas ant 2,5 cm skersmens stiklinio disko. Tyrimams atlikti reikia apie 100 mg miltelių. Galima tirti ir ant padėklo esančias plonas plėves. Tipiniai padėklo matmenys: storis – 2-5 mm, plotis – 3-10 mm, aukštis – 15-25 mm

Paviršiaus ir poringumo analizatorius M2100D
Vieno punkto analizė. Keturi mėginiai tuo pačiu metu. Azoto adsorbcijos ir desorbcijos izotermos. BET ir Langmuir paviršiaus plotas. BJH porų dydžio pasiskirstymo analizė. Vidutinis porų tūris, plotas, dydis ir bendras porų tūris (TPV). Mikroporų analizė. BET (Brunauer-Emmet-Teller) metodas pagrįstas dujų molekulių adsorbcija ant dalelių paviršiaus. Po azoto ar ksenono adsorbavimo azoto skystėjimo temperatūroje, pudra yra nuimama ir pakaitinama iki 200oC. Bandinio paviršius apskaičiuojamas pagal Brunauer-Emmet-Teller lygtį. 
Taikoma neorganinių medžiagų pudrų, oksidų, sorbentų, katalizatorių tyrimui. Jonų selektyvieji elektrodai (potenciometras I-130M)
Potenciometrija - tai elektroanalitinės chemijos metodas, kur potencialai matuojami netekančiame skystyje. Išmatuoti potencialai naudojami kiekybinei analizei, dažniausiai tam tikrų komponentų koncentracijai tirpale nustatyti. Potenciometrija ypač naudinga metalų jonų ir anijonų analizei vandeniniuose tirpaluose. Tai labai paprastas metodas, kuriuo in-situ galima nustatyti apie 15 elementų. Taikymo sritys: jūrų ir gėlo vandens, nuotekų, dumblo, suspensijų tyrimai.

Skenuojantis elektroninis mikroskopas FEI Quanta 200 FEG su Rentgeno spindulių energijos dispersijos spektrometru Bruker XFlash 4030
Paslaugos teikiamos bendradarbiaujant su partnerių (KTU DTF) laboratorija. Skenuojantis elektroninis mikroskopas Quanta 200 FEG, yra vienas iš pagrindinių nano technologijų įrankių, t.y. nano struktūrų ir nano prietaisų, paviršiaus vaizdinimo priemonė. Jame naudojamas modernus lauko emisijos elektronų šaltinis leidžiantis dirbti kontroliuojamo slėgio vandens garų atmosferoje, todėl šiuo mikroskopu galima tirti elektriškai nelaidžius objektus su aukšta 1,2 nm skiriamąja geba (skiriamoji geba – minimalus registruojamas matmuo). Jame yra įmontuotas naujos kartos Bruker firmos rentgeno spindulių energijos dispersijos spektrometras XFlash 4030, kuris šalia vaizdinimo galimybių leidžia atlikti cheminės mikro analizės tyrimus. Spektrometras leidžia kiekybiškai ir kokybiškai įvertinti bandinio sudėtį detektuojant cheminius elementus nuo Boro5 iki Americio95 pasirinktame taške (1 mm3 tūryje) arba bandinio plote nustatyti paviršiaus atskirų cheminių elementų pasiskirstymo žemėlapį. Modernus 30 cm2 ploto Peltje elementais šaldomas rentgeno spindulių silicio slinkties spektrometro detektorius užtikrina 133 eV (ties Mn Ka linija) energijos skiriamąja gebą esant dideliam rentgeno fotonų detektavimo greičiui (100.000 impulsų per sekundę).

Skenuojantis elektroninis mikroskopas JEOL JSM-IC25S
Mikroskopas naudojamas laidžių ir puslaidininkinių paviršių struktūros ir morfologijos tyrimui. Galima ir specialiai paruoštų dielektrinių medžiagų analizė. Fokusuotas elektronų spindulys skenuoja bandinio paviršių ir išmuša antrinius elektronus iš kurių ir formuojamas paviršiaus vaizdas. Mikroskopo skiriamoji geba siekia 15 nm. Taikymo sritys: puslaidininkinių prietaisų technologija, vakuuminės dangos ir plonos plėvelės, mineralogija, biologija, chemija ir kt.

Lazerinis elipsometras Gaertner L-115
Lazerinis elipsometras naudojamas plonų dielektrinių ir puslaidininkinių plėvelių storio ir lūžio rodiklio nustatymui.Lazerinė elipsometrija pagrįsta nuo bandinio atspindėtos monochromatinės poliarizuotos šviesos poliarizacijos parametrų analize. Lazerio spindulio bangos ilgis - 632.8 nm. Plėvelių storis 0.001 - 1 µm. Storio matavimų neapibrėžtis - ±(0.5 - 1) nm. Lūžio rodiklio matavimo neapibrėžtis ±0.01.
Taikymo sritys: plonų polimerinių, dielektrinių ir puslaidininkinių plėvelių, pusiau skaidrių (<50 nm) metalo plėvelių storio ir lūžio rodiklio matavimas.

Mikrointerferometras MII-4
Mikrointerferometras MII-4 naudojamas plonų nepermatomų plėvelių storio ir neskaidrių bandinių paviršiaus šiurkštumo matavimams. Jo veikimas pagrįstas šviesos interferencijos reiškiniu. Matavimų diapazonas - (0.03-1.0) µm. Tikslumas - ±(15-30) nm. 
Taikymo sritys: aukščio ir grublėtumo vizualinis įvertinimas, vertikalių mikrostruktūrų matmenų matavimas.

Optiniai analizatoriai Nikon S ir Nikon N2
Optinis analizatorius Nikon (modelis S) naudojamas optiškai skaidrių struktūrų dydžio matavimams automatiniu režimu (matavimo neapibrėžtis 0.1+L/500 µm, čia L - matuojamos struktūros ilgis). Optinio analizatoriaus didinimas - 1200. 800 kartų didinantis optinis analizatorius - komparatorius Nikon (modelis N2) naudojamas struktūrų dydžio matavimams pralaidumo arba atspindžio režimu. Šis analizatorius - komparatorius ypatingai naudingas matuojant plokštuminės topologijos žingsnio paklaidą. 
Analizatorių taikymo sritys: foto kaukės kontrolė, žingsnio paklaida, puslaidininkio lustų kontrolė.

Vaizdo analizė 
Vaizdo analizės metodai leidžia kiekybiškai ir kokybiškai išanalizuoti daleles. Vaizdo analizė - tai galingas įrankis daugelio biologinių ir kitų gamtinių medžiagų matavimui ir identifikavimui. Vaizdo formavimo sistemos apjungia įvairius programų paketus vaizdo analizei (pvz., Scion Image), grafiniam apdorojimui ir modeliavimui (pvz.: Photoshop, Surfer). Analitiniai įrenginiai ir apdorojimo programinė įranga gali būti pritaikyti individualių projektų poreikiams bei einamajam darbui: skenuojančios elektroninės mikroskopijos vaizdų kvantavimui, skaitmeninėms fotografijoms.

Įranga mikrobanginių parametrų matavimui
Matavimai atliekami bangolaidžiuose 12-78 GHz diapazone, panaudojant stovinčios bangos koeficiento panoraminius matuoklius P2-65, P2-66, P2-67, P2-68 ir P2-69. Įranga skirta prietaisų superaukšto dažnio charakteristikų matavimams ir medžiagų pralaidumo mikrobangų diapazone tyrimams.

Atominių jėgų mikroskopas NT-206
Atominių jėgų mikroskopas (AJM) naudojamas įvairių medžiagų paviršiaus tyrimui. AJM veikimo režimai: Statinis (įskaitant kontaktinį (topografija) režimą ir lateralinių jėgų mikroskopiją), Dinaminis (įskaitant bekontaktinį ir mišrųjį/analogas Tapping Mode®/ režimus), Statinė/ Dinaminė jėgos spektroskopija. AJM charakteristikos: maksimalus skenavimo laukas: iki 30x30μm; matavimų matrica iki 512x512 taškų maksimalus matavimų aukštis: 4 μm; lateralinė skiriamoji geba: 2 nm, vertikalioji skiriamoji geba: 0.1 - 0.2 nm.

Brėžimo testeris
Asmeninio kompiuterio valdomas brėžimo testeris skirtas plonų dangų adhezijai bei kietumui tirti. Įrenginyje bandinys yra brėžiamas indentoriumi, laipsniškai didinant normalinę jėgą (apkrovą). Realiu laiku registruojamas indentoriaus poslinkis, normalinė jėga ir atsiradusi tangentinė (trinties) jėga. Staigus tangentinės jėgos šuolis nurodo dangos ardymo pradžios vietą, pagal kurią galima sužinoti normalinę jėgą. Vėliau bandinį fotografuojant pro mikroskopą, analizuojamas dangos ardymo tipas bei optiškai išmatuojamas griovelio plotis skirtingose brėžimo pėdsako vietose. Įbrėžtą bandinį skenuojant AFM, galima įvertinti griovelio gylį skirtingose brėžimo pėdsako vietose. Susiejus normalinę jėgą ir griovelio plotį (arba jo gylį), galima nustatyti dangos kietumą. Matuojant maksimalią normalinę jėga iki ardymo, galima palyginti keleto bandinių adhezijos stiprumą. Taip pat galima apskaičiuoti dangos trinties su žinomos medžiagos indentoriumi koeficientą.

Paviršiaus šiurkštumo matuoklis TR200     
Elektroninės nanolitografijos, elektroninės mikroskopijos ir paviršiaus analizės sistema e-LiNE plus (Raith, Vokietija).
Skirta medžiagų paviršiaus ir sudėties tyrimams, nanolitografijai ir nanostruktūrų formavimui.

Ramano sklaidos spektrometras inVia (Renishaw).
Universalus spektroskopinės įrangos kompleksas su konfokaline mikro-Ramano optine sistema, skirtas Ramano sklaidos spektrų registravimui bei liuminescencijos matavimams.

Skenuojančio zondo mikroskopijos sistema NanoWizard® 3 NanoScience su reikiamais priedais (JPK instruments AG, Vokietija).
Skirta paviršių topografijos matavimams bei mechaninių, elektrinių ir magnetinių savybių nustatymui ore ir skysčiuose. Tinkama kietų kūnų, polimerų, biologinių bandinių ir molekulių charakterizavimui, nanomanipuliacijai bei nanolitografijai.

Saulės spektro simuliatorius SF150B (Sciencetech Inc. (SCI), Kanada).
Šviesos šaltinis, imituojantis saulės spektrą bandinių fotovoltinių charakteristikų matavimuose.

Rentgeno fotoelektronų ir atspindėtų jonų spektroskopijos sistema, ESCALAB 250 (Thermo Fisher).
Bus naudojama medžiagų paviršiaus tyrimuose.

Spektroskopinis elipsometras GES-5 (Semilab).
Naudojama paviršiaus tyrimuose.

Rentgeno spindulių difraktometras D8 DISCOVERY (Bruker).
Naudojamas plonų sluoksnių struktūriniams tyrimams.

Technologinė įranga

Optiškai kintančių apsaugos ženklų originalų formavimo įranga 

  • Optinės holografijos įranga (optinis stalas, He-Cd lazeris).
  • “CVI-Melles-Griot” He-Cd lazeris su maitinimo šaltiniu.
  • “Hengelei Hologram” Ltd mikrodifrakcinių elementų hologramų formavimo įranga.
  • Chemat Technology polimerinių sluoksnių formavimo centrifūga ir terminio bei UV kietinimo įrenginys.

Paviršiaus inžinerija ir plonasluoksniai dariniai 

  • Langmuir-Blodgett vonelė monomolekulinių sluoksnių nusodinimui
  • Tapdinimo ir eksponavimo įrenginiai KSM MJB 21, MA750
  • Reaktyviojo joninio ėsdinimo įrenginys PK-2420 RIE 
  • Joninio ėsdinimo įrenginys “Usi-ionic” 
  • Plazmocheminio auginimo įrenginys PK-2430PD
  • Joninio DTAD nusodinimo įrenginys URM 3.279.053
  • Vakuuminio garinimo įrenginiai:

A 700 QE 
Cubivap
EBS-10A 
ORATORIJA-5 

  • Modifikuotas vakuuminio garinimo įrenginys UVN-71P3, skirtas garinimui ant ruloninių medžiagų
  • Galvanoplastinis įrenginys
  • Mikromontažo įrenginiai  EM4120, EM4200, EM4092, Contact-3А
  • Automatinis braižiklis (skraiberis) RA-120
  • Mikrospaudų formavimo mašina MSM-1
  • Elektroninės nanolitografijos, elektroninės mikroskopijos ir paviršiaus analizės sistema Raith e-LiNE plus. Skirta medžiagų paviršiaus ir sudėties tyrimams, nanolitografijai ir nanostruktūrų formavimui.
  • Aukštatemperatūrinė vertikali krosnis TF/IC-1000, 10427  (NorECs). Skirta bandinių kaitinimui.
  • Mikrobange plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės sistema CYRANNUS I-6“ (IPLAS Innovative Plasma Systems GmbH). Skirta kristalinio deimanto dangų auginimui ir anglies nanovamzdelių auginimui.
  • Indukcine plazma aktyvuoto giliojo reaktyviojo joninio ėsdinimo įrenginys Vision LL-ICP (Plasma-Therm). Skirtas tūrinio mikroformavimo procesams ir nanodarinių formavimui.
  • Lazerinės gamybos ir kinetinės spektroskopijos sistema FemtoLab (R&D Altechna). Skirta paviršiaus struktūrizavimui.
  • Lloyd’o veidrodžio holografinės litografijos sistema (Standa). Skirta paviršiaus struktūrizavimui.