Medžiagų mokslo institutas

Instituto pradžia – Fizikinės elektronikos institutas, įsteigtas 1994 m.  2010 m. vasario mėn. 1 d. LR Vyriausybės nutarimu institutą visiškai integravus į KTU, institutas gavo dabartinį – medžiagų mokslo – pavadinimą.
Instituto veikla orientuota į mokslinius tyrimus ir taikomuosius darbus, kuriant naujas medžiagas ir šiuolaikines technologijas.

K. Baršausko g. 59

Kaunas LT-51423, Lietuva
tel. 8 (37) 313 432
tel. 8 (37) 327 601
e. p. mmi@ktu.lt

medziagos.ktu.edu

 
 
 
 

  • Konferencija
    MMI
    Palanga
    2017 Rugpjūčio 26 - Rugpjūčio 31 16:00
  • Šioje kategorijoje įvykių nėra
  • Šioje kategorijoje įvykių nėra
  • Konferencija
    MMI
    Palanga
    2017 Rugpjūčio 26 - Rugpjūčio 31 16:00
  • 2016-12-09 15:45
    Tradiciniais tapę startuolių apdovanojimai „BZN start Startup Awards 2016“ išdalyti jau ketvirtąjį kartą. Dėl 10 skirtingų nominacijų varžėsi daugiau nei 90 jaunų verslų ir tik patys geriausi rankose laikė apdovanojimo žvaigždę bei partnerių įsteigtus prizus. Geriausiu pumpuriniu startuoliu tapo „Holtida“....
    2016-12-07 16:00
    2016 m gruodžio mėn. 15 d.profesoriui, instituto direktoriui suteikiamas Pietų Danijos universiteto garbės vardas.  Daugiau kaip 10 metųbendradarbiauta mokslo, studijų kryptyse. Bendra fizikos doktorantūra.
  • Šioje kategorijoje naujienų nėra
  • image
    2015-09-08 13:15
    Rugpjūčio pabaigoje Palangoje vykusi 17-oji tarptautinė konferencija – mokykla „Šiuolaikinės medžiagos ir technologijos“ (angl. „Advanced Materials and Technologies“) – puiki mokykla, padedanti ugdyti bendruosius bei specialiuosius doktorantų gebėjimus, vystyti produktyvų tarptautinį bendradarbiavimą. Šiemet...
  • Šioje kategorijoje naujienų nėra
  • Šioje kategorijoje naujienų nėra
  • Šioje kategorijoje naujienų nėra

Vizija

Mokslinė, pedagoginė, kultūrinė ir švietėjiška veikla, sudaranti prielaidas tenkinti šalies ūkio ir mokslo plėtotės reikmes sparčios kaitos ir didėjančios konkurencijos sąlygomis, kurti informacinę ir žinių visuomenę, siekti šalies intelektinio potencialo tarptautinio pripažinimo.

Misija

Aukštos mokslinės kompetencijos universitetinis mokslo institutas, atliekantis fundamentinius ir taikomuosius tyrimus akcentuojant šalies ir Europos Sąjungos tyrimų prioritetus, aktyviai dalyvaujantis vystant ir plėtojant aukštąsias technologijas Lietuvoje, integruotas į universiteto visų pakopų studijų procesą, teikiantis analitines, technologines paslaugas mokslo ir verslo partneriams.

Veiklos kryptys

nanotechnologijos:

  • paviršinių plonasluoksnių sandarų sintezė ir tyrimas,
  • puslaidininkių paviršiaus ir sandūrų savybių keitimas ir tyrimai,
  • joninių ir plazminių metodų taikymas nanostruktūrų ir nanomedžiagų tyrimui;

optinė dokumentų apsauga:

  • mikrooptiniai elementai, interferenciniai filtrai,
  • naujų medžiagų ir struktūrų kūrimas.

Partneriai

Užsienio mokslo institucijos:
Kylio universitetas (Vokietija);
Poitiers universitetas (Prancūzija);
Le Mans universitetas (Prancūzija);
Pietų Danijos universitetas (Danija);
O. Chuiko paviršiaus chemijos institutas (Ukraina);
Šveicarijos Federalinė medžiagų patikros ir tyrimo laboratorija (Šveicarija).

Lietuvos mokslo institucijos:
Vilniaus universitetas;
Fizinių ir technologijos mokslų centras;
Aleksandro Stulginskio universitetas;
VšĮ „Panevėžio mechatronikos centras“.

Lietuvos valstybės institucijos:
Lietuvos valstybės dokumentų technologinės apsaugos tarnyba;
Valstybinė metrologijos tarnyba.

Gamybiniai partneriai:
Vilniaus Ventos puslaidininkiai;
UAB Precizika Metrology”;
UAB Technologija”;
UAB „Teravil;
UAB Sebra”;
UAB Lodvila”.

Studijos

MODULIAI

MMI atestuoti studijų moduliai

Nr.

kodas

pavadinimas

koordinuoja

Studijų programa

1

T150B021

Nanostruktūros ir nanodariniai

Š. Meškinis

Medžiagos ir nanotechnologijos

2

T150B209

Jutikliai ir jų technologijos

Š. Meškinis

Medžiagos ir nanotechnologijos

3

T150B186

Funkcinės medžiagos ir nanotechnologijos

V. Grigaliūnas

Medžiagos ir nanotechnologijos

MA+ Kompetencijų blokas „ Nanotechnologijų inžinerija“:

T150M221 Nanomokslas: nanomedžiagų kūrimas ir analizė (koordinatorius Šarūnas Meškinis)
T150M222 Švaraus kambario technologijos (koordinatorius Viktoras Grigaliūnas)
T165M001 Optinės technologijos ir spektroskopija (koordinatorius Asta Tamulevičienė)

Plačiau apie Magistrantūros studijas ir MA+

Laboratoriniai darbai

1. Dokumentų \ Banknotų apsaugos elementų identifikavimas.
Darbo tikslas: susipažinti su pagrindinėmis priemonėmis, apsaugančiomis dokumentus\banknotus nuo padirbinėjimo ir klastojimo. Sužinoti šiuolaikinių dokumentų autentiškumo įvertinimo metodus, dažniausiai naudojamus dokumentų apsaugos technologijose. Išmokti identifikuoti banknotus\dokumentus.

2. Submikroninių elementų kontrolė optiniu analizatoriumi NIKON – S.
Darbo tikslas: Submikroninių elementų linijinių ir žingsninių matmenų kontrolė praeinančioje šviesoje. Matuojamųjų dydžių diapazonas nuo 0,5 iki 190 µm.

3. Dielektrinių plėvelių parametrų matavimas lazeriniu elipsometru.
Darbo tikslas: Susipažinti su pagrindiniais elipsometrijos principais, matuojamais dydžiais, bei išmatuoti dielektrinių plėvelių optinius parametrus lazeriniu elipsometru „Gaertner L115“.

4. Paviršiaus vilgumo kampo matavimas.
Darbo tikslas: Nustatyti duotų bandinių drėkinimo kampą po fizikinio, cheminio, mechaninio,  joninio plazminio ir kt. poveikio ir nubraižyti paviršių drėkinimo diagramas

5.    Atspindžio ir pralaidumo koeficientų matavimas fotometru  FO – 1.
 
Darbo tikslas: Susipažinti su pagrindiniais fotometrines medžiagų savybes apibūdinančiais dydžiais bei išmatuoti fotometru FO– 1 pateiktų bandinių atspindžio koeficientą arba pralaidumą skirtingiems šviesos bangos ilgiams.

6.    Infraraudonųjų spindulių (IR) spektroskopija.
Darbo tikslas: Susipažinti su IR spektroskopijos metodu. Susipažinti su spektrų registravimo spektrofotometru SPECORD 75 ir infraraudonųjų spindulių spektroskopijos būdu identifikuoti polimerų mišinius.

7.    Spalvų matavimas spektrofotometriniu metodu.
Darbo tikslas: Susipažinti su pagrindiniais fotometrines medžiagų savybes bei spalvą apibūdinančiais dydžiais, išmatuoti fotometru FO– 1 pateiktų bandinių atspindžio koeficientą skirtingiems šviesos bangos ilgiams ir apskaičiuoti bandinio pagrindines spalvos charakteristikas.

8.    Atominė absorbcinė spektrinė analizė.
Darbo tikslas: Susipažinti su pagrindiniais atominės absorbcijos spektrinės analizės principais, matuojamais dydžiais, bei išmatuoti vario koncentraciją tirpale atominės absorbcinės spektroskopijos spektrometru AAS-M403 “Perkin Elmer”.

9.    Dielektrinės dangos (SiO2) formavimas vakuume elektronų spinduliu.
Darbo tikslas: susipažinti su dangų (SiO2) formavimo vakuume elektronų spinduliu technologija, suformuoti įvairaus storio SiO2 dielektrines dangas ant Si padėklų, naudojant elektronų patranką.

10.  Keramikos tyrimas rentgeno spindulių fotoelektronine ir Ožė elektronine spektroskopijomis
Darbo tikslas: susipažinti su rentgeno fotoelektronų spektroskopijos ir Ožė elektronų spektroskopijos metodais, taip pat ištirti keramikos bandinio paviršių „XSAM800 Kratos Analytical“ rentgeno fotoelektronų spektrometru.

11.  Lazerinė interferencinė litografija
Darbo tikslas: susipažinti su periodinių struktūrų formavimo technologija – lazerine interferencine litografija. Suformuoti periodines struktūras fotoreziste, nustatyti suformuotos difrakcinės gardelės periodą, nustatyti gardelių orientaciją viena kitos atžvilgiu; optiniu mikroskopu įvertinti suformuotų struktūrų linijinius matmenis ir kokybę.

12.  Puslaidininkinio lazerio tyrimas
Darbo tikslas: susipažinti su optinės elektronikos puslaidininkiniais prietaisais, šviesos diodu, puslaidininkiniu lazeriu, fotodiodu, ištirti puslaidininkinio lazerio voltamperinę, liuksamperinę charakteristikas ir nustatyti naudingumo koeficiento priklausomybę nuo lazerio sunaudojamos galios, apskaičiuoti puslaidininkio draustinės juostos plotį ir nustatyti išorinį kvantinį našumą.

13.  Periodinių struktūrų tyrimas taikant optinius metodus
Darbo tikslas: susipažinti su periodinių struktūrų tyrimais taikant optinius metodus, išmatuoti periodinių struktūrų difrakcijos efektyvumą ir optiniu mikroskopu įvertinti jų geometrinius matmenis.

14.  Ultravioletinės ir regimosios šviesos spektroskopija
Darbo tikslas: susipažinti su ultravioletinės ir regimosios šviesos spektroskopijos metodu. Nustatyti puslaidininkinių plonų plėvelių optines charakteristikas.

15.  Puslaidininkio ir laidininko varžų elektriniai matavimai
Darbo tikslas: susipažinti su puslaidininkių ir laidininkų elektrinio laidumo mechanizmais. Atlikti ir išanalizuoti temperatūros įtakos puslaidininkių ir metalų varžai matavimus. Iš atliktų matavimų puslaidininkiui nustatyti draustinės juostos plotį.

16.  Skenuojamoji elektroninė mikroskopija (SEM) ir rentgeno spindulių energijos dispersijos spektrometrija (EDX/EDS)
Darbo tikslas: susipažinti su skenuojamosios elektroninės mikroskopijos ir rentgeno spindulių spektrometrijos metodais. Atlikti SEM matavimus taikant skirtingas matavimo modas ir išmokti analizuoti gautas nuotraukas. Atlikti EDX matavimus ir išmokti nustatyti tiriamosios medžiagos sudėtį.

17.  Keramikinių medžiagų joninio laidumo matavimai taikant pilnutinės varžos spektroskopijos metodą
Darbo tikslas: susipažinti su joninio laidumo mechanizmais keramikinėse medžiagose, atlikti šių medžiagų joninio laidumo priklausomybės nuo temperatūros matavimus ir nustatyti joninio laidumo aktyvacijos energiją.

18.  Rentgeno fluorescencinė analizė
Darbo tikslas: susipažinti su rentgeno fluorescencinės analizės metodika, nustatyti nežinomus elementus tiriamame bandinyje (kokybinė analizė), kiekvieno elemento santykinę koncentraciją bandinyje (kiekybinė analizė).

19.  Kiekybinis kietųjų medžiagų paviršiaus laisvosios energijos įvertinimas
Darbo tikslas: naudojant kontaktinio kampo (KK) goniometrą ir keturis skirtingus skysčius, įvertinti kietojo kūno paviršiaus kritinį įtempį (PKĮ), naudojant Zismano (Zisman) diagramas, ir paviršiaus laisvąją energiją (PLE), naudojant Ovenso (Owens) ir Vendo (Wendt) grafiką.

20.  Plonasluoksnių struktūrų topologijos formavimas kontaktinės optinės litografijos būdu
Darbo tikslas: kontaktinės optinės litografijos (fotolitografijos) technologinio proceso būdu suformuoti ir apibūdinti vienasluoksnę topologiją (piešinį) ant Si padėklo.

21.  Paviršiaus tyrimas atominių jėgų mikroskopu
Darbo tikslas: išmokti apibūdinti bandinio paviršių atominių jėgų mikroskopu (AJM): kiekybiškai įvertinti tiriamojo bandinio paviršiaus morfologiją ir kitas savybes.

22.  Konduktometrinė analizė
Darbo tikslas: išmokti nustatyti ir įvertinti įvairių medžiagų tirpalų laidumą. Susipažinti su savitojo elektrinio laidžio (SEL) matavimo priemonėmis ir matavimo technika.

23.  Poliarizacinio lazerio ateniuatoriaus tyrimas
Darbo tikslas: Susipažinti su poliarizacinės optikos dėsningumais bei galimybėmis poliarizuojančius elementus panaudoti lazerio pluošto intensyvumo valdymui.

24.  Briusterio (Brewster) kampo nustatymas naudojant baltą poliarizuotą šviesą
Darbo tikslas:  Skirtingo lūžio rodiklio dielektrinių medžiagų Briusterio kampo nustatymas prie laisvai pasirinkto bangos ilgio regimajame diapazone naudojant motorizuotą baltos poliarizuotos šviesos matavimų stendą.

25.  Lazerinis medžiagų apdirbimas femtosekundiniais impulsais
Darbo tikslas: Lazerinio poveikio slenksčio nustatymas ir medžiagų paviršiaus mikroapdirbimas naudojant femtosekundinį lazerį Pharos ir mikroapdirbimo sistemą FemtoLAB.

26.  Žadinimo-sondavimo spektroskopija
Darbo tikslas:  Medžiagų kinetinės sugerties tyrimas žadinimo-zondavimo spektrometru Harpia ir femtosekundiniu lazeriu Pharos.

27.  Keraminių sluoksnių formavimas plazminio purškimo metodu
Darbo tikslas: susipažinti su vakuuminiu plazminio purškimo metodu bei suformuoti keraminius sluoksnius.

Apgintos disertacijos

2015 m.
  • Andrius Vasiliauskas,  daktaro disertacija  „Deimanto tipo anglies plėvelių ir jų nanokompozitų auginimas ir pjezovaržinių savybių tyrimas“(Technologijos mokslai),  mokslinis vadovas dr. Šarūnas Meškinis
2014 m.
  • Algirdas Lazauskas, daktaro disertacija „Fizikiniais metodais nusodintų plonų chromo ir chromo kompozicinių plėvelių paviršiaus morfologija, kohezinės ir adhezinės savybės“ (Technologijos mokslai),  mokslinis vadovas dr. Viktoras Grigaliūnas
2012m.
  • Asta Tamulevičienė, daktaro disertacija „Amorfinės anglies nanokompozitai optiniams taikymams “(Technologijos mokslai), mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
  • Tomas Tamulevičius,  daktaro disertacija „ Periodinės mikrostruktūros lūžio rodiklio jutikliams ir optiniams difrakciniams elementams“ (Fiziniai mokslai),  mokslinis vadovas dr. Mindaugas Andrulevičius
  • Gailius Vanagas,  daktaro disertacija  „Struktūrinių medžiagų savybių įtaka mikroelektromechaninių sistemų funkciniams parametrams“(Technologijos mokslai) , mokslinis vadovas dr. Viktoras Grigaliūnas
  • Eitvydas Gruzdys,  daktaro disertacija   “Terminio purškimo metodais formuojamų apsauginių dangų sintezė ir tyrimas” (Fiziniai mokslai),   mokslinis vadovas dr. Šarūnas Meškinis
2011 m.
  • Marius Mikolajūnas,  daktaro disertacija  “ Membraninių silicio nitrido mikrodarinių formavimas ir tyrimas” (Technologijos mokslai), mokslinis vadovas dr. Viktoras Grigaliūnas
2009 m.
  • Tomas Grinys, daktaro disertacija “YSZ-NiO-Ni keraminių dangų formavimas vakuuminiu plazminiu purškimu” (Fiziniai mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
  • Audrius Giedraitis, daktaro disertacija  “Garinamo bario sugėriklio dangų augimo kinetika (Technologijos mokslai),   mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
  • Rimantas Gudaitis,  daktaro disertacija  “ Jonų pluošteliu sintezuotų deimanto tipo anglies dangų elektrinių ir optinių savybių tyrimas” (Technologijos mokslai),   mokslinis vadovas dr. Šarūnas Meškinis
2008 m.
  • Renata Jarimavičiūtė-Žvalionienė, daktaro disertacija,  “Silicio optinių struktūrų formavimas elektrocheminio ėsdinimo būdu “ (Technologijos mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
  • Brigita Abakevičienė, daktaro disertacija,  “Polimerų ir metalizuotų polimerų mechaninės savybės: metalo užauginimas ant polimerinio paviršiaus” (Fiziniai mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
2005 m.
  • Asta Guobienė, daktaro disertacija, „Periodinių struktūrų polimeruose formavimas ir tyrimas“ (Fiziniai mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
2004 m.
  • R. Kriūkienė, daktaro disertacija „Temperatūros ir cheminės aplinkos įtaka termoporinių lydinių mikrostruktūrai bei metrologinėms charakteristikoms“ (Technologijos mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
  • Judita Puišo, daktaro disertacija,  „Nuosekliu jonų sluoksnių įgerties ir reakcijos metodu formuojamų švino sulfido plonųjų sluoksnių ant kristalinio silicio augimo kinetika ir savybės“ (Fiziniai mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
2001 m.
  • Rytis Dargis, daktaro disertacija, „Plazminio purškimo žemame vakuume parametrų įtaka formuojamų Ni-Al dangų elektrofizinėms charakteristikoms“ (Technologijos mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
  • Arnoldas Užupis, daktaro disertacija,  „Indžio oksido legiruotu alavu, sluoksnių formuojamų magnetroniniu dulkinimu, terminis modifikavimas“ (Fiziniai mokslai mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius),
1993 m.
  • K.Babilius, daktaro disertacija „Titano nitrido, formuojamo elektros lanko išlydyje, tribologinės savybės“ (Technologijos mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
1990m.
  • J.Budinavičius, daktaro disertacija „Procesai metalo ir silicio sistemoje plonų plėvių technologijoje naudojant nusodinimą ir vienalaikį didelių energijų joninį švitinimą“ (Technologijos mokslai),  mokslinis vadovas prof. Sigitas Tamulevičius
 

Laimėti konkursai

  • Dr. Tomas Tamulevičius LMA jaunųjų mokslininkų fizinių, biomedicinos, technologijos ir žemės ūkio mokslo sričių stipendijoms gauti konkursas. Skirta 2013-2014 m. LMA jaunųjų mokslininkų stipendija.
  • Dr. Algirdas Lazauskas. LMA jaunųjų mokslininkų fizinių, biomedicinos, technologijos ir žemės ūkio mokslo sričių stipendijoms gauti konkursas. Skirta 2015-2016 m. LMA jaunųjų mokslininkų stipendija.
  • Dokt. Jolita Sakaliūnienė. Specialus KTU prizas jaunųjų mokslininkų parodoje-konkurse „Technorama 2015“ už inovatyviausio darbo pristatymą (darbo pavadinimas: Kietojo oksido kuro mikroelemento link).
  •   Kartu su įmone „Precizika Metrology“ 2011-2013 m. vykdytas bendras MITA aukštųjų technologijų plėtros programos projektas “Nanostruktūrinės deimanto tipo anglies dangos šiuolaikiniams optinės metrologijos komponentams (NanoDLC)” (vadovas S. Tamulevičius, vertė ~73 tūkst. Eurų).

    Projekto rezultatai panaudoti įmonėje kuriant skales precizinėms lazerinėms matavimo sistemoms.
    Nacionaliniame konkurse „Lietuvos metų gaminys 2015“ buvo apdovanotos aukščiausiu įvertinimu – aukso medaliu.
 

Pripažintas Instituto specialistų mokslinis autoritetas Universitete, šalyje ir užsienyje

Įsteigta pumpurinė įmonė UAB „Holtida“

 

Gauta saugiųjų dokumentų ir saugiųjų dokumentų blankų gamybos licencija.

Pateikta patentinė paraiška Nr. 2015 051 Išradimo pavadinimas: KOMBINUOTAS HOLOGRAMINIS LIPDUKAS

  •   
  • HOLTIDA direktorė
    dr. R. Žostautienė
 

Susitikimai, ekskursijos

Moksleiviams 2015 m. sausio – kovo mėn. pravesta 41 ekskursija!

Kitos ekskursijos:

  • Lundo universiteto delegacija, 2015 m. spalio 7 d., 
  • Ekskursija stažuotojams iš Kazachstano 2015 m. lapkričio 16 d. 
  • Ekskursija po MMI laboratorijas renginio "Tyrėjų naktis“ metu. 2015 m. rugsėjo 25 d.
  • KTU Verslo tarybos vizitas MMI 2015 m. rugsėjo 29 d.
  • Susitikimas su Lietuvos oro uosto vadovybe dėl KTU bendradarbiavimo MTEPI srityje, 2015 m. rugsėjo 22 d.
  • Jungtinės Karalystės įmonės „Toye & Co“ atstovai, 2015 m. rugsėjo 8 d.
  • Kriminalistikos tyrimų centro vadovai, 2015 m. rugsėjo 9 d.
  • UAB „Start Vilnius“ vadovas Marius Baranauskas ir Agnė Selemonaitė Vilniaus mero patarėja, 2015 m. liepos 15 d.  
  • Birželio 17 d. "Santakos" slėnyje karininkų ekskursija po MMI laboratorijas.
  • Delegacija iš Kazachstano, 2015 m. gegužės 27 d.
  • Nyderlandų ambasadoriaus vizitas, 2015m. gegužės 26 d.
  • Japonijos žurnalistų vizitas, 2015 m. gegužės 6 d.  
  • Ąžuolo susitikimas ir ekskursijos MMI laboratorijose, 2015 m. gegužės 4 d.
  • Ekskursija Europos instituto studentams, 2015 m. gegužės 12 d.
  • UAB "Precizika Metrology" atstovų vizitas, 2015 m. balandžio 29 d.
  • Forumas Verslo ir mokslo bendradarbiavimas (Verslo, vyriausybės, ministerijų atstovai, mokslininkai), 2015 m. balandžio 2 d.
  • KTU Taryba, 2015 m. balandžio 2 d. 
  • KTU “Santakos sėlnyje” KTU TARYBOS SUSITIKIMAS SU KTU MOKSLININKAIS, 2015 m. kovo 26 d.
  • Užsienio reikalų ministerijos ir MITA organizuotas susitikimas su ambasadų ekonomikos atašė, 2015 m.  kovo 17 d.  
  •  MMI laboratorijose  fizikos mokytojų vizitas, 2015 m. kovo 3 d..
  • Vokietijos įmonės kartu su „Investuok Lietuvoje“ specialistais vizitas, 2015 m. vasario 25 d.

Struktūra

Laboratorijos:

  •    Paviršių ir plonasluoksnių darinių mokslo 
  •    Nano- ir mikrolitografijos mokslo
  •    Vakuuminių ir plazminių procesų mokslo
  •    Technologijų plėtros mokslo

Darbuotojai

Administracija

Projektų valdymo ir plėtros vadovė
Fataraitė-Urbonienė Eglė

Administratorė
Sinkevičienė Virginija

 Paviršių ir plonasluoksnių darinių mokslo laboratorija

Laboratorijos vadovas,
vyresn. m. d., dr. Mindaugas Andrulevičius

Vyresn. m. d.,
dr. Igoris Prosyčevas
M. d.,
dr. Tomas Tamulevičius
 

Jaun. m. d.,
Mindaugas Pucėta

Jaun. m. d.,
dr. Peckus Domantas
Technikė,
Irina Abelit

Nano- ir mikrolitografijos mokslo laboratorija 

Laboratorijos vadovas,
vyresn. m. d., dr. Viktoras Grigaliūnas

Vyresn. m. d.,
dr. Dalius Jucius
Vyresn. m. d.,
doc. dr. Asta Guobienė
Jaun.m.d.,
Angelė Gudonytė

Vakuuminių ir plazminių procesų mokslo laboratorija 

Laboratorijos vadovas, vyriausiasis. m. d.,
dr. Šarūnas Meškinis

Vyresn. m. d., 
dr. Kęstutis Šlapikas
 

Jaun. m. d.,
Vitoldas Kopustinskas

M. d.,
dr. Rimantas Gudaitis
M. d.,
dr. Asta Tamulevičienė
Jaun. m. d.,
dr Andrius Vasiliauskas
Jaun. m. d.,
dr Algirdas Lazauskas

Technologijų plėtros mokslo laboratorija 

Laboratorijos vadovas, M. d.,
dr. Pranas Narmontas

Vyresn. Inžinierius,
Algimantas Juraitis

Vyresn. inžinierius,
Vladimiras Čižas
Technikė,
Vilija Kuprėnienė

 

Doktorantai

Čiegis Arvydas
 

Virganavičius Dainius

Sakaliūnienė Jolita
 

Juknius Tadas

Jurkevičiūtė Aušrinė
Juodėnas Mindaugas
 

Erika Rajackaitė

Studentai

Šimatonis Linas
Stankevičius Lukas

Direktorius – prof. hab. dr. Sigitas Tamulevičius

tel. 8 (37) 327 601
e. p. sigitas.tamulevicius@ktu.lt

Projektai

 

Mokslinės publikacijos

2016   I   2015   I   2014   I   2013   I   2012   I   2011   I    2010   I   1991 - 2010

 
 

Nacionaliniai projektai

2015 m.
  • LMT finansuojamas mokslininkų grupės projektas "Nanolitografija ultravioletinei optikai" (UVDIODE), 2015-2017
    Projektas skirtas UV spinduliuotę fokusuojančių polimerinių mikrolęšių gamybos technologijos sukūrimui. Tokie mikrolęšiai gali būti naudojami InAlGaN šviestukuose, siekiant padidinti jų generuojamos UV šviesos erdvinę skyrą ir šviesos galios tankį. Taikant naujus nanolitografijos metodus (3D elektroninę nanolitografiją bei UV nanoįspaudimo litografiją) kuriama kvarcinė 3D forma, skirta našiam UV mikrolęšių replikavimui UV šviesai skaidriuose fluoropolimeruose, siekiant sumažinti InAlGaN šviestukų savikainą.
2014 m.
  • KTU MTEPI fondo remtas Kauno technologijos universiteto ir Lietuvos sveikatos mokslų universiteto mokslininkų grupės projektas „Nanokompozitinių dangų taikymas inovatyvių antimikrobinių dangų ir optinių biojutiklių kūrimui“ (NANOBIOSENSOR) (2014 m.).
    Vykdant projektą buvo vystomi medžiagų optinių konstantų bei fizikinių, cheminių, biologinių procesų ir reakcijų kinetikos stebėsenos realiame laike metodika. Buvo tiriamos valdomų plazmoninių savybių deimanto tipo amorfinės anglies/Ag nanokompozitinių dangų antimikrobines savybes. Šiose dangose taip pat buvo formuojamos tvarkias sub-mikrometrinio periodo struktūross kompleksiniams skysčio lūžio rodiklio kinetikos matavimams in-situ. Buvo sukurtas ir sukalibruotas kompleksinio lūžio rodiklio kinetikos matavimo maketas (bio-jutiklis), skirtas biologinių terpių ir jose vykstančių sąveikų tyrimams realiu laiku (bio jutiklis), bei plazminiais metodais bus nusodintos ir mikrobiologiškai ištirtos antimikrobiniu poveikiu pasižyminčios deimanto tipo amorfinės anglies/Ag (DTA:Ag) nanokompozitinės dangos. Atlikus mikrobiologinius testus buvo ištirtas DTA:Ag nanokompozitinių dangų antimikrobinis efektyvumas laukiniams bakterijų izoliatams ir jų galimo poveikio in-situ matavimams vertinimas.
2013 m.
  • LMT finansuojamas mokslininkų grupės projektas „Ekstraordinariosios pjezovaržos deimanto tipo anglies nanokompozitai bei  mikro(nano)dariniai“ (PJEZODEIMA) (2013-2015 m.)

    Darbo tikslas yra naujų deimanto tipo anglies nanokompozitų bei mikro(nano-)darinių, pasižyminčių dideliu pjezovaržiniu keitimo faktoriumi (KF) ir nuliniu TVK, formavimas, tyrimas ir taikymas įtempių matuoklių formavimui. Planuojama pirmą kartą ištirti ta-C, o taip pat ta-C ir metalo nanokompozitų KF bei TVK, dangų auginimui naudojant naują metodą – didelės galios impulsinį magneroninį dulkinimą (HIPIMS). Bus tiriama deimanto tipo (sp3) ir grafito tipo (sp2) fazių santykio, vandenilio, klasterių matmenų, metalo tipo įtaka. Papildomam KF padidinimui šiam projekte planuojama panaudoti ekstraordinarios pjezovaržos metamedžiagos principą bei geometrinius efektus.

  • „Paviršiaus reljefo ir molekulinių jėgų įtakos nanodalelių saviorganizacijos procesams fundamentiniai moksliniai tyrimai ir šioje srityje dirbančių mokslininkų ir kitų tyrėjų tarptautinio konkurencingumo ugdymas“ (PARMO), įgyvendinamas pagal 2007-2013 m. Žmogiškųjų išteklių plėtros veiksmų programos priemonę „Aukšto tarptautinio lygio mokslinių tyrimų skatinimas“. Finansavimo ir administravimo sutartis Nr. VP1-3.1-ŠMM-10-V-02-028 (2013-2015 m.)

    Pagrindinis  projekto tikslas - KTU tyrėjų kompetencijos ugdymas vykdant paviršiaus reljefo ir molekulinių jėgų įtakos nanodalelių saviorganizacijos procesams tyrimus. Projekto metu sukurta kapiliarinio nusodinimo įranga bei įsisavintos medžiagos ir procedūros, taikomos nanometrinių matmenų objektų manipuliavimui į tvarkingus masyvus; nustatyta paviršiaus reljefo ir molekulinių jėgų įtaką nanodalelių saviorganizacijos procesui bei parinktos litografijos technologijos, kaukės medžiagos ir geometrija tinkančios didelės skiriamosios gebos dvimačių nanodalelių meza ir mikro struktūrų formavimui; nustatyta deimanto tipo amorfinės anglies įtaka nanodalelių saviorganizacijos procesams, naudojant šią medžiagą vilgumo kontrastui užtikrinti didelių paviršių (kvadratinių centimetrų) nanometrinės skyros kaukėse.

  • Projektas „Biologinio kardio stimuliatoriaus kūrimas, pasitelkiant užsienio mokslo ir studijų institucijas bei tobulinant tyrėjų ir kitų darbuotojų kompetencijas“ (BIOKARDIOSTIM), įgyvendinamas pagal 2007-2013 m. Žmogiškųjų išteklių plėtros veiksmų programos priemonę „Aukšto tarptautinio lygio mokslinių tyrimų skatinimas“. Finansavimo ir administravimo sutartis Nr. VP1-3.1-ŠMM-10-V-02-029 (vykdomas kartu su Lietuvos sveikatos mokslų universitetu ir Valstybiniu mokslinių tyrimų institutu „Inovatyvios medicinos centras“ (2013-2015 m.). (Kartu su Lietuvos sveikatos mokslų universitetu ir Valstybiniu mokslinių tyrimų institutu „Inovatyvios medicinos centras“)

    Projekto pagrindinis tikslas- ugdyti mokslininkų ir tyrėjų tarptautinį konkurencingumą, vykdant biologinio kardiostimuliatoriaus kūrimo mokslinį tyrimą ir susijusias veiklas.

    Projekto uždaviniai:  sustiprinti profesines žinias ir gebėjimus kuriant biologinį kardiostimuliatorių;  Tobulinti mokslininkų tyrėjų, kitų darbuotojų, atsakingų už MTEP rezultatų komercinimą, technologijų perdavimą, kvalifikaciją ir kompetencijas. Projekto veiklos ir įgytos kompetencijos prisidėjo prie  naujų žinių kūrimo tiriant galimybę pritaikyti į karkasinį narvą patalpintas HCN2 genu transfekuotas mezenchimines kamienines ląsteles (MKL) širdies laidžiosios sistemos atstatymui, kurios bus panaudotos  kuriant  biologinio širdies stimuliatoriaus veikiantį prototipą. Šios problemos sprendimui projekto vykdymo metu buvo kuriamos naujos bei naudojamos KTU turimos mikrotechnologijos ir tiesioginis lazerinis rašymas. Buvo išvystytos technologijos  polimerinio mikrometrinių matmenų  karkasinio narvo (mikrokarkaso) formavimui , kurio tikslas yra sulaikyti mezenchiminių kamieninių ląstelių (MKL) migraciją iš širdies. Taikant tiesioginio lazerinio rašymo technologiją bei derinant ją su erdvinių struktūrų formavimu elektroverpimu buvo   suformuotos akytos polimerinės struktūros, vertinamos jų morfologinės, mechaninės savybės ir suderinamumas su biologiniais objektais.

  • LMT finansuojamas mokslininkų grupės projektas „Tvarkios tūrinės struktūros optiniams jutikliams” (3Dsens) (2013-2015 m.).
    Suprojektuota ir surinkta nauja, naši tvarkių dvimačių ir trimačių submikrometrinių ir nanometrinių darinių formavimo holografinės litografijos sistema. Sistema yra sudaryta iš UV lazerio, spindulio nukreipimo ir išplėtimo optikos bei dviejų motorizuotų rotatorių ir UV spinduliuotę atspindinčio veidrodžio. Formuojamų struktūrų perdiodas, bandinio padėtis, bei eksponavimo sąlygos yra valdomos iš vienos programos, veikiančios LabView aplinkoje. Fotojautriose medžiagose buvo suformuotos keleto šimtų nanometrų periodo struktūros, kurios bus pritaikytos optiniams lūžio rodiklio jutikliams. Naudojantis skirtingais matematiniais modeliais, buvo apskaičiuotos skirtingo reljefo struktūrų optinės savybės.
  • LMT finansuojamas Visuotinės dotacijos priemonės projektas Nr. VP1-3.1-ŠMM-07-K-03-057 „Plazmoniniai nanodariniai saulės elementų spektriniams nuostoliams mažinti“ (NIRSOLIS) (2013-2015 m.).
    Parenkant plazmoninio nanokompozito reikiamą sudėtį bei struktūrą, plazmoninės sugerties smailės padėtis buvo keičiama 400-900 nm ribose. Tačiau, dėl deimanto tipo anglies matricos įtakos krūvininkų fotosužadinimo procesui, DTAD nanokompozito ir Si heterosandūros atviros grandinės įtampa bei uždaros grandinės srovė, nekoreliavo su DTAD:Ag ir DTAD:Cu nanokompozitų sugerties spektrais bei plazmoninių smailių padėtimis ir didėjo didėjant veikiančios šviesos bangos ilgiui.
    Keičiant dulkinimui naudotą vidutinę galią galima plačiose ribose keisti augančių titano nitrido plėvelių cheminę sudėtį (nuo titano oksinitrido iki titano nitrido), lūžio rodiklį ir optinės sugerties spektrą. Mažinant auginamų plėvelių storį nepavyko suformuoti plėvelių su aiškiau išreikštomis plazmoninės sugerties smailėmis. Ištyrus titano nitrido plėvelių ir Si heterosandūrų fotovoltinės savybės nustatyta, kad šiuose dariniuose fotoelektronų generavimas vyksta paviršiniame Si sluoksnyje.
    Nustatyta, kad renormalizuota Maksvelo-Garneto teorija tinkamai aprašo įvairaus skersmens ir įvairiai deformuotų sidabro nanodalelių, įterptų į DTAD matricą, sugerties spektrus. Parodyta, kad atominių jėgų mikroskopija gali būti naudojama Ag nanodalelių įterptų į DTAD:Ag plėvelę matmenų matavimui. DTAD:Cu plėvelių tankio profilis, nustatytas XRR būdu, lūžio rodiklio profilis nustatytas spektroskopinės elipsometrijos būdu, Cu koncentracijos pasiskirstymas skersai plėvelės, nanokompozito struktūra bei Cu nanodalelių matmenys bei pasiskirstymas stebėti TEM būdu, gerai derėjo tarpusavyje. Papildomas DTAD:Ag plėvelių nanostruktūrizavimas, dėl konkurencijos tarp plazmonų poliaritonų rezonanso nanoskylėse ir paviršiaus plazmonų rezonanso Ag nanodalelėse, visų pirma keičia sidabro plazmoninės sugerties smailės intensyvumą. Jokių naujų sugerties smailių nanostruktūrizuotose plėvelėse nėra stebimas.
    DTAD:Ag plėvelių kaitinimas ore, tinkamai parinkus proceso sąlygas, gali būti papildoma DTAD:Ag plėvelių optinių savybių kontrolės priemone ir padidinti paviršiaus aktyvuotos Raman‘o sklaidos (SERS) intensyvumą.
    Siekiant maksimalaus Raman’o sklaidos aktyvavimo paviršiumi, reikia didesnio nanodalelių skersmens bei mažesnio atstumo tarp nanodalelių. Papildomos, susijusios su SERS, smailės buvo stebimos tiktai tada, kai žadinančio spindulio bangos ilgis buvo didesnis nei plazmoninės smailės maksimumo padėtis ir jų intensyvumas didėjo didėjant žadinančio spindulio bangos ilgiui. Atlikus kompleksinius UV apšvitos poveikio tyrimus, derinant Raman‘o sklaidos spektroskopiją, Furje transformacijos infraraudonąją spektroskopiją (FTIR) ir optinių savybių matavimus nustatyta, kad Ag nanodalelių įkrovimo reiškinys persipina su DTAD matricos struktūros pokyčiais. DTAD:Ag plėvelę veikiant UV spinduliuote stebėti plazmoninės sugerties smailės poslinkis į mažesnių bangos ilgių pusę ir nedidelis intensyvumo padidėjimas.
    ištyrus DTAD:Ag/Si, DTAD:Cu/Si, TiN/Si heterodarinių fotovoltines charakteristikas bei nanodalelėse fotosužadintų krūvininkų rekombinacijos procesus nustatyti pagrindiniai charakteristikų ir procesų ypatumai. Nustatyta, kad DTAD:Ag/n-Si heterosandūros pagrindu suformuotų saulės elementų trumpo jungimo srovė, sužadinta fotonų, kurių energija yra mažesnė nei Si draustinės juostos plotis, buvo ~230 kartų didesnė nei komercinio monokristalinio Si saulės elemento atveju.
2012 m.
  • Naujų puslaidininkinių medžiagų ir nanostruktūrų kūrimas ir taikymai pažangioms technologijoms“, įgyvendinamas pagal 2007–2013 m. Žmogiškųjų išteklių plėtros veiksmų programos 3 prioriteto „Tyrėjų gebėjimų stiprinimas“ priemonę „Mokslinių tyrimų ir eksperimentinės plėtros veiklų vykdymas pagal nacionalinių kompleksinių programų tematikas“. Finansavimo ir administravimo sutartis Nr. VP1-3.1-ŠMM-08-K-01-013 (2012-2015 m.,)
    Projekto tikslas – kelti tyrėjų kvalifikaciją ir kompetencijas kuriant unikalių optinių ir elektrinių savybių medžiagas ir struktūras, tinkamas naudoti puslaidininkių technologijose bei optiniuose ir matavimo prietaisuose, tobulinant ir kuriant naujus optinius tyrimų metodus. Projektas ir jame numatytos veiklos yra orientuotos į mokslininkų ir tyrėjų, dirbančių lazerių, nanotechnologijų ir elektronikos srityse kvalifikacijos ir kompetencijų didinimą, bei aukštos kompetencijos darbuotojų esamoms ir steigiamos įmonėms rengimą. Taip stengiamasi prisidėti prie mokslui imlaus ūkio sektoriaus stiprinimo, tyrėjų amžiaus mažinimo, „protų nutekėjimo“ problemos sprendimo bei viešojo sektoriaus patrauklumo užsienio investicijoms didinimo aukštųjų technologijų srityje. Tuo pačiu siekiama užtikrinti ES paramos lėšų panaudojimo kompleksiškumą, MTEP veikloms vykdyti naudojant įrangą, įsigytą Santakos slėnio plėtrai. Projekto uždavinys - kelti Kauno technologijos universiteto atskiruose padaliniuose ir srityse dirbančių mokslininkų ir tyrėjų kvalifikaciją bei kompetencijas, apjungti turimą mokslinį potencialą projekto tiksle numatytų veiklų įgyvendinimui, ypatingą dėmesį atkreipiant jaunųjų specialistų mokslinio potencialo vystymui. Siekiama pagilinti žinias atliekant tyrimus lazerių, nanotechnologijų ir elektronikos kryptyse, o jau įgytas žinias ir per MTEP veiklas pasiektus rezultatus skleisti tarptautinių konferencijų metu, publikuoti straipsniuose, įtrauktuose į ISI Web of Science duomenų bazę, įgytą patirtį skleisti Lietuvos aukštųjų technologijų įmonėse.
  • LMT Nacionalinės mokslo programos „Ateities energetika" projektas “ „Membraninių struktūrų technologijos kietųjų elektrolitų kuro mikroelementams“ (MIKROKOKE-2) (2012-2014) m.
    Įsisavinta gilaus joninio ėsdinimo technologija, atlikti pirmieji ėsdinimo eksperimentai. Indukciniu būdu žadinamos plazmos būdu silicyje suformuotos pradinės membraninės struktūros. Homogeniški YSZ ir GDC kompozitai su itrio oksidu bei cerio oksidu  buvo sėkmingai susintetinti vandeniniu zolių-gelių metodu. Sukonstruotas plačiajuostis spektrometras membraninėms struktūroms matuoti aukštose temperatūrose (dažnių diapazone nuo 1 Hz iki 1 GHz). Sukonstruoti tiesioginio lazerinio užrašymo ir interferuojančių pluoštų abliacijos stendai, kurie bus naudojami tolesniuose tyrimuose. Nustatytos spinduliuotės energetinių parametrų ribos GDC dangų tankinimui.
2011 m.
  • Mokslo, inovacijų ir technologijų agentūros finansuojamas Aukštųjų technologijų plėtros programos projektas "Nanostruktūrinės deimanto tipo anglies dangos šiuolaikiniams optinės metrologijos komponentams“ (vykdomas kartu UAB „Precizika Metrology“ 2011-2013 m.); Nano DLC.
    Projekto tikslas - panaudojus apsaugines deimanto tipo anglies dangas, prailginti šiuolaikinių optinės metrologijos komponentų naudojimo laiką. Vykdant projektą ir gaminant modernius šablonus bei stiklo skales patobulintos ir panaudotos naujos nanostruktūrinių deimanto tipo anglies dangų radijo dažnio plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės ir tiesioginio jonpluoščio nusodinimo technologijos. Ištirta įvairių rūšių plukdytojo stiklo ir Cr plėvelių paviršiaus paruošimo įtaka deimanto tipo anglies dangų adhezijai su padėklu, deimanto tipo anglies dangų sintezės parametrų įtaka šių dangų mechaninėms ir optinėms savybėms, deimanto tipo anglies dangų cheminės sudėties įtaka jų adhezijai su stiklo ir chromo padėklais, sukurtos dilimui atsparios deimanto tipo anglies dangos, tinkamos optinės metrologijos skalių bei šablonų apsaugai, atlikta deimanto tipo anglies dangomis apsaugotų skalių ir šablonų kritinių parametrų (piešinio tikslumo, kraštų grublėtumo, kraštų defektų, izoliuotų defektų, kampų užapvalėjimo, šviesos pralaidumo) analizė. Projektas priskirtinas esminių inovacijų kategorijai, nes šiuolaikinės deimanto tipo anglies dangos minėtame kontekste iki šiol dar nėra taikomos. Tikimasi, jog optinės metrologijos komponentų apsauga nuo senėjimo, panaudojant deimanto tipo anglies dangas, gerokai padidins pramoninio partnerio užimamą rinkos dalį.
2010 m.
  • LMT finansuotas mokslininkų grupės projektas „Naujų spektroskopinių metodų ir struktūrų, skirtų optiniams jutikliams, kūrimas (GLRS)“ (2010-2011 m.)
    Šiame darbe buvo vykdomi moksliniai tyrimai projektuojant naują automatizuotą spektroskopinių tyrimų stendą ir kuriant metodiką baltos šviesos atspindžio nuo difrakcinės gardelės spektroskopiniams matavimams. Sukurta specializuota programinė įranga matavimų automatiniam kaupimui ir rezultatų apdorojimui vykdyti. Atlikti spektroskopiniai matavimai esant jutikliui įvairiose terpėse bei keičiant optinės schemos konfigūraciją. Taikant UV kontaktinę litografiją ir Lazerinę interferencinę litografiją, bei plonų dangų formavimo technologijas (plonasluoksnių metalinių dangų formavimas ir amorfinės deimanto tipo anglies nusodinimas) buvo suformuotos skirtingo periodo ir mikroreljefo periodinės struktūros. Jų savybės buvo ištirtos atliekant poliarizuotos baltos šviesos atspindžio matavimus ir monochromatinės šviesos pralaidumo matavimus.
  • LMT Nacionalinės mokslo programos „Ateities energetika" projektas “Mikro- ir nanostruktūros kietojo oksido mikro kuro elementams“ (2010-2011 m.) (Kartu su VU, FTMC)
    Šio darbo tikslas - kietųjų oksidų mikro- kuro elementų komponentų (anodas, elektrolitas ir padėklas) technologijų paieška bei jų formavimas ir tyrimas, atsižvelgiant į mikro - kuro elementų specifiką.

    Šiame darbe pasiūlyti nauji zolių-gelių sintezės metodai itrio oksidu stabilizuotai cirkonio (YSZ) keramikai ant įvairių padėklų įmerkimo būdu gauti. Pirmą kartą parodyta, kad YZS dangoms formuoti galima naudoti vandeninį ir bevandenį zolių-gelių metodus. Gautų dangų kokybė įvertinta UV-regimosios atspindžio spektroskopijos metodu.

    Išnagrinėtas kietojo oksido mikro- kuro elementų (µ-KOKE) anodas-elektrolitas-katodas (AEK) elektrodų membranos formavimo būdas, kuriame po gilaus silicio ėsdinimo tetrametilamonio hidroksido vandeniniu tirpalu (TMAH), ėsdinimo sustabdymui panaudotas tarpinis SiO2 sluoksnis, kuris po AEK elektrodų membranos suformavimo gali būti sausai pašalinamas CF4/O2 dujų mišinio plazmoje. Nustatyta, kad silicio ėsdinimo greitis TMAH tirpale kristalografinės plokštumos <100> kryptimi siekė 0,45 mm/min, o kristalografinės plokštumos <111> kryptimi siekė 0,03 mm/min. Nustatyta, kad didesnio ploto (>1 mm2) SiO2 membranos dėl didelių įtempių nutrūksta, todėl, norint formuoti didesnio ploto membranas, būtina minimizuoti įtempius.

    Vakuuminiu plazminiu purškimu suformuotos kietos, porėtos, elektrai laidžios anodinės keramikinės kompozicinės Ni-NiO-YSZ dangos. Nustatyta, kad Ni ir NiO komponentės, esančios Ni-NiO-YSZ dangoje, lemia krūvio pernešimo procesus tirtame 30 - 300 °C temperatūros intervale ir, kad elektrinis laidumas priklauso nuo Ni masės dalies dangoje.

    Suformuotų Ni-NiO-YSZ dangų porėtumui pagerinti bei padidinti trijų fazių (elektrolito, anodo ir kuro dujų) sandūros plotą, buvo panaudotos lazerinės technologijos. Paveikus suformuotas dangas antros harmonikos Nd:YVO4 lazerio NL15100/SH („Ekspla“, 10 ns, 532 nm, 10 kHz) spinduliuote, keičiant spinduliuotės energijas, buvo nustatyta, kad 8 J/cm2yra kritinė spinduliuotės energija reikalinga suformuoti skyles Ni-NiO-YSZ dangoje, nepažeidžiant Al2O3 keraminio padėklo.

    Atlikti Ni elektrodo, formuojamo elektroninio spindulio garinimu, struktūrizavimo eksperimentai, naudojant lazerines technologijas, siekiant suformuoti dujų pralaidumo kanalus. Nustatyta, kad bandinys pragręžiamas kiaurai, kai PL10100/TH (10 ps, 355 nm) lazerinės spinduliuotės dozė viršija 300 mJ. Nanosekundiniams impulsams ši dozė yra lygi 4 mJ. Parodyta, kad abliuojant nikelio sluoksnį impulsų seka, kiekvienam papildomam impulsui abliacijos slenkstis mažėja. Akumuliacijos koeficientas visų naudotų bangos ilgių pikosekundiniams impulsams buvo panašus ir lygus 0,85. Gauti tokie nikelio sluoksnio abliacijos slenksčiai: Fth = 0,23 J/cm2 naudojant NL220/SH lazerinę sistemą (9 ns, 1064 nm); Fth = 0,47 J/cm2 naudojant PL10100/SH (10 ps, 532 nm); Fth = 1,2 J/cm2 –PL10100 sistemą (10 ps, 1064 nm) ir Fth = 1,58 J/cm2 naudojant PL10100/TH (10 ps, 355 nm) sistemos lazerinę spinduliuotę.

  • ES struktūrinių fondų finansuojami Jungtinės lazerių, naujųjų medžiagų, elektronikos ir nanotechnologijų bei taikomųjų mokslų ir technologijų nacionalinė kompleksinė programos (NKP) projektai: „Medžiagotyros, nano‐ ir šviesos technologijų bei aukštojo mokslo studijų šiose proveržio kryptyse infrastruktūros kūrimas (LaMeTech infrastruktūra)“
    (Projekto kodas: VP2‐1.1‐ŠMM‐04‐V‐02‐002) ir „I ir II pakopos studijų modernizavimas medžiagotyros, nano‐ ir šviesos technologijų proveržio kryptimis (LaMeTech studijos)“ (Projekto kodas: Nr. VP1‐2.2‐ŠMM‐09‐V‐01‐005) 2010‐2015 m. Kartu partneris su VU, VGTU, FTMC Įsigyta nauja analitinė ir technologinė įranga, naudojama tyrėjų ir studentų moksliniams darbams (vykdytos papildomos studentų praktikos), atnaujintos studijų programos.
2008 m.
  • Aukštųjų technologiju plėtros programos projektas „Nanostruktūrų formavimo ypatumai cementinėse statybinėse medžiagose: tyrimai ir technologinė plėtra“ (nano-CSM) (2008-2010 m.)
    (Kartu su VGTU Termoizoliacijos institutu, LEI, KTU Statybinių medžiagų ir konstrukcijų tyrimų centru, KTU Aukštųjų technologijų plėtros institutu, UAB ,,Statizola", UAB ,,Betoneta")

    Projektas skirtas sukurti naujas cementines statybines medžiagas (rišamąsias medžiagas, skiedinius, remontinius mišinius, betonus), kurių savybes lemia jų struktūroje susiformavusios nanostruktūros. Projekto metu nustatyti ir ištirti cementinės kompozitinės medžiagos, susidedančios iš kelių rišamųjų komponentų, nanostruktūrų formavimosi, jų reguliavimo principai ir šių struktūrų įtaka produkto savybėms bei įvertinta įvairių nanomodifikatorių (ceolitinių medžiagų, koloidinio natrio silikato tirpalo, mikro plaušo – gauto plazmocheminiame reaktoriuje) įtaka nanostruktūrų (CSH) susidarymui cementinėse medžiagose, ištirtos jų savybės, pateikiant pasiūlymus praktiniam panaudojimui.  

  • Aukštųjų technologiju plėtros programos projektas "Naujų holograminių apsaugos elementų kūrimas ir diegimas” (HOLOKID) (2008-2010 m.) (Kartu su KTU, Fizikos institutu ir UAB “Lodvila”)
    Šiuo projektu buvo siekiama plėtoti naujas holografines technologijas bei atlikti naujų perspektyvių medžiagų ir struktūrų, potencialiai pritaikomų apsaugos elementams, paiešką.
    Pirmaisiais projekto vykdymo metais buvo ištirta pradinio pasluoksnio įtaka elektrolitiniu būdu ant Si paviršiuje esančio mikroreljefo nusodinto nikelio sluoksnio mechaninėms savybėms bei mikroreljefo atkartojamumo parametrams gaminat spausdintines matricas. Sukurta ir optimizuota holografinio vaizdo formavimo mikrodifrakciniais elementais technologiją, suformuojant hologramas iš dviejų matmenų vaizdų. Apjungti kinegramų ir mikrodifrakcinių elementų hologramų formavimo procesai. Sukurta hologramų difrakcijos efektyvumo įvertinimo metodika, naudojant įvairių bangos ilgių spinduliuotę. Siekiant aukšto difrakcinio efektyvumo, optimizuotas originalios hologramos, naudojamos kuriant 3D vaivorykštinę hologramą, užrašymo procesas. Taikant pilnai vektorinį 3D pluošto sklidimo metodą, atlikti skaitmeninio hologramų projektavimo eksperimentai. Suprojektuotoms hologramoms realizuoti optimizuoti elektroninės litografijos parametrai. Ieškant naujų medžiagų elektroninių identifikavimo etikečių gamybai, atlikta aukštais krūvininkų judriais pasižyminčių organinių mažamolekulių skylinių puslaidininkių sintezė ir tyrimas, vykdyti organinių lauko tranzistorių formavimo ir tyrimo eksperimentai.
    Antraisiais projekto vykdymo metais buvo: ištirta ir  kiekybiškai įvertinta antrinimo režimų įtaka mikroreljefo kokybei, optimizuoti optinio antrinimo dideliame plote technologiniai režimai;  sukurta hologramų formavimo technologija apjungiant hologramų optinį antrinimą ir mikrodifrakcinių elementų hologramas; optimizuotas 3D hologramos užrašymo procesas, įvertinant temperatūrines deformacijas; atlikti 2D vaizdų, sukonstruotų iš taškinių šaltinių ir plokščių figūrų modeliavimo darbai greitosios Furjė transformacijos ir baigtinių skirtumų vektoriniu metodu; atlikti parengiamieji darbai 2D ir 3D hologramų kūrimui naudojant elektroninę litografiją; susintetinti ir ištirti elektroaktyvūs mažamolekulinių skylinių ir elektroninių puslaidininkių sluoksniai; sintezuoti ir apibūdinti teigiamų ir neigiamų krūvininkų pernašos konjuguoti polimerai ir oligomerai, ištirti procesai elektrodo ir  organinio puslaidininkio sandūroje, siekiant suformuoti organinį Šotkio diodą.
    Trečiaisiais projekto vykdymo metais nustatyta difrakcinių elementų optinių savybių kitimo dėsningumų priklausomybė nuo antrinimo proceso technologinių režimų, mikrostruktūros terminės replikos kokybė pagerinta, panaudojus aukšto dažnio virpesius, sukurtos ir pritaikytos 2D/3D hologramų formavimo technologijos, naudojant interferencinę lazerinę litografiją bei apjungiant du skirtingus hologramų formavimo būdus - 2D/3D hologramas ir mikrodifrakcinių elementų hologramas, 2D/3D hologramų kokybiniam vertinimui pritaikytas difrakcijos efektyvumo bei vaizdo signalo ir triukšmo santykio matavimas, optimizuota ir masinei optinių apsaugos elementų gamybai įdiegta mikrodifrakcinių elementų hologramų technologija,  sintetinių kompiuterinių hologramų projektavimui panaudotas naujas, tikslesnis ir spartesnis pilnai vektorinio 3D BPM RK4 algoritmas, paremtas ketvirtos pakopos Rungės Kutos metodu, suprojektuotos 2-jų ir 256-ių pilkumo lygių hologramos realizuotos storame PMMA sluoksnyje panaudojant elektroninės litografijos įrenginį, susintetintos trys naujos termiškai stabilios amorfinės organinės medžiagos potencialiai tinkamos vienpolių organinių tranzistorių ir šviestukų elektroaktyvių sluoksnių formavimui, ištirtos įvairių konfigūracijų organinių lauko tranzistorių voltamperinės charakteristikos.
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remiamas mokslinių tyrimų projektas “Fotoninių kristalų mikro-rezonatoriai” (2008 m.) (Kartu su Katalonijos Politechnikos Universitetu ir VU)
    Galutinis darbo tikslas - pagaminti, bei teoriškai ir eksperimentiškai ištirti tokius fotoninių kristalų rezonatorius ir įvertinti jų galimą taikymą optiniam informacijos apdorojimui. Šiame darbe buvo tiriami submilimetrinio ir mikrometrinio ilgio rezonatoriai užpildyti fotoninio kristalo terpe. Fotoniai kristalai dėl savo unikalių šviesos dispersijos ir difrakcijos savybių šiuo metu pasaulyje sulaukia labai didelio susidomėjimo ir yra plačiai tyrinėjami. Šiame projekte buvo tiriama hibridinė sistema, pasižyminti tiek rezonatoriaus, tiek fotoninio kristalo savybėmis. Tokia sistema pradėta tirti 2007 metais bendradarbiaujant VU Lazerinių tyrimų centrui, KTU Fizikinės elektronikos institutui ir Barselonos Politechnikos Universitetui (grupės vadovas K.Staliūnas). Darbo eigoje buvo išplėsti preliminarūs tyrimai, t.y. buvo atlikti eksperimentai su smulkesnėmis (mikrometrinio periodiškumo) struktūromis, taipogi su dvimatėmis fotoninėmis struktūromis.
2007 m.
  • LVMSF finansuojamas Prioritetinių Lietuvos mokslinių tyrimų ir eksperimentinės plėtros krypčių programos projektas "Nanostruktūriniai terahercinės fotonikos komponentai" (NanoKomponentai) (2007-2009) (Kartu su Puslaidininkių fizikos institutu)
    Šis nanodarinių eksperimentinio ir teorinio tyrimo projektas skirtas puslaidininkinės nanotechnologijos tobulinimui kompaktiškiems terahercinio (THz) dažnių ruožo emiterių ir jutiklių}, o taip pat ir pasyvių THz fotonikos elementų kūrimo reikmėms. Gauti rezultatai labai svarbūs, surandant kuriamiems prietaisams optimalius parametrus bei tinkamus darbo režimus jų eksperimentiniam realizavimui, o taip pat metamedžiagų technologijos vystymui. Tuo tikslu eksperimentiškai ištirti beriliu ir siliciu legiruoti GaAs/AlAs kvantiniai šuliniai ir GaAs/A1GaAs supergardelės, InAs kvantinių taškų-GaAs/A1GaAs supergardelių sistemos, GaN/AIGaN kvantiniai šuliniai bei iš jų pagamintų jutiklių prototipai 4.2-300 K temperatūrų ruože, naudojant ivairias - fotoatspindžio ir elektrinio atspindžio, fotovoltinio signalo ir fotoliuminescencijos, terahercinės fotosrovės bei fotoatsako, o taip pat Fourier - spektroskopines metodikas. Pasitelkiant Monte Karlo bei baigtinių-skirtumų laiko skalėje metodus, sumodeliuotas elektromagnetinių bangų sklidimas mikrocilindro formos THz kvantiniuose-kaskadiniuose lazeriuose, lštrti impulsinės terahercinės spinduliuotės mechanizmai puslaidininkio paviršiuje bei p-i-n sandūrose. Mokslinių tyrimų programa suskaidyta į septynetą darbo aprašų pagal eksperimentinio ir teorinio tyrimo temas, o taip pat metamedžiagų technologijos vystymo aspektus. Tyrimai vykdyti kartu su kolegomis iš Austrijos, Jungtinės Karalystės ir Vokietijos.
  • Aukštųjų technologiju plėtros programos projektas "Naujos mikromechaninės sistemos ir technologijos" (NAMSIS) (2007-2009 m.)(Kartu su KTU ir UAB “Sebra”)
    Pagrindiniai projekto rezultatai yra susiję su mechaninių ir mikromechaninių prietaisų (tiksliosios mechanikos komponentų) darymo technologijų kūrimu bei tobulinimu. Darbai apėmė tris pagrindines šios rūšies prietaisų darymo technologijų tobulinimo sritis. Visų pirma - tai naujų patobulintų tiksliosios mechanikos prietaisų darymo technologijų tokių kaip vibracinis pjovimas įsisavinimas ir optimalių proceso salygų parinkimas. Antra – pačio proceso kontrolės gerinimas, panaudojant apdirbančiosios detalės (įrankio) būklės ir jos dilimo stebėjimą proceso metu siekiant išvengti įrangos gedimų susijusių su dilimo procesais bei gaminamos detalės sugadinimo. Tam tikslui sukurtas mikromechaninis jėgos jutiklis. Trečioji darbų kryptis susijusi su technologinių įrenginių apdirbančiųjų detalių konstrukcijos tobulinimu didinant jų atsparumą dilimui. Tai pasiekta sukuriant naują apsauginių dangų darymo technologiją 
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remiamas mokslinių tyrimų projektas T-07314 “Deimanto tipo nanokompozitinių dangų (DYLYN) sintezė ir tyrimas” (2007 m.)
    Deimanto tipo anglies dangos (DTAD) susilaukė didelio mokslininkų susidomėjimo dėl jų unikalių savybių tokių kaip itin didelis kietis, atsparumas dilimui bei korozijai, mažas trinties koeficientas, cheminis inertiškumas, optinis skaidrumas, galimybė keisti elektrinį laidumą labai plačiose ribose (nuo pusiau laidžių dangų iki dangų su varža artima plačiausiai naudojamo dielektriko, silicio dioksido, varžai). DTAD savybės gali būti kontroliuojamos įvedant į augančią dangą įvairių priemaišų. Priklausomai nuo priemaišų tipo bei dangos auginimo sąlygų, kai kuriais atvejais priemaišų atomai augančioje DTAD visų pirma jungiasi tarpusavyje sudarydami klasterius. Tokios dangos, vadinamos deimanto tipo nanokompozitinėmis dangomis, būdingos naujos savybės. Bene plačiausiai iš šios klasės dangų yra tyrinėjamos dangos žinomos DYLYN (diamond like nanocomposite) pavadinimu (šį pavadinimą išpopuliarino belgų firma Bekaert, užsiimanti apsauginių dangų sintezės darbais). Tai SiOx turinčios deimanto tipo anglies dangos, susidedančios iš persikertančių hidrogenizuotos amorfinės anglies ir SiOx tinklų, kur SiOx klasteriai gali būti tiek amorfiniai tiek ir kristaliniai. DYLYN dangos, palyginus su paprastomis DTAD, pasižymi didesniu atsparumu plyšimui, daug mažesniai įtempiais esant tokiam pat dangos kiečiui, augimo greičiu, optiniu pralaidumu, hidrofobiškumu, terminiu stabilumu.
    Šiame darbe tiriama jonų pluošteliu sintezuojamų deimanto tipo anglies nanokompozitinių dangų (DYLYN) struktūros, elektrinių bei optinių charakteristikų priklausomybė nuo sluoksnių nusodinimo technologinių sąlygų. Ieškoma galima koreliacija tarp dangų cheminės sudėties ir struktūros bei jų charakteristikų. Įsisavinamas naujas dangų savybių vertinimo metodas, įgalinantis geriau kontroliuoti DYLYN nusodinimo technologinį procesą - optinės emisijos spektroskopija.  
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remiamas mokslinių tyrimų projektas T-07354 “Mikrodifrakcinių elementų kūrimas ir taikymas” (2007 m.)
    Projektas skirtas sukurti ir sudaryti prielaidas naujos metodikos – holografinio vaizdo formavimui mikrodifrakciniais elementais, tuo būdu pasiekti naują slaptumo laipsnį dokumentų apsaugoje nuo klastojimo. Projekto eigoje bus diegiama unikali mikrodifrakcinių elementų formavimo įranga bei technologija taip pat jų pritaikymas optinių priemonių gamyboje (dokumentų ir prekių apsaugai nuo klastojimo bei padirbinėjimo). Vykdant projektą, bus sukurta optinė schema, optimizuota lazerinės interferencinės litografijos technologija mikrometrinėms sritims naudojant 442 ir 405 nm lazerių spinduliuotę. Bus sukurta mikrodifrakcinių elementų orientuoto išdėstymo metodika bei pasiūlyta proceso technologija. Taip pat bus sukurta metodika mikrodifrakcinių elementų kiekybiniam vertinimui naudojant optinius ir kontaktinius metodus.
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remiamas mokslinių tyrimų projektas T-07312 “Sidabro nanodariniai jonizuojančios spinduliuotės poveikio tyrimams” (2007 m.)
    Šiame darbe buvo ištirti supermolekulinių sidabro junginių sintezės metodai dendrimerinių polimerų pagrindu. Sidabro-dendrimero junginys, esant tam tikram spindulių poveikiui (UV, IR ir jonizuojančios spinduliuotės), formuoja sidabro nanodaleles – nulinio valentingumo klasterius su tam tikru sidabro atomų kiekiu, kas lemia jų dydžius ir kiekį skystoje terpėje. Sidabro-dendrimero irimo kinetikos tyrimas, esant įvairiems poveikiams, leidžia prognozuoti sidabro nanodalelių patekimą į biologinę skystąją terpę, įvertinti jų stabilumą laiko atžvilgiu. Kompleksinis sidabro nanoklasterių tyrimas (rentgeno spindulių difrakcija, zondiniai metodai, optinė spektroskopija, elektroninė mikroskopija) leido apibendrinti pagrindinius sidabro-dendrimerų junginių formavimo etapus, jų savybes ir panaudojimą jonizuojančios spinduliuotės diagnostikoje, suformuotos technologinės naudojimo biologinėse ir kitose terpėse rekomendacijas
2006 m.
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remtas mokslinių tyrimų projektas T-06064 "Sidabro nanodariniai polimeruose" (2006 m.)
    Pagrindinis tikslas, kurio siekė mokslininkų grupė buvo: suformuoti sidabro nanokompozitinius sluoksnius ant plonasluoksnių polimerinių struktūrų, garinant sidabrą vakuume arba nusodinant iš koloidinių tirpalų.
    Vykdant darbus, buvo sintetinami sidabro nanodariniai koloidiniame tirpale panaudojus sidabro druskų sidabro nitrato) redukciją bei mikrobanginės spinduliuotės poveikį, įvertintas tirpalų stabilumas paveikus UV ( 254 ir 325 nm) spinduliuote. Sukurta unikali sidabro nanodarinių pernešimo ant modifikuotojo kvarcinio stiklo technologija, įvertintos sidabro nanodarinių  polimerinėje matricoje optinės savybės, sidabro polimero struktūros paviršiaus morfologija, kristalinė sandara, panaudojus UV-VIS ir FTIR spektroskopiją, AJM bei rentgeno struktūrinę analizę. Sidabro nanodariniai taip pat suformuoti panaudojus sidabro garinimą elektroninių spindulių ant polimerinių ir modifikuotojo polimerais kvarcinio stiklo pagrindų.
    Naudojant koloidinius sidabro nanodarinių tirpalus, pavyko suformuoti sidabro nanodarinius PS-PMMA polimerinėje matricoje. Sidabrų dalelių dydis polimerinėje matricoje kito nuo 60 iki 100 nm su sidabro sferinėms dalelėms  būdingomis optinėmis savybėmis. Nustatyta, kad naudojant sidabro garinimą elektroniniu spinduliu, galima suformuoti salelinės struktūros sidabro nanodarinius ant modifikuotojo polimerais bei jų mišiniais  kvarcinio stiklo pagrindo. Polimerinio mišinio paviršiaus, ant  jo užgarinus 10 nm  storio sidabro sluoksnį, šiurkštumo vertės priklauso nuo polimerinio mišinio koncentracijos (25% PS-75% PMMA: nuo 26 nm iki 7,2 nm;  50% PS-50% PMMA: nuo 6,9 nm iki 6,8 nm).  Paviršinių plazmonų rezonanso smailės bangos ilgis ( 420 - 550 nm) priklauso ne tik nuo polimero, pagrindo prigimties,  bet ir sluoknio storio. Ištirtas sidabro nanodalelių tirpalų stabilumas, esant UV spinduliavimui.Nanodalelių dydžio pokytis (sumažėjimas ir SPR poslinkis į mėlynąją sritį) stebimas tik po 2 valandų apšvitos  254 nm UV spinduliuote.
2005 m.
  • Prioritetinių Lietuvos mokslinių tyrimų ir eksperimentinės plėtros krypčių programos projektas “Naujos kartos nanometrinių protakų su dvimatėmis elektronų dujomis fliuktuacinė spektroskopija” (FLIUKTUACIJOS)(2005-2006m.) (Kartu su PFI, VU, VU TFAI)
    Projekto paskirtis: išplėsti Puslaidininkių fizikos instituto Fliuktuacinių reiškinių bei Vilniaus universiteto Triukšmų tyrimo laboratorijose sukurtų originalių fliuktuacinių metodų panaudojimo sritį tiriant ypač sparčius kinetinius vyksmus bei fliuktuacijas naujos kartos nanodariniuose iš įtempto silicio, įtempto silicio-germanio, galio arsenido, indžio fosfido, galio nitrido bei jiems giminingų puslaidininkių. Tikslas – tarptautiniu lygiu dalyvauti kuriant sparčiosios elektronikos bei optoelektronikos fizikinius pagrindus, tuo įtakojant aukštųjų technologijų raidą Lietuvoje ir pasaulyje. Kauno technologijos universiteto Fizikinės elektronikos instituto mokslo darbuotojų dalyvavimas projekte leido sėkmingai ir laiku spręsti iškylančias technologines problemas: šio instituto mokslininkai turi patirtį A3B5 puslaidininkių bei jų darinių Šotkio ir ominių kontaktų formavimo bei paviršiaus paruošimo (jonpluoščio bei chalkogenidų tirpalais) srityse. Vykdant projektą buvo panaudota Vilniaus universiteto Teorinės fizikos ir astronomijos instituto teoretikų kvalifikacija, sukaupta tiriant fliuktuacijų šaltinius.
    Konkretus darbo tikslas – sparčių ir labai sparčių elektroninių vyksmų fliuktuacinės spektroskopijos pažanga ir jos panaudojimas tiriant naujos kartos darinius, skirtus greitaveikei silicio ir A3B5 junginių elektronikai ir optoelektronikai. Fliuktuaciniai metodai, kurie buvo sukurti anksčiau ir aprobuoti tiriant AlGaN/AlN/GaN, AlGaN/GaN darinius, buvo ištobulinti juos pritaikant mikrobangų ruožo lauko tranzistorių ir heterodarinių tranzistorių protakų eksperimentiniams tyrimams, įskaitant neardantį darinio savybių tikrinimą (on-wafer characterization). Pagrindinis dėmesys buvo skiriamas įtemptoms nanometrinio storio silicio protakoms, įspraustoms tarp SiO2 sluoksnių (SiO2/Si/SiO2), įtemptoms (pseudomorfinėms) Si/Ge protakoms, suderintoms ir pseudomorfinėms A3B5 junginių protakoms su dvimatėmis elektronų dujomis, bei kitoms. Unikali impulsinė mikrobangų ruožo elektrinių triukšmų matavimo metodika buvo panaudota karštųjų elektronų energijos relaksacijos trukmės, karštųjų fononų suirimo trukmės priklausomybėms nuo elektrinės galios bei gamybos technologijos ypatumų. Buvo išplėtoti teoriniai sparčiųjų kinetinių vyksmų, jų relaksacijos laikų ir fliuktuacijų spektrinių priklausomybių tyrimo metodai. Teoriškai įvertintas elektronų išsigimimo įtaką fliuktuaciniams reiškiniams dvimatėse elektronų dujose. Panaudojant unikalią žemo dažnio triukšmo charakteristikų matavimo metodiką, buvo tiriamos naujos sandaros itin sparčių optoelektronikos prietaisų (GaInAsP/InP, GaAs/AlGaAs ir GaN lazerinių bei šviesos diodų su nanodariniais, InGaAs griūtinių ir p-i-n fotodiodų) triukšmų charakteristikos, įvertinta triukšmo charakteristikų ypatybių sąsaja su minėtų prietaisų sandaros ir gamybos technologijos ypatumais, kokybe ir ilgaamžiškumu. Bendradarbiaujant su gamintojais buvo nustatyti veiksniai, lemiantys šių prietaisų veikimo charakteristikas ir patikimumą, bei galimybes tobulinti prietaisų sandarą ir gamybos technologiją. Tiek teoriškai, tiek eksperimentiškai buvo tiriamos greitaveikių puslaidininkinių lazerių su kvantiniais dariniais dinaminės, impulsinės ir dažninės charakteristikos, įvertinti krūvininkų ir fotonų parametrai lazerinės veikos srityje.
  • Aukštųjų technologiju plėtros programos projektas "Naujų mikroreljefo formavimo technologijų tobulinimas ir diegimas" (MINATECH)(2005-2006m.) (Kartu su KTU, VU, FI, AB "Ekranas", UAB "Lodvila")
    Projektas buvo skirtas naudojamų litografinių procesų tobulinimui, naujų ir našių mikro- ir nanoreljefo formavimo technologijų (optinės holografijos, terminio spaudimo ir nanoįspaudimo litografijos) sukūrimui, jų taikymui optinių priemonių gamyboje (dokumentų ir prekių apsaugai nuo klastojimo bei padirbinėjimo) bei naujos kartos funkcinių organinių nanoelektronikos ir nanooptoelektronikos elementų (fotoninių kristalų, planarinių bangolaidinių struktūrų, lauko tranzistorių) kūrimui. Projektu siekta vienyti mokslo ir studijų institucijų bei aukštųjų technologijų pramonės subjektų bei aukštųjų technologijų produktų vartotojo ir diegėjo (UAB "Lodvila") pastangas mokslinių tyrimų ir naujų technologijų diegime.
    Įgyvendinus projektą, sukurta nauja pažangi dokumentų ir prekių apsaugos nuo klastojimo technologija, kuri įdiegta UAB “Lodvila” (spaustuvėje, turinčioje licenciją spausdinti vertybinius popierius), parengta hologramų gamybos ir kontrolės technologinė dokumentacija. Taikant naujas formavimo technologijas, sukurtas fotoninio bangolaidinio prietaiso prototipas (pasyvus optinis filtras su dispersijos kompensatoriumi 1.5 mm bangos ilgiui); fotoninio plazmoninio bangolaidinio prietaiso prototipas (pasyvus optinis filtras ir plazmoninis bangolaidis 2-12 mm bangos ilgių spektrinei sričiai), organinio lauko tranzistoriaus prototipas (tam naudojant unikalias medžiagas).
2004 m.
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remtas mokslinių tyrimų projektas T-04169 "Mikromechaninių sistemų technologijų taikymai" (2004 m.)
    Taikant paviršinio mikromontavimo technologiją, sukurti elektrostatiniu būdu valdomi mikrojungiklis bei mikromotoras. Optimizuoti šių prietaisų technologiniai parametrai bei ištirtos dinaminės savybės, taikant skaitinės holografinės interferometrijos metodą. Sukurta nauja technologija, apjungianti difrakcinės gardelės nanoįspaudimą, grafikos formavimą poliruotų štampų rinkiniu bei reaktyvųjį joninį ėsdinimą. Sukurtoji elektroninės speklų raibumų interferometrijos įranga su kompiuteriniu valdymu bei metodika pritaikyta laisvųjų plonų metalinių, dielektrinių ir daugiasluoksnių plėvelių plastinių ir elastinių savybių nustatymui. Ypač svarbūs rezultatai gauti, tiriant deimanto tipo anglies plėveles, kuriose šiuo metodu nustatytas ryšys tarp fazinės sudėties ir mechaninių įtempių dydžio. Sukurtas originalios konstrukcijos elektrocheminio ėsdinimo stendas. Atlikta eilė eksperimentų.
2003 m.
  • Aukštųjų technologijų plėtros programa "Žmogaus sveikatinimo(si) aukštosios technologijos ir iranga" (2003-2005 m.) (Kartu su KTU, KMU)
    Sukonstruotas kompiuterizuotas įrenginys, termoelektriniais moduliais (TEM) galintis šaldyti arba šildyti objektą, sukurta programine iranga. Eksperimentiškai ištirti skirtingi raumenys, ivertinti šilumos srautai cikliniu ir ilgalaikiu šildymu ir šaldymu. Nustatyti kiekybiški skirtumai skirtingų raumenų grupių reakcijų į šildymo ir šaldymo procesus.
  • LVMSF finansuojamas Lietuvos mokslininkų grupės darbas "Mikromontuojamų talpinių keitiklių sandaros optimizavimas" (2003-2005 m.) Kartu su KTU Panevėžio Institutu
    Kuriama mikromontuojamų talpinių ultragarso keitiklių, skirtų darbui ultragarsiniuose debitomačiuose sandara, optimali keitiklio techninių savybių bei keitiklio pagaminimo savikainos prasme.
2002 m.
  • LVMSF kompleksinis mokslo tyrimo darbas Nr. K-070 "Sunkiųjų metalų sorbcijos dirvožemyje fizikiniai cheminiai reiškiniai, jų poveikis mikroorganizmų ir fermentų aktyvumo kaitai bei priemonių dirvožemio remediacijai paieška". (2002-2004 m.) (Kartu su LŽUU).
    Tiriama sunkiųjų metalų sorbcija dirvožemyje.

Tarptautiniai projektai

2015 m.
  • LMT finansuojamas Lietuvos ir Baltarusijos dvišalio bendradarbiavimo projektas „Iš garų fazės chemiškai nusodinto grafeno nanostruktūrų elektroninės ir plazmoninės savybės“ (2015-2016 m.)
    Projekto tikslas - nustatyti iš garų fazės chemiškai nusodinto grafeno struktūrinių, elektroninių ir plazmoninių savybių tarpusavio ryšius ir jų taikymo naujiems informacijos perdavimo ir apdorojimo elementams galimybes.
    Projekto uždaviniai:  Optimizuoti grafeno cheminio nusodinimo iš garų fazės technologiją; Sukurti ir optimizuoti grafeno pernešimo nuo metalinio katalizatoriaus padėklo ant kitų paviršių technologiją; Nustatyti iš garų fazės chemiškai nusodinto ir pernešto grafeno struktūrą; Sukurti metalo ir metalinių kontaktų formavimo grafeno paviršiuje technologiją; Teoriškai ir eksperimentiškai ištirti metalo/grafeno heterostruktūrų efektus; Sukurti grafeno nanostruktūrų formavimo technologiją; Suformuoti iš garų fazės chemiškai nusodinto grafeno nanostruktūras ir ištirti jų struktūrines bei elektronines savybes temperatūrų intervale nuo 4 iki 300 K.;  Sudaryti grafeno nanostruktūrų plazmoninių savybių teorinį modelį ir atlikti plazmoninių savybių matavimus subteraherciniame diapazone.
  • LMT finansuojamas projektas „Sidabro nanodalelių ir jų klasterių saviorganizacija ir plazmoninės savybės“ (PLAS) Bendri Lietuvos-Japonijos mokslo ir sklaidos projektai (2015-2017m.)
    Projekto tikslas ‐ išsami ultrasparčių energijos relaksacijos procesų, vykstančių katalitinėmis savybėmis pasižyminčiose plazmoninėse nanostruktūrose, analizė. Naudojant kapiliarinių jėgų valdomą nanostruktūrų nusodinimą iš koloidinių tirpalų technologiją bei nanokaukes bus manipuliuojama daugiabriaunių sidabro nanodalelių išdėstymu bei našiai formuojami didelio ploto tvarkingi nanodalelių masyvai. Nanometrinės skyros kaukės bus formuojamos naudojant elektroninę bei elektroninę bei „minkštąją“ nanolitografijas. Nanostruktūrų fotokatalitinių savybių bei ultrasparčių energijos relaksacijos procesų ir jų priklausomybės nuo nanodalelių dydžio, formos ir išdėstymo tyrimams bus naudojama ultrasparti  skirtuminė sugerties spektroskopija. Atsižvelgiant į nanodalelių kompleksų sugertį bei parinktus lazerinio poveikio parametrus, bus atliekami nanodalelių kaitinimo eksperimentai bei  tiriama jų įtaka energijos relaksacijos procesams. Darbo uždaviniai yra: Įvairios erdvinės konfigūracijos Ag ir Ag‐TiO2 nanodalelių sintezė; Nanodarinių bei nanodalelių dydžių skirstinių, jų kristališkumo, morfologijos cheminės sudėties bei erdvinės konfigūracijos apibūdinimas; Tvarkingų nanodalelių masyvų suformavimas naudojant kapiliarinių jėgų nusodinimą ant litografiškai tekstūruotų reljefų; Sudėtingos erdvinės konfigūracijos nanodalelių bei jų tvarkingų masyvų energijos relaksacijos procesų apibūdinimas skirtuminės sugerties spektrometru; Nanodalelių formos ir savybių pokyčių dėl ultrasparčiosios lazerinės spinduliuotės poveikio vertinimas. Projekto metu bus išvystytas kapiliarinio nusodinimo metodas ir pritaikytas efektyvių fotokatalitinių bei paviršiaus sustiprinto Ramano sklaidos nanometrinių matmenų dvimačių masyvų formavimui. Tikimasi, kad projekto partnerių laboratorijoje ruošiamos įvairių formų daugiabriaunės Ag nanodalelės padidins fotokatalizės našumą ir dėl Ag nanodalelių poveikio  tikimasi praplėsti  TiO2 sugertį į ultravioletinę (UV) ir artimąją infraudonąją sritis (NIR).ES Baltijos jūros regiono strateginio įgyvendinimo priemonė „Pinigai naujai pradžiai“ (Seed Money facilities) projektas „Baltijos tyrimų, technologijų ir inovacijų infrastruktūros platforma (BIRTI Platform) (2015-2016 m.) http://www.birti.eu/en/
  • ES Baltijos jūros regiono strateginio įgyvendinimo priemonė „Pinigai naujai pradžiai“ (Seed Money facilities) projektas „Baltijos tyrimų, technologijų ir inovacijų infrastruktūros platforma (BIRTI Platform) (2015-2016 m.)
    Projektu siekiama sukurti medžiagų mokslo vystymui Baltijos regiono šalyse inovatyvią aplinką, kuri pasitarnaus kaip pridėtinė vertė įmonėms, dirbančioms inovacijų srityje. Projekte (BIRTI Platforma) išskiriamos trys prioritetinės kryptys:  1) Vieninga mokslinės įrangos platforma su aiškiai vartotojui suprantamu turiniu; 2) Mokslinių tyrimų ir eksperimentinės plėtros įmonės; 3) Galimybės platformos dalyviams įgyti naujų žinių medžaigų mokslo srityje. Visos veiklos yra nukreiptos į efektyvų įrangos naudojimą, MTEP veiklas Baltijos regiono šalyse, kurios didintų regiono konkurencingumą tarptautinėje rinkoje. Projekte pristatomos veiklos orientuotos į rinkos veiklas, kuriose mokslo įstaigos bendradarbiauja su pramone, ir aiškinama tokio bendradarbiavimo nauda.
  • COST projektas MP1407 ,,Elektrocheminio apdirbimo metodologijos bei apsauga nuo korozijos įrenginių ir sistemų miniatiūrizacijai“ (2015-2019 m.) kartu su VU
    Pagrindiniai projekto rezultatai bus susiję su elektroanodavimo technologijų kūrimu ir galvanizavimo procesų taikymais

2014 m.

  • LMT finansuojamas projektas „Nanokompozitinių plonasluoksnių difrakcinių gardelių jutiklių modeliavimas ir sukūrimas“, vykdomas pagal Lietuvos Respublikos švietimo ir mokslo ministerijos ir Ukrainos valstybinės mokslo, inovacijų ir informatizacijos agentūros bendradarbiavimo mokslinių tyrimų ir technologijų srityje 2011-2015 metų programą (2014-2015 m.).
    Šio projekto mokslinio ir technologinio bendradarbiavimo tikslas - sukurti naujus nanokompozitinius plonasluoksnius difrakcinių gardelių optinius jutiklius. Siekiant šio tikslo, per ataskaitinį laikotarpį buvo atliekamas deimantiškosios anglies ir sidabro nanokompozitinių plonasluoksnių medžiagų, gautų magnetroniniu nusodinimu, modeliavimas ir tyrimas. Projekto metu buvo modeliuojamos, formuojamos bei tiriamos nanokompozitinės plonasluoksnės periodinės struktūros, atliekamas jų parametrų optimizavimas prieš bandomųjų pavyzdžių suformavimą. Ukrainos mokslininkai atliko modeliavimą ir tyrimus deimantiškosios anglies nanokompozitinių medžiagų optinių parametrų, priklausančių nuo dielektrinės matricos medžiagos, nuo nanodalelių medžiagos, nuo nanodalelių dydžio, formos ir koncentracijos. Nanodalelių optinės savybės buvo tiriamos taikant Mie teoriją. Nanokompozitinių medžiagų efektyvioji dielektrinė skvarba buvo modeliuojama taikant Maksvelo-Garneto teoriją, o sidabro nanodalelių koncentracijai kintant nuo kelių dešimtųjų iki keleto atominės koncentracijos vienetų – taikant Bruggemano ir Šengo teoriją. Lietuvos mokslininkai sukūrė plėvelių su atitinkamais parametrais sintezės technologiją. Optimizuojant reaktyviojo magnetroninio dulkinimo technologiją, buvo parenkami nusodinimo parametrai ir technologinis maršrutas. Šiam uždaviniui spręsti naudoti SEM, EDX, ESCA, XRD, FTIR ir Ramano sklaidos tyrimai. Magnetroniniu reaktyviuoju dulkinimu gautų plėvelių optinės savybės buvo palygintos su modeliavimo rezultatais. Naudojant elektroninę litografiją bei holografinę litografiją deimantiškosios anglies ir sidabro nanokompozitų sluoksniuose buvo formuojamos periodinės struktūros. Buvo atlikti holografinės litografijos interferencinių vaizdų modeliavimo skaičiavimai bei pagamintos periodinės submikrometrinės struktūros tam naudojant Loido interferometrą. Taip pat buvo atliekami elektromagnetinės spinduliuotės sąveikos su periodinėmis struktūromis, suformuotomis nanokompozitinėse plėvelėse, skaitinio modeliavimo tyrimai. Skaičiavimams naudotos Maksvelio lygtys sudarant tikslų matematinį difrakcijos modelį įvairioms gardelėms. Ukrainos mokslininkai taikė tikslų susietų bangų metodą (RCWA), o Lietuvos mokslininkai – baigtinių skirtumų metodą laiko erdvėje (FDTD).
  • ES Baltijos jūros regiono strateginio įgyvendinimo priemonė „Pinigai naujai pradžiai“ (Seed Money Facilities) projektas S29-Power Electronics for Green Energy („Green power electronics“) (2014-2015 m.)
    Šiame projekte, konkrečiai, bus sprendžiamos tarptautinio bendradarbiavimo problemos kuriant, projektuojant, gaminant ir naudojant elektroninius prietaisus, kurie padeda efektyviai ir taupiai naudoti elektros energiją. Suinteresuotos šalys Lietuvoje: mokslo – KTU, VGTU, Perspektyvinių technologijų taikomųjų tyrimų institutas, pramonės – fotoelektros technologijų pramonė (Solitek įmonių grupė, Precizikos įmonių grupė, UAB ViaSolis, UAB Moderinios E-technologijos ir kt.), jėgos elementų gamintojas UAB Vilniaus Ventos Puslaidininkiai, kabelių gamintojai (AB Lietkabelis), inovatyvių namų fasadų ir į juos integruotos jėgos elektronikos gamintojai (pvz., UAB Glassbel).
    Projekto nauda bus ekonominė-technologinė (gamyba, naudojimas viduje, eksportas), taip ir tarptautinio bendradarbiavimo prasme sprendžiant bendras problemas.
2012 m.
  • COST MP1205 projektas „Pažanga optoskysčiuose: optinės kontrolės ir fotonikos integracija su mikroskysčiais“ vykdomas 2012-2016 m. kartu su Austrijos, Belgijos, Čekijos, Danijos, Suomijos, Prancūzijos, Vokietijos, Graikijos, Vengrijos, Islandijos, Airijos, Izraelio, Italijos, Lietuvos, Lenkijos, Portugalijos, Serbijos, Slovėnijos, Ispanijos, Turkijos ir Jungtinės Karalystės mokslo institucijomis (Kartu su Austrijos, Belgijos, Čekijos, Danijos, Suomijos, Prancūzijos, Vokietijos, Graikijos, Vengrijos, Islandijos, Airijos, Izraelio, Italijos, Lietuvos, Lenkijos, Portugalijos, Serbijos, Slovėnijos, Ispanijos, Turkijos ir Jungtinės Karalystės mokslo institucijomis)
    Šios COST veiklos tikslas yra skatinti aktyvų bendradarbiavimą tarp laboratorijų, dirbančių mikro ir optoskystinių prietaisų, nanomokslo, fotonikos, biomedžiagų srityje, apjungiant jų pastangas kuriant vienlustes mikroanalizės sistemas. Tikimasi, jog šis projektas pagilins fundamentalias mikro ir nano sistemų fizikos ir biologijos žinias, paskatins naujos kartos portatyvinių ir nebrangių, bet kartu pakankamai tikslių ir patikimų, mikroanalizės sistemų kūrimą.
2011 m.
  • 2007–2013 m. Baltijos jūros regiono (BJR) programos projektas „Tarptautinis švariųjų kambarių ir mokslinių tyrimų įrenginių tinklas nanotechnologijoms, užtikrinantis Baltijos regiono mažų įmonių prieigą prie inovacijų išteklių ir paslaugų (Technet_nano)“ (vykdytas kartu su 11 partnerių iš Lietuvos, Latvijos, Estijos, Lenkijos, Švedijos, Danijos ir Vokietijos 2011-2014 m. (Kartu su 11 partnerių iš Lietuvos, Latvijos, Estijos, Lenkijos, Švedijos, Danijos ir Vokietijos). http://www.technet-nano.eu      
    Sukurtas BJR tinklas, vienijantis šiame regione esančias organizacijas, turinčias jau veikiančius ar planuojamus artimiausiu metu atidaryti švariuosius kambarius. Planuojama, kad šis tinklas teiks paslaugas mažoms ir vidutinėms verslo įmonėms, kurių sėkmingai veiklai užtikrinti reikalingos ypatingos technologinės sąlygos, analitinė ir technologinė aparatūra. Dauguma švariųjų kambarių yra specializuoti ir pritaikyti tam tikroms technologijoms, todėl tarptautinio tinklo sukūrimas sudaro sąlygas didinti atskiruose kambariuose esančios įrangos, teikiamų technologinių ir analitinių paslaugų mikro- ir nanotechnologijų srityje prieinamumą BJR šalių smulkiosioms ir vidutinėms įmonėms, skatina bendradarbiavimą ir didina inovatyvių idėjų sklaidą mikro- ir nanotechnologijų srityje BJR gamybos ir tyrimų įstaigose. Tikimasi, kad vykdomas projektas taip pat stiprins ir tinklo partnerių bendradarbiavimą ir inicijuos naujus bendrus projektus. Šiuo metu kuriamos projekto partnerių kompetencijų, įrangos, siūlomų technologinių ir analitinių paslaugų, sukurtų produktų duomenų bazės padidinsiančios BJR mikro- ir nanotechnologijų srityje dirbančių aukštos kompetencijos centrų matomumą ir mokslinės informacijos sklaidą.
  • IBM tyrimų centro projektas „Nanotechnologinės apsauginės žymės aukštos vertės produktams (NANO3)“ (2011) (Vykdytas kartu su IBM)
    Šiuo projektu kartu su IBM partneriais siekta sukurti apsaugines žymes, bei jų struktūrų didelės skiriamosios gebos kūrimo technologiją, kurioje naudojamas mezo ir nanometrinių matmenų dalelių saviorganizacijos procesas. Vykdant projektą sukurta ir pritaikyta pagal projekto partnerių poreikius periodinių struktūrų formavimo technologija naudojant interferencinę lazerinę litografiją. Parenkant tinkamus technologinių procesų parametrus struktūrų kokybiniam vertinimui pritaikytas difrakcijos efektyvumo matavimas bei matavimai optiniu ir elektroniniu mikroskopu. Suformuotos struktūros perduotos projekto partneriams ir sėkmingai pritaikytos tolimesnių užduočių vykdymui.
2009 m.
  • COST MP0804 projektas “Didelio tankio impulsinės plazmos procesai” vykdytas 2009-2013 m. kartu su Airijos, Austrijos, Belgijos, Danijos, Graikijos, Islandijos, Ispanijos, Jungtinės karalystės, Lenkijos, Lietuvos, Olandijos, Portugalijos, Prancūzijos, Suomijos, Švedijos, Šveicarijos, Turkijos, Vokietijos mokslo institucijomis (Vykdytas kartu su Airijos, Austrijos, Belgijos, Danijos, Graikijos, Islandijos, Ispanijos, Jungtinės karalystės, Lenkijos, Lietuvos, Olandijos, Portugalijos, Prancūzijos, Suomijos, Švedijos, Šveicarijos, Turkijos, Vokietijos mokslo institucijomis)
    Dalyvauta susitikimuose, jų metu klausytasi paskaitų apie įvairius impulsinę plazma naudojančius plonų sluoksnių auginimo procesus, visų pirma, didelės galios impulsinį magnetroninį dulkinimą, keistasi patirtimi šioje srityje bei ieškota potencialių partnerių galimiems 7-osios bendrosios ES mokslo programos projektams
2008 m.
  • COST MP0803 projektas “Plazmoniniai komponentai ir prietaisai” vykdomas 2008-2012 m. kartu su Airijos, Austrijos, Belgijos, Čekijos, Danijos, Graikijos, Jungtinės Karalystės, Islandijos, Ispanijos, Italijos, Izraelio, Latvijos, Lenkijos, Nyderlandų, Prancūzijos, Portugalijos, Suomijos, Švedijos, Šveicarijos, Turkijos mokslo institucijomis
    Pagrindinis COST MP0803 tikslas yra skatinti, koordinuoti ir stiprinti Europos mokslinį ir technologinį bendradarbiavimą plazmonikos srityje. Tikslas yra padidinti žinojimą apie fundamentalius plazmoninių struktūrų principus, ir panaudoti plazmonines struktūras informacinėse technologijose bei biojutiklių technologijoje.
  • COST MP0604 projektas „Optinis mikro-manipuliavimas su netiesine nano-fotonika“ (2008-2011) (Kartu su Austrijos, Bulgarijos, Danijos, Prancūzijos, Vokietijos, Graikijos, Vengrijos, Airijos, Italijos, Slovėnijos, Švedijos, Anglijos mokslo institucijomis)
    Pagrindinis COST MP0604 Veiklos tikslas yra aktyvuoti ryšius tarp Europos laboratorijų dirbančių optinio manipuliavimo ir srityse susijusiomis su jo taikymais, paskatinti ilgalaikį šios srities vystymąsi Europoje. Tikslas yra padidinti žinojimą apie fundamentalius optinio pagavimo mechanizmus, vystyti naujus mikro-manipuliavimo metodus, medžiagų mikro-struktūrizavimo metodus, mikroskopijos metodus apjungtus su mikro-manipuliavimo metodais, kurie galėtų būti naudojami ateities bio-medicininėms technologijoms.
2007 m.
  • Bendras Šiaurės šalių (Nordsforsk) projektas Nr.070064 „Imprinted plasmonic active surfaces“ (2007-2008) (Kartu su Pietų Danijos (Danija) ir Helsinkio (Suomija) universitetais)
    Buvo kuriamos ir vertinamos fotoplazmoninės struktūros, sudarytos iš sidabro nanodalalelių darinių polimerinėse vienmatėse ir dvimatėse periodinėse struktūrose, kurios yra aktualios fotoplazmoninių prietaisų kūrimui. Atlikti kompleksiniai fotoplazmoninių struktūrų tyrimai (liuminescensinė spektroskopija, elektroninė mikroskopija, difrakcinio efektyvumo vertinimas). Lazeriniu difraktometru (λ=632,8 nm) atlikti matavimai parodė, kad sidabro nanodalelių pagalba galima keisti periodinių struktūrų optines savybes. Sidabro dalelių nusėdimą ir polimerų optinių savybių kitimą patvirtino UV-VIS spektrai. Modifikavus periodinę struktūrą sidabro nanodalelėmis, gardelės efektyvumas pagerėjo
2006 m.
  • INTAS bendradarbiavimo su Moldova projektas “Investigation on electrochemically manufactured materials and its tribological properties applying them for micro- and nanotechnology products” (2006-2008) (Kartu su Katholieke Universiteit Leuven (Belgija), Vilniaus Universitetu, Ecole Centrale Paris (Prancūzija), Institute of Applied Physics of Academy of Sciences of Moldova, V.I.Vernadsky Institute of General &Inorganic Chemistry (Ukraina))
    Projektas skirtas tęsti ir intensyvinti tyrimus amorfinių ir nanokristalinių Co-Mo, Co-W, Fe-Mo, Fe-W, Co-Mo-P, Fe-Mo-P, Fe-W-P lydinių elektrocheminio nusodinimo srityje. Šių lydinių dangos pasižymės geresnėmis mechaninėmis, tribomechaninėmis, cheminėmis savybėmis, dideliu paviršiaus lygumu, kas leis taikyti gautus lydinius mikro- ir nanotechnologijoje.
2005 m.
  • Europos tyrimų, plėtros ir bendradarbiavimo programos "Eureka"projektas E!3444-EULASNET-ULCOP "Nauja Velenų gamybos technologija" (2005-2006 m.)

    Atlikta:
    1) Plieno karšto valcavimo procesų apibūdinimas, patikslinant pagrindines problemas, sąlygojančias šiuose procesuose naudojamų velenų ilgaamžiškumo sumažėjimą. Duomenų apie galimų velenų dangų charakteristikas surinkimas. Tinkamų apsauginių dangų auginimo technologijų apibūdinimas ir aprašymas. (UAB Technologija).
    2) WC-Co ultradispersinių sferinių miltelių sintezė. (NEOMAT Co., Latvija).
    3) WC-Co dangų formavimas ant plieno. WC-Co padengtų valcavimo velenų bandymai realiomis sąlygomis metalurgijos įmonėje. (UAB Technologija).
    4) Ant plieno suformuotų volframo karbido - kobalto dangų morfologijos, struktūros bei cheminės sudėties analizė. Dangų formavimo technologinių procesų parametrų ir WC-Co padengtų detalių eksploatavimo sąlygų įtakos dangų savybėms ir ilgaamžiškumui. vertinimas (KTU Fizikinės elektronikos institutas)
    5) Dangų formavimo technologinių procesų parametrų optimizavimas, atsižvelgiant į dangų tyrimo ir velenų bandymo rezultatus. (UAB Technologija)

  • NEXUS projektas “Imprinting of ordered organic nanofibers” (2005-2006 m.) (Kartu su Pietų Danijos universitetu)
    Sukurta ir pagaminta įspaudimui tinkanti matrica. Orientuotoms organinėms nanoskaiduloms įspausti panaudotos karšto įspaudimo ir mikroperkėlimo technologijos. Įspaustų nanoskaidulų geometrija ir kokybė įvertinta naudojant šiuolaikinius paviršiaus analizės metodus.
2004 m.
  • 6BP projektas INCO-CT-2004-510470 "Micro and nanotechnologies going to Eastern Europe through networking" (MINAEAST-NET). www.minaeast.net (2004-2006m.)
    (Kartu su Nacionaliniu mikrotechnologijų tyrimo ir vystymo institutu (Rumunija), Budapešto technologijos ir ekonomikos universiteto Elektroninių prietaisų katedra (Vengrija), Liublijanos universiteto Elektros inžinerijos fakulteto Mikrojutiklių struktūrų ir elektronikos laboratorija (Slovėnija), Valdymo ir sistemų tyrimo instituto Jutiklių sistemų ir modeliavimo skyriumi (Bulgarija), Bulgarijos mokslų akademijos Kieto kūno fizikos instituto Puslaidininkių heterostruktūrų laboratorija (Bulgarija), KTU Ultragarso institutu, Košicės technikos universiteto Metalurgijos fakulteto Medžiagų mokslo katedra (Slovakija), Sabanci universiteto Inžinerijos ir gamtos mokslų fakulteto Mikroelektronikos inžinerijos katedra (Turkija), Nacionalinio mokslinių tyrimų centro "Demokritos" Mikroelektronikos institutu (Graikija), R&D asociacijos Kompiuterių architektūros laboratorija (Prancūzija), Berlyno technikos universiteto Mikroperiferinės technologijos tyrimo centru (Vokietija), Elektronų technologijos instituto Silicio mikrosistemų ir nanostruktūrų technologijos skyriumi (Lenkija))
    Projekto tikslas - remti ir koordinuoti naujųjų ES narių bei šalių, kandidačių į ES, pastangas dalyvauti 6BP projektuose mikro ir nanotechnologijų srityje. Vykdant projektą bus sukurtas mikro ir nanotechnologijų srities tematinis tinklas.
  • 6BP projektas COOP-CT-2004-5112667 "Nanoimprint lithography for novel 2 and 3 dimensional nanostructures" (3D NANOPRINT). www.3dnanoprint.org (2004 – 2007) (Kartu su EVG, E. Thallner GmbH (Austrija), Linco Džono Keplerio Universitetu (Austrija), Profactor Produktionsforschungs GmbH, (Austrija), Heptagon Oy (Suomija), Jenos Fridricho Šilerio universitetu (Vokietija), Microresist technology GmbH (Vokietija), SENTECH Instruments GmbH (Vokietija), Brown&Sharpe Precizika (Lietuva))
    Sukurta išbaigta technologija ir visi reikalingi technologiniai įrenginiai precizinei trimačių nanostruktūrų gamybai. Vykdant projektą patobulinta nanoįspaudimo technologija, pritaikant ją trimačiam įspaudimui. Sukurtos technologijos galimybės pademonstruotos formuojant trimačius fotoninius kristalus, kurių optinės savybės labai priklauso nuo gamybos proceso kokybės.
2003 m.
  • NATO bendradarbiavimo grantas (NATO Science Programme - Cooperative Science and Technology)"Nano-structured functional coatings for optical and lubricating applications".(2003-2005m.)
    Bendradarbiaujant su Vokietijos Saarlando universiteto Naujų medžiagų mokslo institutu, taikant skystinius ir joninius – plazminius ėsdinimo metodus, buvo formuojamos dvimatės silicio mikrostruktūros su katalitine nikelio ir aukso danga viršūnėse nanovielų ir nanovamzdelių auginimui, taikant cheminio nusodinimo iš garų fazės technologiją. Vokietijos Saarlando universiteto Naujų medžiagų mokslo institute ant katalitinių mikrostruktūrų šiuo metodu sėkmingai užaugintos germanio nanovielos.
  • Mokslo programa"Žiliberas" "Plonų plėvių mechaninės savybės" (2003-2004 m.) (Kartu su Poitiers universitetu (Prancuzija))
    Elektroninio speklų raibumų interferometras taikomas mažų bandinių geometrinių matmenų kitimo dinamikai registruoti. Programinė įranga ir optinis interferometras optimizuojama didelių deformacijų matavimui, naudojant polimerinius bei metalizuotus polimerinius sluoksnius; Laisvų metalinių plėvelių technologija taikoma daugiasluoksniu metaliniu struktūrų formavimui.
  • Europos tyrimų, plėtros ir bendradarbiavimo programos "Eureka"projektas E!2776 - FACTORY INCAF "Naujų dangų panaudojimas formavimo procesuose" (2003-2004 m.) (Darbas įvykdytas kartu LEI ir UAB Technologija)
    Deimanto tipo anglies ir karbidinės bei nitridinės dangos auginamos tiesioginiu jonų pluošteliu, liepsniniu purškimu, plazminiu purškimu ant plokščiu padėklų, kurių cheminė sudėtis ir paviršiaus struktūra imituoja planuojamu modifikuoti įrankių bei detalių paviršių. Vertinama ir optimizuojama suformuotų dangu struktura, paviršiaus morfologija, mechaniniai įtempiai. Tiriamas dangu kietis, atsparumas korozijai ir temperatūriniam poveikiui.
2002 m.
  • Šiaurės šalių energetikos tyrimų programa (Nordic Energy Research Program) "Itriu stabilizuoto cirkonio oksido dangų formavimas plazminiu purškimu" (2002-2003 m.) (Kartu su Oslo Universitetu ir Danijos Risø nacionaline laboratorija)
    Nustatyta plazminio purškimo būdu formuojamos itriu stabilizuoto cirkonio oksido dangos sudėties, struktūros bei morfologijos priklausomybė nuo padėklo medžiagos sudėties ir padėklo šiurkštumo

Ūkiskaitiniai projektai

2015 m. 
  • „Polipropileninio gaminio (kėdės) medžiagos ir struktūros tyrimas“ (UAB „Vaigora“) (2014-2015 m.)
    UAB „Vaigora“ žvelgdama į plastiko šiukšles kaip į opią ekologinę problemą dėl plastiko didelio atsparumo suirimui, išsikėlė tikslą atlikti tyrimą, padėsiantį nustatyti tikslesnį galimą panaudoti perdirbto polipropileno kiekį gamyboje bei prisidėsiantį prie ekologijos gerinimo bei efektyvaus išteklių panaudojimo. Polipropileno gaminių, tokių kaip plastikinės kėdės, naudojamų sporto ir laisvalaikio srityse, viena iš aktualiausių problemų yra medžiagos atsparumas smūgiams bei UV spindulių poveikiui. Įgyvendinant įvairius laisvalaikio ir sporto projektus, UAB “Vaigora” gamina suoliukus, tribūnas, teisėjų stalus, kur naudoja kėdes, pagamintas iš polipropileno. Pagrindinės problemos, su kuriomis susiduria įmonė, tai kėdžių spalvos blukimas, esant UV spindulių poveikiui, ir kėdės konstrukcijos lūžiai, neatlaikius apkrovų ar gamybai naudojant per dideli kiekį perdirbto polipropileno. Todėl projekto įgyvendinimo metu buvo išspręsti tokie darbo uždaviniai: atlikti kėdės, pagamintos iš polipropileno  Mosten GB 506, tyrimai fizikiniais ir cheminiais medžiagų analizės metodais; palygintos kėdės, pagamintos iš polipropileno Mosten GB 506 ir kito analogo, cheminės ir fizikinės savybės; ištirta, kaip kinta produkto savybės, didėjant perdirbto polipropileno kiekiui.
  • „Šiluminės energijos keitiklis į elektros energiją (UAB Julsena) (2014-2015 m.)
    Vykdant MITA inovaciniu čekiu finansuojamus įmonės Julsena užsakymą buvo sukurtas ir pagamintas veikiantis maketas – alternatyvios elektros energijos šaltinis, kuris atitinka šiuos reikalavimus:
    - Veikimo principas pagrįstas aplinkos šiluminės energijos keitimu į elektros energiją;
    - Šaltinio maketo matmenys 85,6 mm x 53,9 mm. Plokštelės storis nėra kritinis;
    - Šaltinio generuojami elektriniai parametrai: EVJ nemažiau kaip 2 V; šaltinio sukuriama įtampa nemažesnė kaip 0,8V, kai apkrova 1 kΩ.
  • „Medienos ir cheminių medžiagų tyrimai fizikiniais ir cheminiais analizės metodais“ (UAB „Grigo“) (2014-2015 m.)
    Atliktas ąžuolo medienos savybių palyginimas (natūralaus, 6000 metų pelkėje buvęs ąžuolas ir dirbtinai sendintas ąžuolas) siekiant patobulinti taikomus technologinius procesus ąžuolo medienai apdoroti. Medienos bandinių tyrimai: Rentgeno fotoelektronų spektroskopijos (XPS), infraraudonųjų spindulių (FTIR), optinės spektroskopijos (UV-vis) ir Rentgeno spindulių difrakcijos (XRD) ir atominės absorbcijos (AAS) metodais Cheminių medžiagų tyrimai optinės spektroskopijos (UV-vis) ir Atominės absorbcijos (AAS) metodais
  • Kiekybinė ir kokybinį cheminių junginių analizė, UAB „Rustona LT“ (2015 m.)
    Fosforitmilčio kiekio įtakos serpentinito mišinio struktūrai taikant rentgeno difrakcinės ir elektronų fotoemisijos metodus ištyrimas.
    Optimalaus fosforitmilčių kiekio serpentinito mišinyje nustatymas.
    Rekomendacijų technologinio proceso parametrų optimizavimui parengimas.

     

  • „Elektroninių elektros skaitiklių polikarbonato korpuso indikatorinės dalies atsparumo Saulės spinduliuotei tyrimas“ (UAB „Elgama-Elektronika“) (2015 m.)
    Nustatyti polikarbonato korpuso indikatorinės dalies šviesos pralaidumo pokyčiai 172-1100 nm diapazone prieš ir po poveikio Saulės spektro simuliatoriumi. FTIR spektrometru užregistruoti polikarbonato vibraciniai spektrai prieš ir po bandymų procedūrų ir atlikta funkcinių molekulinių grupių analizė.

2014 m.

  • „Biosuderinamų dantų protezų gamybos technologijų tobulinimas“ (UAB Amicus Dentis) (2014-2015 m.)
    Vykdant MITA inovaciniu čekiu finansuojamus įmonės Amicus Dentis užsakymą buvo atliekami įmonėje skirtingomis sąlygomis pagamintų mėginių, naudojant skirtingo paviršiau paruošimo bei skirtingų cirkonio oksido keramikų padengtų pasirinktomis apdailinėmis keramikosmis, tyrimai. Naudojant šlyties ir trijų taškų lenkimo testus buvo ištirtos ir palygintos mechanines savybes. Lūžių paviršiai buvo ištirti naudojant skenuojantį elektroninį mikroskopą bei Ramano analizės metodus. Pritaikyti tyrimo rezultatus tokių protezų gamybos technologijoje.
  • „Holograminių apsaugos ženklų kūrimas“ (UAB „Holograma“) (2014 m.)
    Holografinio vaizdo formavimo mikrodifrakciniais elementais technologijos optimizavimas.
    Dviejų skirtingų hologramų formavimo būdų, hologramų optinio antrinimo ir mikrodifrakcinio elemento formavimo apjungimas. Eksperimentinio pavyzdžio sukūrimas
  • „Kinegraminių apsaugos ženklų su logotipu gamyba“ (LR valstybės saugumo departamentas) (2014 m.)
    Nano grafikos ( LR valstybės saugumo departamento logotipo) integravimo į optinį apsaugos elementą technologijos sukūrimas
  •  „Ultratrumpų impulsų lazerio pluošto daliklių geometrijos ir technologinių procesų parinkimas pirmos ir aukštesnių harmonikų spinduliuotės difrakcinio spektro valdymui“ (UAB „Altechna R&D”) (2014 m.)
    Vykdant įmones Altecha R&D užsakytus tyrimus buvo kuriama ultratrumpų impulsų lazerio pluošto daliklio geometrijos parinkimo metodika bei vystomas jos realizavimo litografinėmis technologijomis procesas. Ultrasparčios spinduliuotės difrakcinio efektyvumo vertinimui buvo sukurta speciali metodika. Sukurti dalikliai pasižymėjo lazerio pluošto dalijimu į du vienodo intensyvumo pluoštus.

2013 m.

  • Inovacinis čekis; užsakovas UAB "Novatechas", inovacinio čekio sutartis Nr. 31V-229 (2013 m.)
    Buvo suteikta eksperimentinės plėtros darbų paslauga, t.y. buvo sukurtas lūžio rodiklio jutiklio maketas, paruošta jo valdymo programinė įranga ir atlikti matavimus su modelinėmis medžiagomis
  • Inovacinis čekis; užsakovas UAB "Lima", inovacinio čekio sutartis Nr. 31V-230 (2013 m.)
    Buvo atlikta literatūros analizė ir paruošta techninė galimybių studija. Studijoje buvo apžvelgtos nanokompozitiniu amorfinių deimanto tipo anglies dangų nusodinimo technologijos ir aptartas šių dangų panaudojimo galimybės silicio saulės elementams.
  • Inovacinis čekis; užsakovas UAB "Elkodi", inovacinio čekio sutartis Nr. 31V-231 (2013 m.)
    Buvo atlikta literatūros analizė ir paruošta techninė galimybių studija. Studijoje buvo apžvelgti rinkoje esančių difrakcinių optinių elementų bei lūžio rodiklio jutiklių privalumai ir trūkumai. Aprašyti KTU MMI vystomi tyrimai ir pasiekimai difrakcinių optinių elementų ir lūžio rodiklių srityje bei techninės galimybės šiuos gaminius realizuoti institute
  • Inovacinis čekis, užsakovas UAB „Sistemų registras“, inovacinio čekio sutartis Nr. 31V-219.(2013 m.)
    Išanalizuotas šiuo metu naudojamas blanko apsaugos lygis ir pateiktos rekomendacijos jo pagerinimui. Suteiktos konsultacijos dėl optinių apsaugos elementų taikymo. Sukurtas tiek paprasto vartotojo, tiek ekspertiniame lygmenyje lengvai atpažįstamas holograminis apsaugos ženklas.
  • UAB „Ukmergės spaustuvė“ užsakymu vykdomas MTEP projektas „Optinių dokumentų apsaugos priemonių ir jų gamybos technologijų kūrimas bei tyrimas“; mokslinio tyrimo paslaugos teikimo sutartis Nr.8721/ 2013/12/16 (2013-2014).
    Kuriamos UAB „Ukmergės spaustuvė“ spausdinamų dokumentų optinės apsaugos priemonės ir jų gamybos technologijos. „Naujų holograminių apsaugos elementų kūrimas ir diegimas sveikatingumo produktų apsaugai nuo klastojimo“ (UAB Ekologijos technologijų tyrimo ir diegimo institutas)

2012 m.

  • UAB TERAVIL užsakymu vykdomas mokslinio tyrimo darbas „Meza-ėsdinimo, mikrolitografijos ir elektrodų formavimo procesų, skirtų THz spinduliuotės emiterių ir detektorių gamybai, tyrimai ir optimizavimas“. (2012-2013 m.).
    Darbo tikslas - meza darinių ėsdinimo, mikrolitografijos ir elektrodų formavimo procesų, skirtų THz spinduliuotės emiterių ir detektorių gamybai, tyrimai ir optimizavimas. Tyrimų objektai: nusprogdinimo litografijos procesas; tiesioginės litografijos procesas; meza darinių formavimo procesas, antiužtvarinių (ominių) sąlyčių atkaitinimo procesas; AuGe-Ni metalizacijos sluoksniai

2010 m.

  • Inovacinis čekis; užsakovas UAB „PTEC“, inovacinio čekio gavimo sutartis Nr. 31V-96 (2010 m.).
    Išnagrinėjus mokslinę literatūrą buvo atrinktos technologijos, užtikrinančios mikrometrinių ir submilimetrinių matmenų GaN gembinių struktūrų gamybą, bei parinktos efektyvios, suderinamos su gembinės struktūros geometrija, poslinkio matavimo metodikos. Buvo suprojektuota ir pagaminta mikrometrinių ir submilimetrinių matmenų epitaksinio GaN ant Si <111> padėklo gembinė struktūra bei pasiūlytas efektyvus metodas deformacijų matavimams. Buvo išnagrinėta galimybė matavimams panaudoto GaN pjezoelektrines savybes, be to, išbandyta galimybė mikrogembės paviršiuje suformuoti periodines optinio diapazono difrakcines struktūras, kurias būtų panaudoti poslinkio matavimo tyrimams difrakcijos maksimumų sklaidos principu.
  • UAB „Teravil“ užsakymu vykdytas projektas „Fotolitografijos ir atkaitinimo procesų, skirtų THz spinduliuotės emiterių ir detektorių gamybai, tyrimai ir optimizavimas“. (2010 m.)
    Šiame darbe buvo atlikti moksliniai tyrimai siekiant nustatyti optimalius reikiamo rašto terahercinės (THz) spinduliuotės detektorių ir emiterių elektrodų formavimo režimus bei nustatyti pagrindinius elektrodų veiksnius, darančius įtaką piešinio kokybei. Vykdant darbą nustatyta, kad naudojant nusprogdinimo litografiją galima sėkmingai suformuoti THz spinduliuotės emiterius su naujos, patobulintos konfiguracijos elektrodais. Didžiausią įtaką vizualiai įvertintai nusprogdinimo būdu suformuotų elektrodų piešinio kokybei turėjo paviršiniai mikro bei makro defektai GaAs epitaksinio sluoksnio paviršiuje. Naudojant tyrimų duomenis pagaminti bandomieji naujos konfiguracijos THz spinduliuotės emiterių ir detektorių pavyzdžiai.
  • Inovacinis čekis; užsakovas UAB “Arcus Novus”, inovacinio čekio gavimo sutartis nr. 31V-82. (2010 m.)
    Buvo išanalizuotos galimos kietųjų oksidų mikro - kuro elementų komponentų (katodas, elektrolitas, anodas ir padėklas) formavimo technologijos. Atlikti mikrokuro elementų komponentų tyrimai, bei dangų mikrostruktūrizavimo technologiniai darbai siekiant suformuoti membranines mikrokuro elementų struktūras. Įsisavinta tūrinio mikroformavimo technologija, taikant gilųjį TMAH ėsdinimą. Dėl cheminio suderinamumo mikro-kuro elementui formuoti pasirinktas variantas elektrodus formuoti po gilaus silicio ėsdinimo, ėsdinimo sustabdymui panaudojant tarpinį SiO2 sluoksnį su Si3N4 viršsluoksniu mikroįtempių suvaldymui (po elektrodų suformavimo sluoksniai sausai pašalinami plazmocheminio ėsdinimo metodu). Nustatyta kokiomis savybėmis turi pasižymėti konstrukciniai mikro-kuro elemento sluoksniai ir atlikti pradiniai tyrimai. Kuro mikroelemento anodas ir katodas turi būti labai porėtas, gerai praleisti vandenilį ir būti laidus elektronams; elektrolitas turi kuo geriau praleisti deguonies jonus ir būti kiek galima mažiau laidus elektronams.

2009 m.

  • UAB „Implantatas“ užsakymu vykdytas projektas „Co-Cr lydinių implantų elektrocheminio poliravimo optimizavimas ir „lotoso“ efekto zonų Co-Cr lydinių implantų paviršiuose lokalinio formavimo technologijų paieška”. (2009 m.).
    Siekiant optimizuoti dantų implantų iš kobalto-chromo lydinio elektrocheminio poliravimo procesą, buvo gauti šie rezultatai: elektrocheminio poliravimo aparatas KATUN techniškai sutvarkytas ir papildytas savos gamybos elektrolito maišymo ir temperatūros reguliavimo sistema; nustatyta, kad bandymams pateiktiems kobalto-chromo liejiniams būdinga grubi stambiakristalinė dendritinė struktūra; išbandyta eilė mokslinėje ir patentinėje literatūroje aprašytų elektrolitų; nustatyta, kad visais, be išimties, atvejais EP metu bandinių paviršiuje išėsdinamos duobučių grupės, kurios yra susijusios su struktūros ypatumais ir lokaliniais cheminės sudėties nevienodumais; išbandyta eilė organinių junginių priedų elektrolitui ELEKTROL, su kuriuo buvo gauti geriausi EP rezultatai; optimalūs rezultatai gauti elektrolite ELEKTROL su 1, 2-propilenglikolio, heksadeciltrimetilamonio bromido ir heksametilentetramino priedais, palaikant 40º C - 50º C temperatūrą ir anodinės srovės tankį 0, 2- 0, 25 A/cm² ribose bei maišant elektrolitą. Apibendrinant visų eksperimentų su elektrocheminio poliravimo elektrolitais rezultatus, galima padaryti išvadą, kad naujasis elektrolitas metansulforūgšties pagrindu užtikrina didžiausią paviršiaus lygumą ir gali būti rekomenduojamas implantų iš kobalto-chromo lydinių elektrocheminiam poliravimui.
    Tęsiant eksperimentus su kobalto-chromo lydinio elektrocheminiu poliravimu, buvo sukurtas naujas elektrolitas metansulforūgšties pagrindu, užtikrinantis aukštą poliravimo kokybę; teoriškai apžvelgti reikalavimai paviršiaus geometrijai ir cheminei sudėčiai, kuriems esant pasireiškia „lotoso efektas“; atlikta superhidrofobinių paviršių formavimo metodų apžvalga; eksperimentiškai suformuotos superhidrofobinės dangos ant stiklo plokštelių ir pademonstruota principinė galimybė gauti dangas, kurių vilgymo kampas didesnis nei 170º; eksperimentų eigoje paaiškėjo, kad superhidrofobinių dangų atsparumas mechaniniam poveikiui yra nepakankamas tam, kad būtų galima jas formuoti ant kobalto-chromo lydinio implantų. Įvertinant naujausiose mokslinėse publikacijose paskelbtus rezultatus šioje srityje ir remiantis atliktais eksperimentiniais tyrimais, galime teigti, kad ši problema gali būti išspręsta tolimesnių tyrimų eigoje.
  • UAB „Tertavil“ užsakymu vykdytas projektas „Fotolitografijos ir atkaitinimo procesų, skirtų THz spinduliuotės emiterių ir detektorių gamybai, tyrimai ir optimizavimas“. (2009 m.)
    Šiame darbe atlikti tyrimai siekiant nustatyti optimalius reikiamo rašto terahercinės (THz) spinduliuotės detektorių ir emiterių elektrodų formavimo režimus. Nustatyta, kad reikiamo rašto GaAs THz spinduliuotės emiterių bei detektorių elektrodai gali būti sėkmingai suformuoti tiek tiesioginės tiek ir nusprogdinimo litografijų būdais, jeigu vakuuminėje kameroje atliekami tiktai metalų, įeinančių į daugiasluoksnės ominio kontakto metalizacijos sudėtį, garinimai. Be to, buvo ištirti elektrodų formavimo ant įvairių GaAs plokštelių su epitaksiniu sluoksniu ir be jo ypatumai ir pateiktos mokslinės-techninės rekomendacijos daugiasluoksnės ominio kontakto metalizacijos formavimui vakuuminio garinimo būdu bei THz spinduliuotės emiterių bei detektorių reikiamo rašto elektrodų formavimui naudojant litografijos procesus.

2006 m.

  • UAB "EMKA" užsakymu vykdytas LVMSF remtas mokslinio tyrimo darbas Nr. G-06089 "Plonų dangų iš vandeninių dispersijų formavimas nikeliu dengtais aniloksiniais velenais" (2006 m.)
    Tirtas elektrolitinių nikelio (Ni, Ni-P) dangų panaudojimas plieninių velenų aniloksinių paviršių formavimui bei tokių velenų pritaikymas plonų dangų iš vandeninių dispersijų formavimui.
    Suformuota nikelio elektrolitinė danga, kurios paviršiuje skirtingu lazerio impulsų kiekiu galima išgraviruoti aniloksinį paviršių su skirtingo dydžio duobutėmis. Atlikta elektrolitinei nikelio dangai formuoti skirtų elektrolitų palyginamoji analizė, nustatyti dangos formavimo režimai bei įvertintos jų mechanines savybes priklausomai nuo dangos sudėties.
    Parodyta, kad ploną tolygų sluoksnį iš vandens dispersijos galima suformuoti naudojant aniloksinius nikeliu dengtus plieninius velenus, kurių paviršiuje lazerio impulsais yra suformuotos tikslios formos ir vienodo tūrio duobutės. Duobučių gylis yra tiesiogiai proporcingas lazerio impulsų skaičiui, o suformuotos dangos storis yra tiesiogiai proporcingas duobučių gyliui.
    Parodyta, kad formuojamos dangos kokybė priklauso ne tik nuo aniloksinio paviršiaus geometrinių parametrų, bet ir nuo skysčio, iš kurio danga yra formuojama, reologinių savybių.
    Tiriant vandeninių dispersijų iš versato rūgšties vinilo esterio ir akrilo (VeoVa/A) kopolimerų tinkamumą plonų dangų formavimui nustatyta, kad dispersijos yra struktūriškai klampios sistemos, joms būdingos klampos anomalijos, kurių tipas ir intensyvumas priklauso nuo šlyties greičio ir dispersijos sudėties. Mažų šlyties greičių srityje dispersijos elgiasi kaip dilatansinės, didelių   kaip pseudoplastinės sistemos. Reologines dispersijų savybes galima keisti mineraliniais dispersiniais  TiO2 ir Al2O3 užpildais. Jų kiekio įtaka klampos kitimo intensyvumui yra netolygi.
    Apie galimą dispersijos fazių inversiją ilgėjant maišymo pastoviu greičiu trukmei, spręsta iš elektrostatinio stabilumo ir klampos kitimo. Nustatyta, kad dispersijų užpildymas mažina jų elektrostatinę pusiausvyrą. Tačiau užpildymas mineraliniais užpildais yra efektyvi priemonė dispersijos ir pagrindo, ant kurio yra formuojama danga suderinamumui padidinti.
    Parodyta, kad mineralinių dispersinių užpildų įmaišymas į dispersiją keičia suformuoto plono sluoksnio topografiją. Tokiu būdu, naudojant tą pačią technologinę įrangą, bet modifikuojant dispersiją, galima gauti skirtingos paviršiaus struktūros sluoksnį.
  • UAB “Blue Bridge” užsakymu vykdytas projektas “Matavimo neapibrėžčių skaičiavimo metodikos sukūrimas ir projektinės dokumentacijos paruošimas”(2006m.)
    Apžvelgta bendra neapibrėžčių analizės procedūra. Identifikuoti klaidų šaltiniai ir jų pasiskirstymai. Įvertintos 10 ml tūrio pipetės ir 50 ml matavimo kolbos neapibrėžtys. Aprašytos bendro nelakių priemaišų kiekio vandenyje nustatymo, amonio jonų nustatymo spektrofotometriniu būdu, švino nustatymo dirvožemyje elektroterminiu atominės absorbcijos spektrometru, švino kiekio nustatymo vandenyje, naudojant dvigubą izotopų skaidymą ir induktyviai sujungtą plazminę masių spektroskopiją procedūros

2004 m.

  • Šilerio įmonės "Ramona" užsakymu vykdytas LVMSF remtas mokslinio tyrimo darbas "Technologinių ir struktūrinių adhezinio sluoksnio parametrų įtakos karšto įspaudimo būdu tvirtinamu difrakciniu optiniu apsaugos elementu savybėms tyrimas" (2004 m.)
    Sukurtas adhezyvas ir įvertinta jo struktūros bei adhezinio sluoksnio formavimo technologinių parametrų įtaka karšto įspaudimo būdu tvirtinamų difrakcinių optinių elementų savybėms

2003 m.

  • Ūkiskaitinė sutartis su AB "Ekranas" "EOS elektrinio lauko indukuoto statinio krūvio kineskopo cilindre pasiskirstymo įvertinimas ir jo poveikio elektronu pluoštu suvesčiai sumažinimas"(2003 m.) (Kartu su KTU Medžiagų mokslo institutu)
    Parinkta elektrostatinio lauko potencialo bei indukuoto krūvio išilginio ir radialinio pasiskirstymo kineskopo stikliniame kaklelyje nustatymo metodika. Įrengtas matavimo stendas. Nustatytos paviršinių krūvių lokalizacijos sritys. Parinktas antistatinio sluoksnio ant stiklinio kineskopo kaklelio formavimo metodas.
 

LVMSF projektai

2008 m.
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remiamas mokslinių tyrimų projektas “Fotoninių kristalų mikro-rezonatoriai” (2008 m.)
    Galutinis darbo tikslas - pagaminti, bei teoriškai ir eksperimentiškai ištirti tokius fotoninių kristalų rezonatorius ir įvertinti jų galimą taikymą optiniam informacijos apdorojimui. Šiame darbe buvo tiriami submilimetrinio ir mikrometrinio ilgio rezonatoriai užpildyti fotoninio kristalo terpe. Fotoniai kristalai dėl savo unikalių šviesos dispersijos ir difrakcijos savybių šiuo metu pasaulyje sulaukia labai didelio susidomėjimo ir yra plačiai tyrinėjami. Šiame projekte buvo tiriama hibridinė sistema, pasižyminti tiek rezonatoriaus, tiek fotoninio kristalo savybėmis. Tokia sistema pradėta tirti 2007 metais bendradarbiaujant VU Lazerinių tyrimų centrui, KTU Fizikinės elektronikos institutui ir Barselonos Politechnikos Universitetui (grupės vadovas K.Staliūnas). Darbo eigoje buvo išplėsti preliminarūs tyrimai, t.y. buvo atlikti eksperimentai su smulkesnėmis (mikrometrinio periodiškumo) struktūromis, taipogi su dvimatėmis fotoninėmis struktūromis.

2007 m.

  • LVMSF finansuojamas Prioritetinių Lietuvos mokslinių tyrimų ir eksperimentinės plėtros krypčių programos projektas "Nanostruktūriniai terahercinės fotonikos komponentai" (NanoKomponentai) (2007-2009) (Kartu su Puslaidininkių fizikos institutu)
    Šis nanodarinių eksperimentinio ir teorinio tyrimo projektas skirtas puslaidininkinės nanotechnologijos tobulinimui kompaktiškiems terahercinio (THz) dažnių ruožo emiterių ir jutiklių}, o taip pat ir pasyvių THz fotonikos elementų kūrimo reikmėms. Gauti rezultatai labai svarbūs, surandant kuriamiems prietaisams optimalius parametrus bei tinkamus darbo režimus jų eksperimentiniam realizavimui, o taip pat metamedžiagų technologijos vystymui. Tuo tikslu eksperimentiškai ištirti beriliu ir siliciu legiruoti GaAs/AlAs kvantiniai šuliniai ir GaAs/A1GaAs supergardelės, InAs kvantinių taškų-GaAs/A1GaAs supergardelių sistemos, GaN/AIGaN kvantiniai šuliniai bei iš jų pagamintų jutiklių prototipai 4.2-300 K temperatūrų ruože, naudojant ivairias - fotoatspindžio ir elektrinio atspindžio, fotovoltinio signalo ir fotoliuminescencijos, terahercinės fotosrovės bei fotoatsako, o taip pat Fourier - spektroskopines metodikas. Pasitelkiant Monte Karlo bei baigtinių-skirtumų laiko skalėje metodus, sumodeliuotas elektromagnetinių bangų sklidimas mikrocilindro formos THz kvantiniuose-kaskadiniuose lazeriuose, lštrti impulsinės terahercinės spinduliuotės mechanizmai puslaidininkio paviršiuje bei p-i-n sandūrose. Mokslinių tyrimų programa suskaidyta į septynetą darbo aprašų pagal eksperimentinio ir teorinio tyrimo temas, o taip pat metamedžiagų technologijos vystymo aspektus. Tyrimai vykdyti kartu su kolegomis iš Austrijos, Jungtinės Karalystės ir Vokietijos.
  • Aukštųjų technologiju plėtros programos projektas "Naujos mikromechaninės sistemos ir technologijos" (NAMSIS) (2007-2009 m.)(Kartu su KTU ir UAB “Sebra”)
    Pagrindiniai projekto rezultatai yra susiję su mechaninių ir mikromechaninių prietaisų (tiksliosios mechanikos komponentų) darymo technologijų kūrimu bei tobulinimu. Darbai apėmė tris pagrindines šios rūšies prietaisų darymo technologijų tobulinimo sritis. Visų pirma - tai naujų patobulintų tiksliosios mechanikos prietaisų darymo technologijų tokių kaip vibracinis pjovimas įsisavinimas ir optimalių proceso salygų parinkimas. Antra – pačio proceso kontrolės gerinimas, panaudojant apdirbančiosios detalės (įrankio) būklės ir jos dilimo stebėjimą proceso metu siekiant išvengti įrangos gedimų susijusių su dilimo procesais bei gaminamos detalės sugadinimo. Tam tikslui sukurtas mikromechaninis jėgos jutiklis. Trečioji darbų kryptis susijusi su technologinių įrenginių apdirbančiųjų detalių konstrukcijos tobulinimu didinant jų atsparumą dilimui. Tai pasiekta sukuriant naują apsauginių dangų darymo technologiją
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remiamas mokslinių tyrimų projektas T-07314 “Deimanto tipo nanokompozitinių dangų (DYLYN) sintezė ir tyrimas” (2007 m.)
    Deimanto tipo anglies dangos (DTAD) susilaukė didelio mokslininkų susidomėjimo dėl jų unikalių savybių tokių kaip itin didelis kietis, atsparumas dilimui bei korozijai, mažas trinties koeficientas, cheminis inertiškumas, optinis skaidrumas, galimybė keisti elektrinį laidumą labai plačiose ribose (nuo pusiau laidžių dangų iki dangų su varža artima plačiausiai naudojamo dielektriko, silicio dioksido, varžai). DTAD savybės gali būti kontroliuojamos įvedant į augančią dangą įvairių priemaišų. Priklausomai nuo priemaišų tipo bei dangos auginimo sąlygų, kai kuriais atvejais priemaišų atomai augančioje DTAD visų pirma jungiasi tarpusavyje sudarydami klasterius. Tokios dangos, vadinamos deimanto tipo nanokompozitinėmis dangomis, būdingos naujos savybės. Bene plačiausiai iš šios klasės dangų yra tyrinėjamos dangos žinomos DYLYN (diamond like nanocomposite) pavadinimu (šį pavadinimą išpopuliarino belgų firma Bekaert, užsiimanti apsauginių dangų sintezės darbais). Tai SiOx turinčios deimanto tipo anglies dangos, susidedančios iš persikertančių hidrogenizuotos amorfinės anglies ir SiOx tinklų, kur SiOx klasteriai gali būti tiek amorfiniai tiek ir kristaliniai. DYLYN dangos, palyginus su paprastomis DTAD, pasižymi didesniu atsparumu plyšimui, daug mažesniai įtempiais esant tokiam pat dangos kiečiui, augimo greičiu, optiniu pralaidumu, hidrofobiškumu, terminiu stabilumu.
    Šiame darbe tiriama jonų pluošteliu sintezuojamų deimanto tipo anglies nanokompozitinių dangų (DYLYN) struktūros, elektrinių bei optinių charakteristikų priklausomybė nuo sluoksnių nusodinimo technologinių sąlygų. Ieškoma galima koreliacija tarp dangų cheminės sudėties ir struktūros bei jų charakteristikų. Įsisavinamas naujas dangų savybių vertinimo metodas, įgalinantis geriau kontroliuoti DYLYN nusodinimo technologinį procesą - optinės emisijos spektroskopija.
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remiamas mokslinių tyrimų projektas T-07354 “Mikrodifrakcinių elementų kūrimas ir taikymas” (2007 m.)
    Projektas skirtas sukurti ir sudaryti prielaidas naujos metodikos – holografinio vaizdo formavimui mikrodifrakciniais elementais, tuo būdu pasiekti naują slaptumo laipsnį dokumentų apsaugoje nuo klastojimo. Projekto eigoje bus diegiama unikali mikrodifrakcinių elementų formavimo įranga bei technologija taip pat jų pritaikymas optinių priemonių gamyboje (dokumentų ir prekių apsaugai nuo klastojimo bei padirbinėjimo). Vykdant projektą, bus sukurta optinė schema, optimizuota lazerinės interferencinės litografijos technologija mikrometrinėms sritims naudojant 442 ir 405 nm lazerių spinduliuotę. Bus sukurta mikrodifrakcinių elementų orientuoto išdėstymo metodika bei pasiūlyta proceso technologija. Taip pat bus sukurta metodika mikrodifrakcinių elementų kiekybiniam vertinimui naudojant optinius ir kontaktinius metodus.
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remiamas mokslinių tyrimų projektas T-07312 “Sidabro nanodariniai jonizuojančios spinduliuotės poveikio tyrimams” (2007 m.)
    Šiame darbe buvo ištirti supermolekulinių sidabro junginių sintezės metodai dendrimerinių polimerų pagrindu. Sidabro-dendrimero junginys, esant tam tikram spindulių poveikiui (UV, IR ir jonizuojančios spinduliuotės), formuoja sidabro nanodaleles – nulinio valentingumo klasterius su tam tikru sidabro atomų kiekiu, kas lemia jų dydžius ir kiekį skystoje terpėje. Sidabro-dendrimero irimo kinetikos tyrimas, esant įvairiems poveikiams, leidžia prognozuoti sidabro nanodalelių patekimą į biologinę skystąją terpę, įvertinti jų stabilumą laiko atžvilgiu. Kompleksinis sidabro nanoklasterių tyrimas (rentgeno spindulių difrakcija, zondiniai metodai, optinė spektroskopija, elektroninė mikroskopija) leido apibendrinti pagrindinius sidabro-dendrimerų junginių formavimo etapus, jų savybes ir panaudojimą jonizuojančios spinduliuotės diagnostikoje, suformuotos technologinės naudojimo biologinėse ir kitose terpėse rekomendacijas
2006 m.
  • Mokslininkų grupės iniciatyva pateiktas, LVMSF remtas mokslinių tyrimų projektas T-06064 "Sidabro nanodariniai polimeruose" (2006 m.)
    Pagrindinis tikslas, kurio siekė mokslininkų grupė buvo: suformuoti sidabro nanokompozitinius sluoksnius ant plonasluoksnių polimerinių struktūrų, garinant sidabrą vakuume arba nusodinant iš koloidinių tirpalų.
    Vykdant darbus, buvo sintetinami sidabro nanodariniai koloidiniame tirpale panaudojus sidabro druskų sidabro nitrato) redukciją bei mikrobanginės spinduliuotės poveikį, įvertintas tirpalų stabilumas paveikus UV ( 254 ir 325 nm) spinduliuote. Sukurta unikali sidabro nanodarinių pernešimo ant modifikuotojo kvarcinio stiklo technologija, įvertintos sidabro nanodarinių  polimerinėje matricoje optinės savybės, sidabro polimero struktūros paviršiaus morfologija, kristalinė sandara, panaudojus UV-VIS ir FTIR spektroskopiją, AJM bei rentgeno struktūrinę analizę. Sidabro nanodariniai taip pat suformuoti panaudojus sidabro garinimą elektroninių spindulių ant polimerinių ir modifikuotojo polimerais kvarcinio stiklo pagrindų.
    Naudojant koloidinius sidabro nanodarinių tirpalus, pavyko suformuoti sidabro nanodarinius PS-PMMA polimerinėje matricoje. Sidabrų dalelių dydis polimerinėje matricoje kito nuo 60 iki 100 nm su sidabro sferinėms dalelėms  būdingomis optinėmis savybėmis. Nustatyta, kad naudojant sidabro garinimą elektroniniu spinduliu, galima suformuoti salelinės struktūros sidabro nanodarinius ant modifikuotojo polimerais bei jų mišiniais  kvarcinio stiklo pagrindo. Polimerinio mišinio paviršiaus, ant  jo užgarinus 10 nm  storio sidabro sluoksnį, šiurkštumo vertės priklauso nuo polimerinio mišinio koncentracijos (25% PS-75% PMMA: nuo 26 nm iki 7,2 nm;  50% PS-50% PMMA: nuo 6,9 nm iki 6,8 nm).  Paviršinių plazmonų rezonanso smailės bangos ilgis ( 420 - 550 nm) priklauso ne tik nuo polimero, pagrindo prigimties,  bet ir sluoknio storio. Ištirtas sidabro nanodalelių tirpalų stabilumas, esant UV spinduliavimui.Nanodalelių dydžio pokytis (sumažėjimas ir SPR poslinkis į mėlynąją sritį) stebimas tik po 2 valandų apšvitos  254 nm UV spinduliuote.
2005 m.
  • LVMSF finansuojamas Lietuvos mokslininkų grupės darbas "Mikromontuojamų talpinių keitiklių sandaros optimizavimas"  (2005 m.) (Kartu su PFI, VU, VU TFAI)
    Projekto paskirtis: išplėsti Puslaidininkių fizikos instituto Fliuktuacinių reiškinių bei Vilniaus universiteto Triukšmų tyrimo laboratorijose sukurtų originalių fliuktuacinių metodų panaudojimo sritį tiriant ypač sparčius kinetinius vyksmus bei fliuktuacijas naujos kartos nanodariniuose iš įtempto silicio, įtempto silicio-germanio, galio arsenido, indžio fosfido, galio nitrido bei jiems giminingų puslaidininkių. Tikslas – tarptautiniu lygiu dalyvauti kuriant sparčiosios elektronikos bei optoelektronikos fizikinius pagrindus, tuo įtakojant aukštųjų technologijų raidą Lietuvoje ir pasaulyje. Kauno technologijos universiteto Fizikinės elektronikos instituto mokslo darbuotojų dalyvavimas projekte leido sėkmingai ir laiku spręsti iškylančias technologines problemas: šio instituto mokslininkai turi patirtį A3B5 puslaidininkių bei jų darinių Šotkio ir ominių kontaktų formavimo bei paviršiaus paruošimo (jonpluoščio bei chalkogenidų tirpalais) srityse. Vykdant projektą buvo panaudota Vilniaus universiteto Teorinės fizikos ir astronomijos instituto teoretikų kvalifikacija, sukaupta tiriant fliuktuacijų šaltinius.
    Konkretus darbo tikslas – sparčių ir labai sparčių elektroninių vyksmų fliuktuacinės spektroskopijos pažanga ir jos panaudojimas tiriant naujos kartos darinius, skirtus greitaveikei silicio ir A3B5 junginių elektronikai ir optoelektronikai. Fliuktuaciniai metodai, kurie buvo sukurti anksčiau ir aprobuoti tiriant AlGaN/AlN/GaN, AlGaN/GaN darinius, buvo ištobulinti juos pritaikant mikrobangų ruožo lauko tranzistorių ir heterodarinių tranzistorių protakų eksperimentiniams tyrimams, įskaitant neardantį darinio savybių tikrinimą (on-wafer characterization). Pagrindinis dėmesys buvo skiriamas įtemptoms nanometrinio storio silicio protakoms, įspraustoms tarp SiO2 sluoksnių (SiO2/Si/SiO2), įtemptoms (pseudomorfinėms) Si/Ge protakoms, suderintoms ir pseudomorfinėms A3B5 junginių protakoms su dvimatėmis elektronų dujomis, bei kitoms. Unikali impulsinė mikrobangų ruožo elektrinių triukšmų matavimo metodika buvo panaudota karštųjų elektronų energijos relaksacijos trukmės, karštųjų fononų suirimo trukmės priklausomybėms nuo elektrinės galios bei gamybos technologijos ypatumų. Buvo išplėtoti teoriniai sparčiųjų kinetinių vyksmų, jų relaksacijos laikų ir fliuktuacijų spektrinių priklausomybių tyrimo metodai. Teoriškai įvertintas elektronų išsigimimo įtaką fliuktuaciniams reiškiniams dvimatėse elektronų dujose. Panaudojant unikalią žemo dažnio triukšmo charakteristikų matavimo metodiką, buvo tiriamos naujos sandaros itin sparčių optoelektronikos prietaisų (GaInAsP/InP, GaAs/AlGaAs ir GaN lazerinių bei šviesos diodų su nanodariniais, InGaAs griūtinių ir p-i-n fotodiodų) triukšmų charakteristikos, įvertinta triukšmo charakteristikų ypatybių sąsaja su minėtų prietaisų sandaros ir gamybos technologijos ypatumais, kokybe ir ilgaamžiškumu. Bendradarbiaujant su gamintojais buvo nustatyti veiksniai, lemiantys šių prietaisų veikimo charakteristikas ir patikimumą, bei galimybes tobulinti prietaisų sandarą ir gamybos technologiją. Tiek teoriškai, tiek eksperimentiškai buvo tiriamos greitaveikių puslaidininkinių lazerių su kvantiniais dariniais dinaminės, impulsinės ir dažninės charakteristikos, įvertinti krūvininkų ir fotonų parametrai lazerinės veikos srityje.
2004 m.
  • Mokslininku grupes iniciatyva pateiktas, LVMSF remtas moksliniu tyrimu projektas T-04169 "Mikromechaniniu sistemų technologijų taikymai" (2004 m.)
    Taikant paviršinio mikromontavimo technologiją, sukurti elektrostatiniu būdu valdomi mikrojungiklis bei mikromotoras. Optimizuoti šių prietaisų technologiniai parametrai bei ištirtos dinaminės savybės, taikant skaitinės holografinės interferometrijos metodą. Sukurta nauja technologija, apjungianti difrakcinės gardelės nanoįspaudimą, grafikos formavimą poliruotų štampų rinkiniu bei reaktyvųjį joninį ėsdinimą. Sukurtoji elektroninės speklų raibumų interferometrijos įranga su kompiuteriniu valdymu bei metodika pritaikyta laisvųjų plonų metalinių, dielektrinių ir daugiasluoksnių plėvelių plastinių ir elastinių savybių nustatymui. Ypač svarbūs rezultatai gauti, tiriant deimanto tipo anglies plėveles, kuriose šiuo metodu nustatytas ryšys tarp fazinės sudėties ir mechaninių įtempių dydžio. Sukurtas originalios konstrukcijos elektrocheminio ėsdinimo stendas. Atlikta eilė eksperimentų.
2003 m.
  • LVMSF finansuojamas Lietuvos mokslininkų grupės darbas "Mikromontuojamų talpinių keitiklių sandaros optimizavimas" (2003-2005 m.) Kartu su KTU Panevėžio Institutu
    Kuriama mikromontuojamų talpinių ultragarso keitiklių, skirtų darbui ultragarsiniuose debitomačiuose sandara, optimali keitiklio techninių savybių bei keitiklio pagaminimo savikainos prasme.
2002 m.
  • LVMSF kompleksinis mokslo tyrimo darbas Nr. K-070 "Sunkiųjų metalų sorbcijos dirvožemyje fizikiniai cheminiai reiškiniai, jų poveikis mikroorganizmų ir fermentų aktyvumo kaitai bei priemonių dirvožemio remediacijai paieška". (2002-2004 m.) (Kartu su LŽUU).
    Tiriama sunkiųjų metalų sorbcija dirvožemyje.

Analitinė įranga

Mišiniai, fazės, struktūros
Rentgeno spindulių difrakcija
Rentgeno spindulių difraktometras „D8 Discover” (Bruker AXS, Vokietija) leidžia atlikti plonų dangų, epitaksinių sluoksnių, daugiasluoksnių darinių, sintezuotų medžiagų ar nanomiltelių formoje, kristalinės struktūros analizę. Šiuo difraktometru, taip pat galima nustatyti kristalinių ir amorfinių plėvelių storį, atlikti polikristalinių medžiagų tekstūros bei plonų dangų liekamųjų įtempių analizę. Specifikacija: 2,2 kW rentgeno spindulių vamzdis su Cu anodu; lygiagrečių spindulių pluoštelio/Bragg-Brentano geometrija; 2xGe(022) kristalų monochromatorius; Giobelio veidrodis (didelio tikslumo daugiasluoksnių kristalų monochromatorius tiesioginei Cu Kα spinduliuotei), rotorinis absorberis, taškinis scintiliacinis detektorius; 1D LynxEye detektorius, naudojantis silicio kompozicinių juostelių technologiją; lazerinė kalibravimo optika; Eulerinis (X, Y, Z, PSI, PHI) bandinių laikiklis; CHI ir XI automatizuotas pozicionavimo stalelis; reflektometrijos priedas; motorizuoto plyšio priedas; „PATHFINDER“ optika (motorizuotas perjungimas tarp aukštos skiriamosios gebos ir didelio intensyvumo rentgeno spindulių kelio). Duomenų apdorojimui ir interpretavimui naudojama „DIFFRAC.SUITE“ (Bruker AXS) paketo programinė įranga „EVA“, „LEPTOS“, „TOPAS“ ir „MULTEX“. Reikalavimai bandiniams: ≥ 100 mg miltelių arba ≥ 10 mm × 10 mm pagrindas; dangos storis 5 – 1000 nm.
FTIR: Furje transformacijos infraraudonosios srities spektrometrija
Furje transformacijos infraraudonosios srities spektrometras VERTEX 70 Furjė transformacijos infraraudonųjų spindulių spektrometras, spektrų registravimo sritis 400-4000cm-1, skiriamoji geba - 1cm-1. Matavimo modos - pralaidumas, 30 laipsnių atspindys, difuzinis atspindys, visiškas vidaus atspindys (ATR)
Ultravioletinės/regimosios šviesos spektrometrija
Ultravioletinės, regimosios ir artimosios infraraudonųjų spindulių srities šviesolaidinis spektrometras AvaSpec-2048 Spektrometras sukurtas AvaBench-75 simetrinės Czerny-Turner konstrukcijos pagrindu su 2048 pikselių susietųjų krūvių detektorių gardele. Jis skirtas ultravioletinės, regimosios ir artimosios infraraudonųjų spindulių srities šviesos intensyvumui matuoti. AvaSpec-2048 ypač tinka tuomet, kai yra mažas apšviestumas ar reikalinga didelė skiriamoji geba. Šiuo spektrometru galima atlikti matavimus 172-1100 nm diapazone. Skiriamoji geba – 1,4 nm.
Ramano sklaidos spektrometrija
Ramano sklaidos spektrometras inVia (Renishaw).
Įrangos kompleksas skirtas Raman sklaidos spektrų registravimui su konfokaline mikro- Raman optine sistema bei liuminescencijos matavimams.
Naudojama plonų sluoksnių, miltelių ir vandeninių tirpalų tyrimui.
Be informacijos apie medžiagos struktūrą, Raman spektroskopija gali būti naudojama įtempių kai kurių tipų plonuose sluoksniuose įvertinimui. 532 nm bangos ilgio, 45 mW galios puslaidininkinis žadinantis lazeris, 2400 linijų/mm gardelė, termoelektriškai šaldoma 1024 taškų CCD, Stokso linijų matavimo diapazonas nuo 100 cm-1 iki 8000 cm-1, skiriamoji geba - geriau nei 1 cm-1.

 
Konfokalinis Leica mikroskopas su 3 objektyvais x20, x50 ir x100. Pateikta 8000 spektrų biblioteka
Cheminė sudėtis
Universali rentgeno fotoelektronų ir jonų sklaidos spektroskopija
Rentgeno fotoelektronų ir atspindėtų jonų spektroskopijos sistema, ESCALAB 250 (Thermo Fisher).
Paviršiaus tyrimas taikant: Rentgeno fotoelektronų spektroskopija (XPS); jonų sklaidos spektroskopija (ISS); atspindėtų elektronų prarastos energijos spektroskopija (REELS); UV fotoelektronų spindulių spektroskopija (UPS). Monochromatinis Rentgeno spindulių šaltinis: Al anodas, Ar jonų šaltinis jonų sklaidos spektroskopijai, atspindėtų elektronų prarastos energijos spektroskopija; ne blogesnė kaip 0.45 eV skiriamoji geba matuojant Ag 3d5/2 ties pusės energijos maksimumo (FWHM); atvaizdavimo skiriamoji geba ne blogiau kaip ≤ 3 µm; dvigubas krūvio neutralizavimas; UV spindulių fotoelektronų spektroskopijos sistema; bandinio kaitinimas iki 1000 K ir aušinimas iki 77 K; bandinių transportavimas vakuume, vakuumas ne mažiau 5*10-10 Torr.
Rentgeno spindulių energijos dispersijos spektrometrija
Bruker firmos rentgeno spindulių energijos dispersijos spektrometras XFlash 4030,
Spektrometras leidžia kiekybiškai ir kokybiškai įvertinti bandinio sudėtį detektuojant cheminius elementus nuo Boro5 iki Americio95pasirinktame taške (1 mm3 tūryje) arba bandinio plote nustatyti paviršiaus atskirų cheminių elementų pasiskirstymo žemėlapį.
Modernus 30 cm2 ploto Peltje elementais šaldomas rentgeno spindulių silicio slinkties spektrometro detektorius užtikrina 133 eV (ties Mn Ka linija) energijos skiriamąja gebą esant dideliam rentgeno fotonų detektavimo greičiui (100.000 impulsų per sekundę).
Atominės absorbcijos spektrometrija
Atominės absorbcinis spektrometras Perkin Elmer Model 403
Tai paprastas dviejų spindulių spektrometras, naudojantis liepsnos metodą. Juo galima analizuoti apie 20 elementų (Fe, Cu, Zn, Ni, Pb, Mn, Cd, Ga, Sn, Co, Pd, Pt, Au, Ag, Rh). Atominė absorbcija - tai paprastas analitinis metodas, ypatingai naudingas, kai reikia greit nustatyti mažus elementų kiekius.
Šis kiekybinis analitinis metodas naudojamas daugelyje sričių, o ypač vandens, dirvožemių ir akmens mėginių analizei. Dėl savo paprastumo, greitumo bei tikslumo šis analizės metodas yra vienas iš dažniausiai naudojamų metalų pėdsakų nustatymui. Metodo jautrumas apie 0.05-0.1 ppm. Taikymo sritys: ekologija, medžiagų inžinerija, medicina
Prietaisų, sandūrų ir medžiagų elektrinės, mechaninės ir terminės savybės
Pikoampermetras/įtampos šaltinis
Pikoampermetras KEITHLEY 6487 voltamperinių charakteristikų matavimas, elektroninių, mikroelektroninių ir optoelektroninių prietaisų elektrinių charakteristikų tyrimas. Įtampa +/- 500V, srovė 100 fA - 20 mA
Mechaninių paviršių šiurkštumo matuoklis
Paviršiaus šiurkštumo matuoklis TR200 Skirtas paviršiaus šiurkštumo matavimui. • Matavimo ribos: 1.Ra: 0.03μm~6.3μm/1μ~250μ. 2.Rz: 0.2μm~50.0μm/8μ~999μ. 3.Ry/R max: 0.2μm~25μm/8μ~999μ. • Skiramoji geba 0.01μm/1μ. • Matavimo atkarpa 0.8mm/0.30”; ANSI 2RC Filter
Rokvelo kietumo matavimo prietaisas
Rokvelo kietumo matavimo prietaisas Makrokietumo matavimas Apkrovos 15,30,45 kgf
Dinaminio mikrokietumo matavimo sistema
Dinaminio mikrokietumo matavimo sistema su pagrindu HM 2000S Plonų sluoksnių ir dangų mikromechaninių savybių tyrimas Galimos apkrovos matavimo metuo 0.1 – 2000 mN
Impendanso analizatorius ir Aukštatemperatūrinė vertikali krosnis
Impendanso analizatorius ALPHA-AK ir jo priedai; Aukštatemperatūrinė vertikali krosnis TF/IC-1000, 10427 (NorECs). Skirtas dielektrinių medžiagų, plonų plėvelių elektrinių savybių tyrimui, kuro elementų komponentų testavimui įvairiose temperatūrose. Dažnis nuo 3 µHz iki 3 MHz. 2-3 elektrodų sistema. Fazė: 0,001 °. Bandinių diametras 16 mm. Dvi "in-plane" ir "through-plane" matavimo konfigūracijos. Maksimali kaitinimo temperatūra iki 1200 °C (tikslumas 0,1 °C).
Saulės spektro simuliatorius
Saulės spektro simuliatorius SF150B (Sciencetech Inc. (SCI), Kanada).
Šviesos šaltinis, imituojantis saulės spektrą bandinių fotovoltinių charakteristikų matavimuose. Apšvietimo galia 1 Sun AM1.5G Klasė A Apšvietimo netolygumas spindulyje <2% Bandinio spindulio skersmuo 25 mm
Vilgumo kampo matuoklis
Vilgumo kampo matuoklis Kruss, Drop Shape Analysis System DSA25 Matavimo ribos 1-180º, paviršiaus įtempimas 0,01-1000 mN/m, matavimo tikslumas 0,1º; 0,01nM/m. Bandinio dydis 320x∞x165 mm (ilgisxplotisxaukštis)
Mikroskopija
AJM Skenuojančio zondo mikroskopija
Vilgumo kampo matuoklis Kruss, Drop Shape Analysis System DSA25 Matavimo ribos 1-180º, paviršiaus įtempimas 0,01-1000 mN/m, matavimo tikslumas 0,1º; 0,01nM/m. Bandinio dydis 320x∞x165 mm (ilgisxplotisxaukštis) Skenuojančio zondo mikroskopijos sistema NanoWizard®3 NanoScience su reikiamais priedais (JPK instruments AG, Vokietija). Skirta paviršių topografijos matavimams bei mechaninių, elektrinių ir magnetinių savybių nustatymui ore ir skysčiuose. Tinkama kietų kūnų, polimerų, biologinių bandinių ir molekulių charakterizavimui, nanomanipuliacijai bei nanolitografijai. Darbo režimai: kontaktinis, trūkaus kontakto, bekontaktinis; Lateralinių jėgų mikroskopija; Fazinio vaizdo registravimas; Jėgos moduliacijos jėgos pasiskirstymo (jėgos žemėlapio); Kiekybinis vaizdinimas: paviršiaus atvaizdai jėgos kreivių pagrindu; Magnetinių jėgų mikroskopija; Jėgos-atstumo spektroskopija; jėgos-atstumo tūrinio vaizdinimo režimas; Nanolitografija ir Nanomanipuliacija; Laidumo mikroskopija su I/V kreivių registravimu; Kelvino zondo mikroskopija (KPM); talpuminė mikroskopija. Skenavimo laukas 100x100 µm; aukštis iki 15 µm Iki 100 mm diametro ir 50 mm aukščio bandiniai
Skenuojantis elektroninis mikroskopas
Skenuojantis elektroninis mikroskopas FEI Quanta 200 FEG su Rentgeno spindulių energijos dispersijos spektrometru Bruker XFlash 4030 Skenuojantis elektroninis mikroskopas Quanta 200 FEG, yra vienas iš pagrindinių nano technologijų įrankių, t.y. nano struktūrų ir nano prietaisų, paviršiaus vaizdinimo priemonė. Jame naudojamas modernus lauko emisijos elektronų šaltinis leidžiantis dirbti kontroliuojamo slėgio vandens garų atmosferoje, todėl šiuo mikroskopu galima tirti elektriškai nelaidžius objektus su aukšta 1,2 nm skiriamąja geba (skiriamoji geba – minimalus registruojamas matmuo). Skiriamoji geba aukštame vakuume iki 1.2 nm (30 kV, SE), iki 2.5 nm 30 kV (BSE), 3 nm (1 kV, SE). Trys darbiniai vakuumo režimai: Aukštas vakuumas (<6e-4 Pa) žemas vakuumas (10-130 Pa), dar žemesnis vakuumas (10-4000 Pa) Galima tirti laidžius ir nelaidžius mėginius.
Optinis mikroskopas su fluorescencijos priedu
Optinis mikroskopas su fluorescencijos priedu OPTIKA Įvairių medžiagų paviršiaus tyrimas ir mikrometriniai matavimai, fluorescencijos tyrimai. Plataus lauko okuliarai su mikrometrine skale, skaitmeninė vaizdo kamera, fluorescencijos priedas Didinimas x1500 Bandiniai iki 100 mm skersmens ir 50 mm aukščio
Optinis mikroskopas (analizatorius)
Optinis analizatorius Nikon S Optinis analizatorius Nikon (modelis S) naudojamas optiškai skaidrių struktūrų dydžio matavimams automatiniu režimu (matavimo neapibrėžtis 0.1+L/500 µm, čia L - matuojamos struktūros ilgis). Optinio analizatoriaus didinimas - 1200. 800 kartų didinantis optinis analizatorius - komparatorius Nikon (modelis N2) naudojamas struktūrų dydžio matavimams pralaidumo arba atspindžio režimu. Šis analizatorius - komparatorius ypatingai naudingas matuojant plokštuminės topologijos žingsnio paklaidą. Analizatorių taikymo sritys: foto kaukės kontrolė, žingsnio paklaida, puslaidininkio lustų kontrolė.
Optinės savybės
Spektroskopinis elipsometras
Spektroskopinis elipsometras GES-5 (Semilab). Prietaisas tinkamas ir skirtas Plonų, izotropiškų ir anizotropiškų, skaidrių ir neskaidrių sluoksnių ant izotropiškų ir anizotropiškų, skaidrių ir neskaidrių pagrindų, optinių konstantų (k(λ), n(λ)) ir storio matavimai; periodinių struktūrų linijinių matmenų nustatymas (skaterometrija, angl. scatterometry); absorbcijos kinetikos tirpaluose matavimai. Spektroskopinis elipsometras perdengiantis UV-VIS-NIR spektrį diapazoną. Matavimo kampai 12-90 deg su 0.01 deg skyra, galimybė matuopti fokusuotu pluoštu (70x150 um). Aukštos skiriamosios gebos detektorius UV-VIS 190-900 nm su 0.5 nm skyra, greitas UV-VIS detektorius 190-900 nm 1024 bangų ilgiai, didelės skiriamosios gebos NIR detektorius 800-2000 nm su 3 nm skyra. Automatizuotas bandinio padėties valdymas su vaizdinimu skaitmenine kamera.
Lazerinis elipsometras
Lazerinis elipsometras Gaertner L-115 Lazerinis elipsometras
naudojamas plonų dielektrinių ir puslaidininkinių plėvelių storio ir lūžio rodiklio nustatymui.
Lazerinė elipsometrija pagrįsta nuo bandinio atspindėtos monochromatinės poliarizuotos šviesos poliarizacijos parametrų analize. Lazerio spindulio bangos ilgis - 632.8 nm.
Plėvelių storis 0.001 - 1 µm. Storio matavimų neapibrėžtis - ±(0.5 - 1) nm. Lūžio rodiklio matavimo neapibrėžtis ±0.01.
Taikymo sritys: plonų polimerinių, dielektrinių ir puslaidininkinių plėvelių, pusiau skaidrių (<50 nm) metalo plėvelių storio ir lūžio rodiklio matavimas.

Technologinė įranga

Litografijos procesai
Elektroninės litografijos ir elektroninės mikroskopijos įrenginys
Elektroninės nanolitografijos, elektroninės mikroskopijos ir paviršiaus analizės sistema e-LiNE plus
(Raith, Vokietija).
Skirta nanolitografijai ir nanostruktūrų formavimui bei medžiagų paviršiaus ir sudėties tyrimams. elektronų pluoštelio energija keičiama intervale nuo 20 V iki 30 kV 1 nm pozicionavimo tikslumas 100x100 mm lauke apvalaus bandinio skersmuo iki 100 mm (4“), stačiakampio bandinio dydis iki 102x102 mm skenuojantis elektroninis mikroskopas su “in-lens” ir Everhart-Thornley tipo detektoriais, didinimas iki x1.000.000 energijos dispersijos spektrometras Bruker QUANTAX 200 su 5 kartos silicio detektoriumi, energijos skyra <129eV, detektuoja elementus nuo Be (Z=4) iki Am (95)
Sutapdinimo ir eksponavimo įrenginys su nanoįspaudimo litografijos priedu
Sutapdinimo ir eksponavimo įrenginys OAI Model 204 Precizinis tapdinimas su fotokauke, plonų fotorezisto sluoksnių eksponavimas ultravioletiniais spinduliais. Tinka apvaliems padėklams, kurių skersmuo 50, 76, 102 mm ir nestandartiniams bandiniams, ne mažesniems, kaip 5x5 mm padėklo storis iki 1 mm fotokaukės storis iki 4,8 mm atstumas tarp padėklo ir fotokaukės reguliuojamas iki 50 µm ultravioletinės šviesos bangos ilgio diapazonai: UV400: 350-450 nm; UV300: 280-350 nm; UV250: 240-260 nm (gilus ultravioletinis spinduliavimas) UV nanoįspaudimo litografijos priedas dvipusio tapdinimo infraraudonaisiais spinduliais priedas eksponavimo šaltinio galia 500 W apšvietimo vienodumo nuokrypis ne didesnis, kaip 3% skiriamoji geba ne blogesnė, kaip 0,5 µm minkštas vakuuminis kontaktas kietas kontaktas (su pneumatiniu slėgiu) tapdinimo tikslumas ne blogesnis, kaip 0,5 µm
Sluoksnių formavimas/modifikavimas
Vakuuminio garinimo įrenginiai
Vakuuminio garinimo įrenginys CUBIVAP
Įrenginys skirtas metalinių ir dielektrinių dangų formavimui. Orientuotas į optinių interferencinių filtrų ir Fabri – Pero optinių filtrų gamybą.
Optinė sistema su skenuojančiu monochromatoriumi suteikia galimybę kontroliuoti formuojamų dielektrinių dangų optinį storį. Tuo pat metu storis matuojamas ir kvarciniu storio matuokliu. Įrenginio parametrai
Dvi 15 kW galingumo elektronų patrankos Du 4 kW galingumo rezistyviniai garintuvai Padėklų temperatūra: 20 – 400oC Vakuumas kameroje: 10-3 Pa Vakuuminio garinimo įrenginys A7000E Skirtas metalinių ir dielektrinių dangų formavimui.
Formuojamų dangų storis kontroliuojamas mikroprocesoriumi ir kvarciniu storio matuokliu. Įrenginio parametrai: Vakuumas kameroje: 10-4 – 10-5 Pa Dvi 6 kW galingumo elektronų patrankos su keturių padėčių persukamais tigliais Padėklų temperatūra: 20 – 400oC
Epitaksinių GaAs sluoksnių auginimo sistema
Epitaksinų GaAs sluoksnių auginimo sistema KRATOS
Epitaksinių GaAs sluoksnių auginimas,auginamų sluoksnių kontrolė.
Epitaksiniams GaAs sluoksniams auginti skirtos 8 kaitinimo talpos, kompiteriu valdomos 8 sklendės, bandinių transportavimas vakuume, vakuumas ne mažiau 1*10-10 Torr
Langmuir-Blodgett vonelė
Langmuir-Blodgett vonelė Įrenginys skirtas (Π-A)
izotermių gavimui ir mono- bei daugiamolekulinių organinių struktūrų formavimui ant kietų paviršių Langmuir-Blodgett (LB) metodu.
Įrenginį sudaro LB vonelė, elektroninis valdymo blokas ir asmeninis kompiuteris su operacine sistema Windows 98/2000/XP valdymo programai paleisti.
Vonelės parametrai:
Laisvojo paviršiaus plotas – 400 cm2 Darbinis paviršius – 318 cm2 Skysčio tūris – 1000-1050 cm3
Paviršinio slėgio matuoklis – Wilhelmi plokštelė (paklaida 0,1 mN/m) Šulinio matmenys: gylis – 75 mm, skersmuo – 60 mm.
Galvanoplastinis įrenginys
Ni dangos formavimas ant plastiko paviršiaus Elektrolizės vonios talpa 65 litrai.
Elektrolitas – nikeliavimo sulfamatinis su specialiaisiais priedais (blizgodariu, dangos kietikliu).
Reikiama elektrolito temperatūra vonioje palaikoma elektroniniu būdu valdomu kaitinimo elementu.
Elektrolitas maišomas mechanine maišykle bei cirkuliaciniu siurbliu pumpuojant jį pro tekstilinį filtrą.
Anodas – titano krepšys, užpildytas elektrolizės metu tirpstančiomis Ni+0,1%NiS granulėmis.
Elektros srovė tiekiama iš keičiamo srovės stiprio elektros lygintuvo (Imax =0 ÷30 A).
Elektrolizės metu pratekėjusios elektros kiekis (A/h) matuojamas specialiu skaitikliu.
Ni sluoksniu dengiamo paviršiaus plotas iki 500 cm2.
Centrifuga plonų sluoksnių formavimui
Centrifuga plonų sluoksnių formavimui KW-4A su priediais Centrifuga, kaitlentė ir UV lempa plonų sluoksnių formavimui.
Centrifugoje galima nustatyti dvi skirtingos trukmės (2-18 s ir 3-60 s) ir sukimo greičio (500-2500 rpm; 1000-8000rpm) procesus.
Kaitlentės temperatūra 30-300 deg C, banginio dydis iki 6 inch, temperatūros skiriamoji geba 0.1 deg C. UV lempa 4 x 6 W lempos, bangos ilgiais 246 nm, 365 nm, sukamaps bandinys ( 4 inch, 6 rpm)
Deimanto tipo anglies dangų auginimo jonpluoštės sintezės būdu sistema
Joninio DTAD nusodinimo įrenginys URM 3.279.053 Įrenginys skirtas joniniu būdu auginti deimanto tipo anglies dangas (DTAD) iš angliavandenilių ir legiravimo medžiagų. Įrenginio parametrai:
Ribinis vakuumas kameroje: 4·10-4 Pa DTAD
nusodinimo slėgis: (1-2)·10-2 Pa
Jonų šaltinio greitinanti įtampa: iki 2 kV
Jonų srovės tankis: 0,05 – 0,25 mA/cm2
Solenoido srovė: 6A
Naudojamos dujos: gali būti naudojamos inertiškos bei reaguojančios dujos.
 
Mikrobange plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės sistema
Mikrobange plazma aktyvuoto cheminio nusodinimo iš garų fazės sistema CYRANNUS I-6“
(IPLAS Innovative Plasma Systems GmbH).
Kristalinio deimanto, anglies nanovamzdelių, grafeno auginimas.
Plazmos šaltinio skersmuo 6" plazmos šaltinio galia 6 kW plazmos dažnis 2.45 GHz tolygaus nusodinimo srities skersmuo 5 cm
Reaktyviojo ėsdinimo ir plazmocheminio auginimo įrenginys
Plazmocheminio nusodinimo įrenginys PK-2430PD
Įrenginys skirtas plazmocheminiam dielektrinių SiN plėvelių nusodinimui iš monosilino ir amoniako dujų bei ėsdinimui (SiO2, Si3N4plėvelių).
Įrenginio parametrai:
Ribinis vakuumas kameroje: 1,3 Pa
Technologinis slėgis kameroje: 13,3-1330 Pa
AD generatoriaus galia: 0-3 kW Dažnis: 13,56 MHz
Padėklo temperatūra: 20-350˚C
Naudojamos dujos: SiH4, NH3, N2, CF4, O2, CHF3, Ar.
Indukcine plazma aktyvuoto reaktyviojo joninio ėsdinimo įrenginys
Indukcine plazma aktyvuoto giliojo reaktyviojo joninio ėsdinimo įrenginys Vision LL-ICP
(Plasma-Therm).
Gilusis reaktyvusis joninis ėsdinimas, skirtas tūrinio mikroformavimo procesams ir nanodarinių formavimui.
Tolygaus ėsdinimo srities skersmuo 15 cm
Joninio ėsdinimo įrenginys
Joninio ėsdinimo įrenginys „USI-IONIC“
Įrenginys skirtas puslaidininkinių, metalinių mikrostruktūrų ėsdinimui jonų pluoštu.
Įrenginio parametrai:
Ribinis vakuumas kameroje: 5·10-4 Pa
Technologinis slėgis kameroje: 7·10-2 – 4·10-1 Pa
Jonų pluoštelio energija: 0 – 500 keV
Jonų srovės tankis: 0,01 – 0,30 mA/cm2
Naudojamos dujos: Ar, N2, O2, He, C3F8.
Mikrodalelių kapiliarinio nusodinimo stendas
Kapiliarinis mikro/nano dalelių nusodinimo įrenginys Mikro ir nanodalelių iš koloidinio tirpalo tvarkingas užnešimas ant trafareto naudojantis kapiliarinėmis jėgomis. Proceso vaizdinimas optiniu mikroskopu su tamsaus lauko interferencinio kontrasto funkcija.
Dviejų komponentų dozatorius
Dviejų komponentų dozatorius Dopag Micro Mix E. Gali maišyti tik tai kas įpilta dabar - PDMS elastomerą ir kietiklį santykiu 1:10. Mažiausias maišomas kiekis 1 ml. Naudojamos vienkartinės statinės maišykles.
Orbitine maišyklė
Orbitine maišyklė Thinky Centrifuge Mixer ARE 250 maišo iki 250 ml klampaus skysčio (skirta PDMS maišymui).
Lazerinės technologijos
Lazeris UV
Lazeris UV Holografinė litografija, mikroapdirbimas. 375 nm bangos ilgio 15 mW galios lazeris.
Rinkinys optinių traktų, skirtų automatizuotai LIoyd`o veidrodžio holografinei sistemai
Lloyd’o veidrodžio holografinės litografijos sistema (Standa) Holografinė litografija, mikroapdirbimas. Galima formuoti 188-323 nm periodo struktūras (interferencijos kampas 80-35º, atitinkamai).
Universali optinės spektroskopijos ir lazerinio mikrofabrikavimo sistema
Lazerinės gamybos ir kinetinės spektroskopijos sistema FemtoLab (R&D Altechna).
Medžiagų mikro-/nano-/fabrikavimas fokusuotu lazerio pluoštu ir absorbcijos kinetikos matavimas.
Yb:KGW lazerio bangos ilgis 1030 nm, galia 4W, impulso trukmė 290 fs, energija > 0.2 mJ.
Fabrikavimui galima naudoti sufokusuotą pirmos (1030 nm), antros (515 nm) ir trecios (343 nm) harmoniką bei antros harmonikos valdomo periodo (0.8-1.3 um) interferenciniu lauku.
Mikrofabrikavimas 160mm x 160 mm plote su 300 nm pozicionavimo tikslumu.
Stalų judėjimo greitis 300 mm/s, bandinio svoris iki 3 kg.
Spektroskopinės sistemos žadinamo bangis ilgio derinima diapazonas 315-2600 nm, zonduojanžio pluošto spektirnis plotis 480-1100 nm, laikinė skyra 16.67 fs, didžiausias impulsų užlaikymas 1.8 ns, absorbcijos pokyčių detektavimo riba 0,5 mOD
Taškų hologramos originalo formavimo įrenginys
Taškų hologramos originalo formavimo įrenginys „HENGLEI Hologram“
Taškų hologramų originalų formavimas fotorezisto sluoksnyje. Lazerio spindulio bangos ilgis - 405 nm.
Formuojamų taškinių hologramų matmenys: 200*200 mm.
Pasirenkama skyra: 317; 600, 1200 dpi
Optiškai kintančių apsaugos ženklų formavimas
Optinių apsaugos ženklų tiražavimo įrenginys
Mikrospaudų formavimo mašina MSM-1
Įrenginys skirtas hologramų ir difrakcinių optinių elementų įspaudimui į daugiasluoksnę polimerinę plėvelę
Papildomos funkcijos: - adhezinių sluoksnių formavimas ant polimerinės plėvelės arba silikonizuoto popieriaus juostos, - iškirtimas.
Hologramų tiražavimo įrenginys
Hologramų tiražavimo įrenginys
Gaminti optines dokumentų ir intelektualinės nuosavybės apsaugos priemones su mikrodifrakciniais elementais.
Optinių apsaugos ženklų tiražavimas daugiasluoksnėje polimerinėje plėvelėje (juostoje).
Formavimo temperatūra 50C0 iki 180C0, juostos plotis 160mm, ilgis 1000m, juostos storis 16 ÷ 100 µm, tiražavimo greitis 0 ÷ 10 m/min
Hologramų antrinimo įrenginys
Hologramų antrinimo įrenginys
Mikroreljefo antrinimas plastiko paviršiuje.
Submikrometrinių (nanometrinių) matmenų reljefo formavimas plastiko paviršiuje.
Formavimo temperatūra 20C0 iki 200C0, slėgis nuo 0 iki 900 KPa, plotas 200x200mm