D. Virganavičiaus daktaro disertacijos „Tvarkių dvimačių nanometrinių matmenų struktūrų formavimas ir tyrimai“ gynimas

Autorius, institucija: Dainius Virganavičius, Kauno technologijos universitetas

Mokslo sritis, kryptis: technologijos mokslai, medžiagų inžinerija – 08T

Mokslinis vadovas – prof. habil. dr. Sigitas TAMULEVIČIUS (Kauno technologijos universitetas, technologijos mokslai, medžiagų inžinerija – 08T).

Medžiagų inžinerijos mokslo krypties disertacijos gynimo taryba:

prof. habil. dr. Arvaidas Galdikas (Kauno technologijos universitetas, technologijos mokslai, medžiagų inžinerija – 08T) – pirmininkas,
doc. dr. Mindaugas Andrulevičius (Kauno technologijos universitetas, technologijos mokslai, medžiagų inžinerija – 08T),
prof. habil. dr. Juozas Vidas Gražulevičius (Kauno technologijos universitetas, technologijos mokslai, medžiagų inžinerija – 08T),
dr. Juris Prikulis (Latvijos universitetas, technologijos mokslai, medžiagų inžinerija – 08T),
doc. dr. Arūnas Šetkus (Fizinių ir technologijos mokslų centras, fiziniai mokslai, fizika – 02P).

Su disertacija galima susipažinti Kauno technologijos universiteto bibliotekoje  (K. Donelaičio g. 20, Kaunas).

Anotacija:

Pasiekus nanometrų eilės dimensijas medžiagos savybės priklauso ne tik nuo jos cheminės sudėties bet ir nuo struktūros. Galimybė formuoti tvarkias nanometrinių matmenų struktūras ant paviršiaus,  leidžia kurti medžiagas pasižyminčias unikalioms savybėmis ir pageidaujamu atsaku į tam tikrą poveikį. Šiame darbe siekiama išvystyti ir ištobulinti inovatyvius formavimo metodus, pasitelkiant tiek iš viršaus į apačią (angl. top-down) tiek iš apačios į viršų (angl. bottom-up) strategijas, ir juos pritaikyti struktūrizuojant plonas dangas bei formuojant tvarkius nanodalelių masyvus. Darbas susideda iš dviejų dalių. Pirmoji dalis nagrinėja deimanto tipo anglies dangų (DTAD) ir deimanto tipo anglies dangų, legiruotų sidabro nanodalelėmis (DATD:Ag), apdirbimą ir struktūrizavimą. DTAD – tai amorfinės struktūros medžiaga, pasižyminti deimantui būdingomis savybėmis. Šiame darbe buvo siekiama sukurti naują, inovatyvų metodą, paremtą įspaudžiamos kietos kaukės panaudojimu nanoįspaudimo litografijos procese kartu taikant reaktyvųjį joninį ėsdinimą, kuris leistų tiesiogiai ir efektyviai struktūrizuoti DTAD ir DTAD:Ag. Sukurtas procesas buvo sėkmingai panaudotas gaminant didelio jautrumo optinio lūžio rodiklio jutiklius. Kita dalis nagrinėja tvarkaus nanodalelių išdėstymo, paremto kapiliarinių jėgų poveikiu, procesą. Buvo sukurtas ir ištestuotas originalios konstrukcijos prietaisas leidžiantis kontroliuoti ir realiu laiku stebėti dalelių užnešimo procesą. Buvo įvertinta ir kiekybiškai apibūdinta atskirų parametrų įtaką užnešimo proceso efektyvumui, analizuotos galimybės naudoti tokias dalelių kompozicijas optiniams saugos ženklams gaminti.